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금속패턴어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015113597
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속패턴어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 표면 플라스몬 공명(surface plasmon resonance)을 이용한 전자기파의 증폭으로 테라헤르쯔 생성 출력과 측정 감도를 높일 수 있는 금속패턴어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 및 이의 제조방법을 제공하는데 있다.이를 위해 본 발명에 따른 금속패턴어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나는 안테나 기판과, 상기 안테나 기판의 구동전극면에 적어도 하나 이상의 패턴이 연속적으로 배열되어 패터닝된 800㎚보다 작은 크기의 극미세 금속패턴어레이 및 상기 안테나 기판의 구동전극면에 구비되는 구동전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.표면 플라스몬 공명, 금속패턴어레이, 테라헤르쯔파, 펨토초 레이저, 패터닝
Int. CL G01N 21/68 (2006.01) G01J 3/00 (2006.01)
CPC G01N 21/68(2013.01) G01N 21/68(2013.01) G01N 21/68(2013.01) G01N 21/68(2013.01)
출원번호/일자 1020090046469 (2009.05.27)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1117211-0000 (2012.02.09)
공개번호/일자 10-2010-0128042 (2010.12.07) 문서열기
공고번호/일자 (20120305) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.05.27)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 최용제 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2009-0319473-88
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2010-0041761-59
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.12.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.01.14 수리 (Accepted) 9-1-2011-0002137-18
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0196740-72
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0434436-77
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2011-0434435-21
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2011.11.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0641453-90
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.11.15 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-0900722-84
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.11.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0900721-38
11 등록결정서
Decision to grant
2012.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0022722-15
12 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)
2012.01.26 수리 (Accepted) 2-1-2012-0042756-57
13 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)
2012.02.09 수리 (Accepted) 2-1-2012-0072841-88
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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표면 플라스몬 공명(surface plasmon resonance)을 이용한 전자기파의 증폭에 의해 테라헤르쯔 생성출력과 측정감도를 향상시키는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나에 있어서, 안테나 기판과, 상기 안테나 기판의 구동전극면에 적어도 하나 이상의 패턴이 연속적으로 배열되어 패터닝된 800㎚보다 작은 크기의 극미세 금속패턴 어레이 및상기 안테나 기판의 구동전극면에 구비되는 구동전극을 포함하고, 상기 패턴은 삼각 형상, 사각 형상, 육각 형상, 마름모 형상을 포함하는 다각 형상 또는 ''C''자 형상을 가지도록 형성되어, 얻고자 하는 광전도 안테나의 주파수 특성의 조절을 위해 펨토초 레이저의 파장 영역대 이상의 다양성을 가질 수 있는 동시에, 광전도 안테나 상에서의 위치에 따라 다양한 형상을 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나
