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도파민 분자 및 0
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 전해질 용액은 1 내지 2 mg/mL의 도파민 분자를 포함하는 완충용액인 것을 특징으로 하는 폴리도파민 박막 코팅방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 전해질 용액은 pH 5
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 폴리도파민 박막을 코팅시키고자 하는 전극은 표면이 패터닝된 것을 특징으로 하는 폴리도파민 박막의 코팅방법
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6
제1항에 있어서, 상기 단계 2의 전기화학적 코팅은 3전극 시스템을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리도파민 박막 코팅방법
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7
청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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8
제6항에 있어서, 상기 3전극 시스템의 작동전극으로는 기준전극 대비 0
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9
도파민 분자를 포함하는 전해질 용액을 제조하는 단계(단계 a); 상기 단계 1에서 제조된 전해질 용액으로 폴리도파민 박막을 코팅시키고자 하는 전극을 침지시킨 후 상기 전극으로 폴리도파민 박막을 전기화학적으로 코팅시키는 단계(단계 b); 및상기 단계 b에서 전기화학적으로 폴리도파민 박막이 코팅된 전극을 1
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10
제9항에 있어서, 상기 단계 a의 전해질 용액은 1 내지 2 mg/mL의 도파민 분자를 포함하는 완충용액인 것을 특징으로 하는 폴리도파민 박막 코팅방법
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11
제9항에 있어서, 상기 단계 a의 전해질 용액은 pH 5
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12
제9항에 있어서, 상기 단계 b의 폴리도파민 박막을 코팅시키고자 하는 전극은 표면이 패터닝된 것을 특징으로 하는 폴리도파민 박막의 코팅방법
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13
제9항에 있어서, 상기 단계 b의 전기화학적 코팅은 3전극 시스템을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리도파민 박막 코팅방법
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14
청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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15
제13항에 있어서, 상기 3전극 시스템의 작동전극으로는 기준전극 대비 0
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16
삭제
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제9항에 있어서, 상기 단계 c의 염기성 완충용액은 pH 7
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제1항 또는 제9항의 코팅방법으로 폴리도파민 박막이 표면에 코팅된 전극
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19
청구항 19은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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