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플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015116007
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01.01) H05H 1/34 (2006.01.01)
CPC H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01) H05H 1/46(2013.01)
출원번호/일자 1020120115539 (2012.10.17)
출원인 한국과학기술원, 주성엔지니어링(주)
등록번호/일자 10-1765323-0000 (2017.07.31)
공개번호/일자 10-2012-0119903 (2012.10.31) 문서열기
공고번호/일자 (20170804) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2011-0032636 (2011.04.08)
관련 출원번호 1020110032636;1020170097290
심사청구여부/일자 Y (2016.03.18)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주성엔지니어링(주) 대한민국 경기도 광주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전 유성구
2 서상훈 대한민국 대전 유성구
3 이윤성 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주성엔지니어링(주) 대한민국 경기도 광주시
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2012.10.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-0845064-59
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.07.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5098149-30
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.03.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0260588-00
8 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2016.03.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0260770-14
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.01.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0007541-23
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.02.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0124719-73
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.02.07 수리 (Accepted) 1-1-2017-0124720-19
12 등록결정서
Decision to grant		 2017.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0316117-47
13 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2017.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0739682-29
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2019-5143725-93
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부;상기 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들;상기 접지 전극들 사이에서 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들; 및상기 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부; 를 포함하고,상기 접지 전극은 상기 접지 전극의 상부면 중심에 상기 제1 방향으로 연장되는 돌출부를 포함하고, 상기 공정 가스는 상기 노즐들을 통하여 상기 돌출부의 양 측면으로 공급되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
제1 항에 있어서,상기 가스 분배부는 일정한 간격으로 배치되고 상기 제1 방향으로 연장되는 스페이서들을 포함하고,상기 노즐들은 상기 스페이서를 관통하여 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
3 3
제1 항에 있어서,상기 가스 분배부는:상부 가스 분배판; 및상기 상부 가스 분배판의 하부에 배치되는 하부 가스 분배판;을 포함하고,상기 하부 가스 분배판은 상부 가스 분배판의 상부면에서 상기 제1 방향으로 연장되고 상기 노즐들과 연결되는 제1 트렌치를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
제3 항에 있어서,상기 상부 가스 분배판은:상기 상부 가스 분배판의 상부면에 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 연장되는 제2 트렌치; 및상기 제2 트렌치의 내부에 배치되고 상기 제1 트렌치와 정렬되는 가스 공급 관통홀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
5 5
제1 항에 있어서,상기 접지 전극과 상기 전원 전극 사이의 간격은 소정의 영역에 대하여 일정하도록 테이퍼진 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
6 6
제1 항에 있어서,상기 전원 전극들은 할로우 케소드 방전을 유발하도록 상기 접지 전극을 마주보는 면에 적어도 하나의 홀들을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
7 7
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8 8
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9 9
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10 10
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11 11
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103444269 CN 중국 FAMILY
2 KR101180373 KR 대한민국 FAMILY
3 KR101247103 KR 대한민국 FAMILY
4 KR101264913 KR 대한민국 FAMILY
5 KR101913377 KR 대한민국 FAMILY
6 KR1020130021437 KR 대한민국 FAMILY
7 US10553406 US 미국 FAMILY
8 US20140007812 US 미국 FAMILY
9 WO2012134199 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
10 WO2012134199 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 CN103444269 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103444269 CN 중국 DOCDBFAMILY
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