1 |
1
기재 상에 나노 또는 마이크로 크기의 와이어(nano/micro wire), 나노 또는 마이크로 크기의 입자(nano/micro particle) 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 분산체가 임의로 분산된 분산패턴과, 상기 분산패턴의 상하, 좌우의 관측 기준이 되는 방향과 위치를 나타내는 표적패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨
|
2 |
2
제 1항에 있어서,
상기 복제방지 라벨은 기재의 일면에 감광성고분자(photoresist)를 이용하여 표적패턴을 형성하고, 상기 표적패턴 위에 형광염료로 코팅된 분산체를 분산시켜 임의의 분산 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨
|
3 |
3
제 2항에 있어서,
상기 분산체는 파장이 다른 둘 이상의 형광염료로 코팅된 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨
|
4 |
4
제 3항에 있어서,
상기 기재는 실리콘, 금, 은, 백금, 크롬, 유리, 사파이어, 티타늄으로부터 선택되고, 상기 분산체는 금속, 고분자, 펩타이드, 유기화합물, 무기화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨
|
5 |
5
제 4항에 있어서,
상기 복제방지 라벨은 분산패턴과 표적패턴을 보호하기 위한 고분자 코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨
|
6 |
6
a) 기재 상에 고분자를 이용하여 관측 기준이 되는 방향과 위치를 나타내는 표적패턴을 형성하는 단계;
b) 나노 또는 마이크로 크기의 와이어(nano/micro wire), 나노 또는 마이크로 크기의 입자(nano/micro particle) 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 분산체를 용액에 분산한 후, 형광염료를 첨가하여 분산체 표면에 형광염료를 코팅하는 단계;
c) 상기 표적패턴이 형성된 기재의 표적패턴 위에, 형광염료가 코팅된 분산체를 분산시켜 임의의 분산 패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
7 |
7
제 6항에 있어서,
상기 c) 단계 후, d) 임의의 분산 패턴 위에 고분자 코팅막을 형성하는 단계; 를 더 추가하는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
8 |
8
제 6항에 있어서,
상기 c) 단계에서 형광염료가 코팅되지 않은 분산체를 더 추가하는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
9 |
9
제 6항에 있어서,
상기 기재는 실리콘, 금, 은, 백금, 크롬, 유리, 사파이어, 티타늄에서 선택되는 재질이고, 상기 분산체는 금속, 고분자, 펩타이드, 유기화합물, 무기화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
10 |
10
제 6항에 있어서,
상기 a)단계에서 표적패턴은 감광성 고분자용액을 기재 상에 도포하여 건조시킨 후, 형성하고자 하는 모양의 패턴을 갖는 포토마스크를 올리고, UV를 조사하여 광경화 시킨 후 에칭하여 형성한 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
11 |
11
제 6항에 있어서,
상기 b)단계에서 형광염료는 파장이 상이한 두 개 이상의 형광염료를 사용하는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
12 |
12
제 6항에 있어서,
상기 c)단계에서 분산은 형광염료와 분산체가 포함된 용액을 마이크로 피펫을 이용하여 표적패턴 위에 떨어뜨린 후, 건조시키는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 제조방법
|
13 |
13
1) 일반현미경을 이용하여 제 1항 내지 제 5항에서 선택되는 어느 하나의 복제방지라벨을 관측하여 표적패턴을 기준으로 관측 위치를 설정하는 단계;
2) 상기 표적패턴 위치에서 형광현미경으로 분산 패턴을 관측하는 단계;
3) 상기 관측된 이미지를 컴퓨터 모니터 상에 디스플레이 한 후, 고유 아이디를 부여하여 데이터베이스에 저장하는 단계;
4) 저장된 아이디와 이미지의 조합을 이용하여 새로운 패턴에 대해 진위여부를 판단하는 단계;
를 포함하는 복제방지 라벨의 진위 판별방법
|
14 |
14
제 13항에 있어서,
상기 4) 단계의 진위여부 판단은 동일영역에 대해 관측한 패턴을 컴퓨터 모니터 상에 동시에 디스플레이하여 비교하거나, 프로그램을 이용하여 두 이미지의 유사성을 계산하는 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 복제방지 라벨의 진위 판별방법
|