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플라즈마 발생 장치

  • 기술번호 : KST2015113765
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기, 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 진공 용기의 내부에 배치되고 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들, 및 진공 용기의 내부에 배치되고 전원 전극과 접지 전극 사이에 개재된 전극 유전체들을 포함하고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다.축전 결합 플라즈마, 다중 전원 전극, 다중 접지 전극, 할로우 케소드 방전
Int. CL H01J 37/32 (2006.01.01) H05H 1/46 (2006.01.01) H05H 1/46 (2006.01.01)
CPC H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01)
출원번호/일자 1020090107595 (2009.11.09)
출원인 한국과학기술원, 주성엔지니어링(주)
등록번호/일자 10-1197017-0000 (2012.10.29)
공개번호/일자 10-2011-0050969 (2011.05.17) 문서열기
공고번호/일자 (20121106) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.11.09)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주성엔지니어링(주) 대한민국 경기도 광주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전광역시 유성구
2 이헌수 대한민국 대전광역시 유성구
3 서상훈 대한민국 대전광역시 유성구
4 인정환 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
2 주성엔지니어링(주) 경기도 광주시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0686961-65
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2009.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0760803-85
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0167184-16
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.05.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0353078-02
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0353082-85
6 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2011.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0701402-68
7 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2011.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-5038358-64
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0067973-09
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.01.27 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2012-0067874-87
10 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2012.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0373822-15
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.06.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0376852-99
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.07.11 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0554530-87
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-0554542-24
14 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2012.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0440216-17
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.07.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5098149-30
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2019-5143725-93
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 용기;상기 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들;상기 진공 용기의 내부에 배치되고 상기 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들; 및상기 진공 용기의 내부에 배치되고 상기 전원 전극들과 상기 접지 전극들 사이에 개재된 전극 유전체들을 포함하고,상기 전원 전극들은 RF 전원에 연결되고,상기 전원 전극들은 복수의 위치에서 전력을 공급받는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 전원 전극들 및 상기 전극 유전체들 상에 배치되는 보조 절연체를 더 포함하고,상기 보조 절연체의 상부면은 상기 접지 전극들의 상부면과 동일한 높이를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
3 3
제 2 항에 있어서,상기 진공 용기는 상판을 포함하고,상기 상판과 상기 보조 절연체 사이에 개재되는 배선 프레임을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
제 3 항에 있어서,상기 배선 프레임은 내부에 배치된 배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 배선과 상기 배선 프레임 사이에 개재된 배선 절연체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
6 6
제 4 항에 있어서,상기 배선 프레임 내부로 연장되어 상기 배선을 감싸는 차폐부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
7 7
제 1 항 또는 제2 항에 있어서,상기 RF 전원은 제1 구동 주파수를 가지는 제1 RF전원; 및상기 제1 구동 주파수보다 작은 제2 구동 주파수를 가지는 제2 RF 전원을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
8 8
제 1 항에 있어서,상기 전원 전극들 및 상기 접지 전극들 중에서 적어도 하나는 트렌치부를 측면 또는 하부면에 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
9 9
제 1 항 또는 제2 항에 있어서,상기 전원 전극들 각각은 N 등분되고, N 등분된 영역의 중심에 복수의 위치에서 전력이 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
10 10
제 1 항에 있어서,상기 전원 전극들에 전력을 분배하는 배선을 더 포함하고,상기 전원 전극들의 전력을 공급받는 위치들에서의 전압의 위상은 동위상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
11 11
진공 용기;상기 진공 용기의 내부에 나란히 배치되는 적어도 한 쌍의 전극 구조체들; 상기 전극 구조체들에 대향하여 배치되는 기판 홀더들; 및상기 한 쌍의 전극 구조체들과 결합하는 지지 구조체를 포함하고,상기 전극 구조체는:복수의 접지 전극들;상기 접지 전극들 사이에 개재된 전원 전극들; 및상기 전원 전극들과 상기 접지 전극들 사이에 개재된 유전체들을 포함하고,상기 전원 전극들은 RF 전원에 연결되고,상기 전원 전극들 각각은 복수의 위치에서 전력을 공급받는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
12 12
제 11 항에 있어서,상기 지지 구조체는 상기 RF 전원의 전력을 상기 전원 전극들에게 공급하는 통로를 제공하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
13 13
제 11 항에 있어서,상기 접지 전극들 및 상기 전원 전극들 중에서 적어도 하나는 트렌치부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
14 14
제 11 항에 있어서,상기 전원 전극들 각각은 N 등분되고, N 등분된 영역의 중심에 복수의 위치에서 전력이 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
15 15
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.