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미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015116697
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 패턴이 형성된 구조체를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고분자 몰드를 이용한 생산성이 향상된 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법은, (ㄱ) 표면에 패턴이 형성된 고분자 몰드를 제조하는 단계와, (ㄴ) 상기 고분자 몰드의 패턴 내에 유동성 재료를 도포하는 단계와, (ㄹ) 2차 구조체 지지 기판을 상기 고분자 몰드의 패턴 위에 배치하는 단계와, (ㅁ) 상기 유동성 재료를 경화시켜 상기 2차 구조체 지지 기판에 부착하는 단계와, (ㅂ) 상기 2차 구조체 지지 기판과 상기 고분자 몰드를 분리시켜, 상기 유동성 재료가 경화되면서 형성된 유동성 재료 경화구조체가 부착된 2차 구조체 지지 기판을 얻는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법은 기포 등에 의한 패턴 결함이 발생할 확률이 낮다는 장점이 있다. 따라서 구조의 미세화와 고밀도화에 유리하며 수율이 높다.
Int. CL B29C 59/02 (2006.01)
CPC B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01)
출원번호/일자 1020130141902 (2013.11.21)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1547533-0000 (2015.08.20)
공개번호/일자 10-2015-0059190 (2015.06.01) 문서열기
공고번호/일자 (20150827) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.11.21)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박재홍 대한민국 대전 유성구
2 양충모 대한민국 대전 유성구
3 김희연 대한민국 대전 유성구
4 김병일 대한민국 대전광역시 유성구
5 김우충 대한민국 대전 서구
6 장현익 대한민국 서울 성동구
7 김한흥 대한민국 경기 부천시 원미구
8 유동은 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나동규 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)
2 이성렬 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)
3 이성준 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)
4 이한욱 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2013-1058935-21
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.10.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.11.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0091774-50
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2015-0319323-45
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0328359-35
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.06.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0562623-71
10 [지정기간단축]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Reduction of Designated Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2015.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-0562641-93
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-0562633-27
12 등록결정서
Decision to grant
2015.07.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0494644-47