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표면 플라스몬 공명을 이용한 전자기파의 증폭에 의해 테라헤르쯔 생성출력과 측정감도를 향상시키는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나에 있어서, 안테나 기판과, 상기 안테나 기판의 구동전극면에 구비되는 구동전극 및 상기 안테나 기판의 구동전극면의 반대 면에 적어도 하나 이상의 패턴이 연속적으로 배열되어 패터닝된 테라헤르쯔파의 파장보다 작은 크기의 미세 금속패턴 어레이를 포함하고, 상기 패턴은, 삼각 형상, 사각 형상, 육각 형상, 마름모 형상을 포함하는 다각 형상 또는 ''C''자 형상을 가지도록 형성되어, 얻고자 하는 광전도 안테나의 주파수 특성의 조절을 위해 테라헤르쯔파의 파장 영역대의 다양성을 가질 수 있는 동시에, 광전도 안테나 상에서의 위치에 따라 다양한 형상을 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나
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표면 플라스몬 공명을 이용한 전자기파의 증폭에 의해 테라헤르쯔 생성출력과 측정감도를 향상시키는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나에 있어서, 안테나 기판과, 상기 안테나 기판의 구동전극면에 적어도 하나 이상의 패턴이 연속적으로 배열되어 패터닝된 800㎚보다 작은 크기의 극미세 금속패턴 어레이와, 상기 안테나 기판의 구동전극면에 구비되는 구동전극 및 상기 안테나 기판의 구동전극면의 반대 면에 적어도 하나 이상의 패턴이 연속적으로 배열되어 패터닝된 테라헤르쯔파의 파장보다 작은 크기의 미세 금속패턴 어레이를 포함하고, 상기 구동전극면에 배열된 상기 극미세 금속패턴 어레이 및 상기 구동전극면의 반대 면에 배열된 상기 미세 금속패턴 어레이는, 삼각 형상, 사각 형상, 육각 형상, 마름모 형상을 포함하는 다각 형상 또는 ''C''자 형상을 가지도록 형성됨으로써, 얻고자 하는 광전도 안테나의 주파수 특성의 조절을 위해 펨토초 레이저의 파장 영역대 이상의 다양성 및 테라헤르쯔파의 파장 영역대의 다양성을 각각 가질 수 있는 동시에, 광전도 안테나 상에서의 위치에 따라 다양한 형상을 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나
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삭제
6 6
청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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표면 플라스몬 공명을 이용한 전자기파의 증폭에 의해 테라헤르쯔 생성출력과 측정감도를 향상시키는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 제조방법에 있어서, 안테나 기판의 구동전극면에 적어도 하나 이상의 패턴을 연속적으로 배열하여 패터닝하되, 800㎚보다 작은 크기의 극미세 금속패턴 어레이를 형성하는 단계 및 상기 구동전극면에 구동전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 패턴은, 삼각 형상, 사각 형상, 육각 형상, 마름모 형상을 포함하는 다각 형상 또는 ''C''자 형상을 가지도록 형성되어, 얻고자 하는 광전도 안테나의 주파수 특성의 조절을 위해 펨토초 레이저의 파장 영역대 이상의 다양성을 가질 수 있는 동시에, 광전도 안테나 상에서의 위치에 따라 다양한 형상을 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 제조방법
10 10
제 9항에 있어서,상기 구동전극면의 반대 면에 적어도 하나 이상의 패턴을 연속적으로 배열하여 패터닝하되, 테라헤르쯔파의 파장보다 작은 크기의 미세 금속패턴어레이를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속패턴어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 제조방법
11 11
표면 플라스몬 공명을 이용한 전자기파의 증폭에 의해 테라헤르쯔 생성출력과 측정감도를 향상시키는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 제조방법에 있어서, 안테나 기판의 구동전극면에 적어도 하나 이상의 패턴을 연속적으로 배열하여 패터닝하되, 800㎚보다 작은 크기의 극미세 금속패턴 어레이를 형성하는 단계와, 상기 안테나 기판의 구동전극면에 구동전극을 형성하는 단계 및 상기 구동전극면의 반대 면에 적어도 하나 이상의 패턴을 연속적으로 배열하여 패터닝하되, 테라헤르쯔파의 파장보다 작은 크기의 미세 금속패턴 어레이를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 구동전극면에 배열된 상기 극미세 금속패턴 어레이 및 상기 구동전극면의 반대 면에 배열된 상기 미세 금속패턴 어레이는, 삼각 형상, 사각 형상, 육각 형상, 마름모 형상을 포함하는 다각 형상 또는 ''C''자 형상을 가지도록 형성됨으로써, 얻고자 하는 광전도 안테나의 주파수 특성의 조절을 위해 펨토초 레이저의 파장 영역대 이상의 다양성 및 테라헤르쯔파의 파장 영역대의 다양성을 각각 가질 수 있는 동시에, 광전도 안테나 상에서의 위치에 따라 다양한 형상을 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 금속패턴 어레이를 이용한 초고감도 테라헤르쯔 광전도 안테나 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 지식경제부, 교육과학기술부, 교육과학기술부 한국과학기술원, 한국과학기술원, 한국과학기술원 정보통신 산업원천기술개발사업, 원천기술개발사업, 기초연구사업 주파수빗 기술 기반 Terahertz/NIR 복합 고속 분광 내시경 개발, 나노포토닉스 기반 생체모사 인공곤충눈의 초소형 이미지시스템 적용에 관한 연구, 고분해능 3차원광간섭 생체영상을 위한 미세광주사방식 MEMS내시경카테터 개발