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(ㄱ) 표면에 패턴이 형성된 고분자 몰드를 제조하는 단계와,(ㄴ) 상기 고분자 몰드의 패턴 내에 유동성 재료를 도포하는 단계와,(ㄹ) 2차 구조체 지지 기판을 상기 고분자 몰드의 패턴 위에 배치하는 단계와,(ㅁ) 상기 유동성 재료를 경화시켜 상기 2차 구조체 지지 기판에 부착하는 단계와,(ㅂ) 상기 2차 구조체 지지 기판과 상기 고분자 몰드를 분리시켜, 상기 유동성 재료가 경화되면서 형성된 유동성 재료 경화구조체가 부착된 2차 구조체 지지 기판을 얻는 단계를 포함하고,상기 (ㄱ)단계는,(ㄱ-1) 마스터 기판에 패턴을 형성하여 마스터 몰드를 제작하는 단계와,(ㄱ-2) 상기 마스터 몰드 상에 제1고분자 용액을 도포한 후 경화 전에 상기 제1고분자 용액 위에 고분자 몰드용 기판을 배치하여 경화함으로써 역상의 패턴이 형성된 고분자 몰드를 제조하는 단계와,(ㄱ-3) 상기 고분자 몰드를 상기 마스터 몰드에서 분리하는 단계와,(ㄱ-4) 상기 고분자 몰드의 역상의 패턴 상에 금속 층을 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 (ㄴ)단계 이후에(ㄷ) 스크래핑 공정을 이용하여 상기 고분자 몰드의 패턴 내부로 유동성 재료를 밀어 넣어 충진하고, 외부에 잔류하는 유동성 재료를 제거하는 단계를 더 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 (ㄱ)단계는,(ㄱ-5) 상기 고분자 몰드의 금속 층에 제2고분자 용액을 도포한 후 경화하여 마스터 몰드와 동일한 패턴이 형성된 복제 고분자 몰드를 제조하는 단계와,(ㄱ-6) 상기 복제 고분자 몰드를 상기 고분자 몰드에서 분리하는 단계와, (ㄱ-7) 상기 복제 고분자 몰드의 패턴 상에 금속 층을 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 금속 층은, Cr, Ti, Pt, Mn, Au, Ni, Cu, Al, Zn, Fe, Co, W, Sn, P로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 고분자 몰드용 기판은 롤 형태로 감겨 있는 유연한 재질의 기판이며, 상기 고분자 몰드용 기판을 배치하는 단계는 제1고분자 용액이 도포된 상기 마스터 몰드에 롤 형태로 감겨 있는 기판을 접촉시킨 후 상기 롤을 상기 마스터 몰드에 대해서 굴려 유연한 재질의 기판을 상기 제1고분자 용액 위에 배치하는 단계인 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 고분자 몰드용 기판을 배치하는 단계는, 상기 고분자 몰드용 기판을 제1고분자 용액이 도포된 상기 마스터 몰드 위에 올린 후 롤러를 이용하여 가압하는 단계를 포함하는 단계인 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
9 9
제1항에 있어서,상기 (ㄴ)단계는,상기 유동성 재료가 도포된 고분자 용액 롤러를 이용하여, 상기 고분자 몰드 상에 유동성 재료를 도포하는 단계를 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
10 10
제1항에 있어서,상기 (ㄴ)단계는,스핀코팅, 드랍핑(dropping), 프린팅 중에서 선택된 방법으로 유동성 재료를 도포하는 단계인 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
11 11
제1항에 있어서,상기 유동성 재료는,열경화성 수지 조성물, 광경화성 수지 조성물, 자연경화성 수지 조성물, 전도성 페이스트, 투명한 수지 조성물 중에서 선택되는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
12 12
제1항에 있어서,상기 (ㄹ)단계 이후에,상기 2차 구조체 지지 기판을 가압하는 단계를 더 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
13 13
제1항에 있어서,상기 2차 구조체 지지 기판에는 2차 구조체 막과 희생층이 순차적으로 형성되어 있으며,상기 (ㅂ)단계 이후에,(ㅅ) 식각 공정을 통해서 노출된 상기 희생층과 2차 구조체 막을 제거하는 단계와,(ㅇ) 잔존하는 희생층과 그 희생층 위에 형성된 상기 유동성 재료 경화구조체를 제거하여 2차 구조체 패턴이 형성된 2차 구조체 지지 기판을 얻는 단계를 더 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
14 14
제1항에 있어서,상기 2차 구조체 지지 기판에는 희생층이 형성되어 있으며,상기 (ㅂ)단계 이후에,(ㅈ) 식각 공정을 통해서 노출된 상기 희생층을 제거하는 단계와,(ㅎ) 희생층이 제거된 2차 구조체 지지 기판에 2차 구조체 막을 증착하는 단계와, (ㅋ) 잔존하는 희생층과 그 희생층 위에 형성된 상기 유동성 재료 경화구조체와 2차 구조체 막을 제거하여 2차 구조체 패턴이 형성된 2차 구조체 지지 기판을 얻는 단계를 더 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
15 15
제1항에 있어서,상기 (ㄱ)단계는,표면에 패턴이 형성된 롤러 형태의 마스터 몰드를 제작하는 단계와,고분자 기판을 제공하는 단계와,상기 마스터 몰드를 이용하여 상기 고분자 기판에 상기 마스터 몰드 표면에 형성된 패턴을 전사하여 고분자 몰드를 제조하는 단계와, 상기 고분자 몰드의 역상의 패턴 상에 금속 층을 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
16 16
제1항에 있어서,상기 (ㄱ)단계는 고분자 몰드의 패턴 상에 이형성 향상을 위한 금속 층을 형성하는 단계를 포함하는 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
17 17
제1항에 있어서,상기 (ㄱ) 단계는 음각 패턴의 내부에 복수의 기둥 형태의 구조물을 형성하는 단계를 더 포함하는 단계인 미세 패턴이 형성된 구조체의 제조방법
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