광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상판 중심부에 가지는 반응실 하우징과;

상기 개구부를 통해 상기 반응실 내로 광을 조사할 수 있도록 그 발광면이 상기 개구부와 대면하는, 발광면이 평탄한 광원과;

상기 광원의 발광면과 상기 반응실 개구부 사이의 공간에 수평으로 설치되며 상기 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 내열성 투명 필름과;

상기 광원의 발광면과 상기 반응실 개구부 사이에 위치하고 상기 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상하판 중심부에 가지며, 상기 상하판 개구부의 중심축이 상기 발광면 및 반응실 중심축과 일치하고 그 하판이 상기 반응실 상판과 결합되는, 상기 투명 필름을 설치하고 공급 및 수납하기 위한 격납실 하우징과;

상기 격납실 상판 개구부에 밀폐되게 설치하기 위하여 상기 광원의 발광면 가장자리를 그 중심 개구부 둘레에 용접한 플란지와;

상기 투명 필름 격납실 상판 개구부 둘레에 용접된 플란지와 상기 광원이 용접된 플란지 가장자리를 결합하는, 양단에 플란지를 갖는 성형 벨로우즈 또는 용접 벨로우즈로 된 신축부와;

상기 광원이 용접된 플란지와 상기 신축부, 상기 투명 필름 격납실 하우징, 상기 반응실 하우징이 차례로 결합되어 하나의 밀폐 공간을 이루며, 광여기 공정 시에, 상기 내열성 투명 필름을 아래로 밀어서 상기 반응실 개구부에 밀착되게 하여 상기 반응실내의 반응가스가 격납실내로 누출되지 않도록 상기 플란지가 용접된 광원을 상하로 이동시키기 위한 구동수단을 구비하여,

상기 구동장치로 상기 플란지가 용접된 광원을 상하로 이동시킬 때 상기 밀폐 구조가 파괴되지 않는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

삭제

제1항에 있어서, 상기 광원이 엑시머 램프, 중수소 방전관, 제논 램프, 저압 수은 램프등으로 구성된 자외선 영역의 광 방출 광원군, 가시광선 광원군 및 적외선 광원군으로부터 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 격납실의 중심축으로부터 떨어진, 상기 축에 대해 좌우 대칭 장소에 상기 반응실에 노출된 내열성 투명 필름을 감아서 수납하기 위한 수납실과 청결한 투명 필름을 연속적으로 공급하기 위한 공급실을 각각 갖춘 광여기 공정 장치

제4항에 있어서, 상기 투명 필름을 두루말이 형태에서 풀어서 공급하고 두루말이 형태로 감아서 수납하기 위한 회전축이 상기 공급실과 수납실내에 각각 설치되고 상기 회전축들을 공급실 및 수납실 외부에서 각각 회전 구동시키는 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 광원의 발광면의 가장자리를 상기 플란지 중심 개구부 둘레에 용접할 때 상기 광원의 발광면 표면과 상기 플란지의 하부 표면이 동일한 평면상에 오도록 스테인레스 스틸, 또는 발광면의 재료와 용접 가능한 재질의 플란지를 용접한 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 플란지에 용접된 상기 광원이 대기압에 견디지 못하고 파손될 위험이 있는 경우, 상기 격납실 개구부에 노출된 상기 광원의 발광면을 제외한 광원의 나머지 외표면의 일부 또는 전부에 보강재를 용접하여 광원이 대기압에 견딜 수 있도록 보강한 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제7항에 있어서, 상기 보강재의 재질이 스테인레스 스틸, 또는 광원의 표면 재료와 용접이 가능한 재질인 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 반응실 개구부에 대한 상기 내열성 투명 필름의 밀착을 위해 상기 개구부 둘레에 오-링이 마련된 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 투명 필름 격납실의 하판과 상기 반응실의 상판이 용접, 오-링 또는 가스켓류에 의해 결합되는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 광원이 용접된 플란지 및 상기 격납실 상판과 상기 신축부와는 오-링 또는 가스켓류에 의해 결합되는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 광여기 공정을 하기 위한 재료 또는 기판을 지지하거나 상기 재료 또는 기판의 온도를 승온 및 조절하기 위한 히터를 내장한 기판 가열 지지를 구비하고, 최적의 조건에서 광여기 공정을 행할 수 있도록 상기 반응실 내에서의 기판의 위치가 상기 지지대의 상하 운동에 의해 조절되며 이 상하 운동을 위한 구동 장치를 상기 반응실 외부에 구비한 광여기 공정 장치

제12항에 있어서, 상기 기판 가열 지지대 구동 시에 상기 반응실의 진공이 파괴되지 않도록 신축부를 구비한 것을 특징으로 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 광원의 광원면을 제외한 외벽에는 광원의 냉각을 위하여 수냉관 또는 공냉 선풍기를 구비한 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 반응실 내로 반응가스를 공급하기 위한 취기구와 상기 반응가스 배기 및 고진공 배기를 위한 배기구를 반응실에 구비한 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 반응실 내로 세척용 퍼지 가스를 공급하기 위한 취기구와 상기 퍼지 가스를 배기하기 위한 배기구를 반응실에 구비한 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 격납실 내로 질소 또는 비활성 가스를 공급하기 위한 취기구와 상기 가스를 배기하기 위한 배기구를 격납실에 구비한 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 상기 공급실에는 청결한 투명 필름을 장착 공급하기 위한 개폐구가 구비되고, 상기 수납실에는 사용한 후의 투명 필름을 탈착 수거하기 위한 개폐구를 각각 구비한 광여기 공정 장치

제1항에 있어서, 필요한 광여기 공정을 위하여 반응실의 기판 가열 지지대 위에 기판을 설치하고, 공정이 끝난 후 반응실로부터 기판을 꺼낼 때 반응실의 진공을 깨지 않기 위하여 통상적으로 사용되는 보조실(load-lock chamber)이 구비 설치되고, 반응실과 보조실간의 기판 이송 및 설치를 위한 기판 이송 기구가 구비 설치되며, 기판의 설치 및 수거를 위한 기판 이송시 이외에는 반응실과 보조실 사이의 게이트 밸브가 항상 닫혀 있어서 반응실과 보조실을 격리하고 있는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상판 중심부에 가지는 반응실 하우징과;

상기 개구부를 통해 상기 반응실 내로 광을 조사할 수 있도록 그 발광면이 상기 개구부와 대면하는, 발광면이 평탄한 광원과;

상기 광원의 발광면과 상기 반응실 개구부 사이의 공간에 수평으로 설치되며 상기 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 내열성 투명 필름과;

상기 광원의 발광면과 상기 반응실 개구부 사이에 위치하고 상기 광원으로부터의 광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상하판 중심부에 가지며, 상기 상하판 개구부의 중심축이 상기 발광면 및 반응실 중심축과 일치하고 그 하판이 상기 반응실 상판과 결합되는, 상기 투명 필름을 설치하고 공급 및 수납하기 위한 격납실 하우징과;

상기 광원을 탈착 가능하게 고정하기 위한 플란지와;

상기 플란지에 상기 광원을 밀폐 고정시키기 위한 결합수단과;

상기 광원의 발광면 또는 발광면 가장 자리 벽면과 상기 플란지 사이의 기밀을 유지하기 위해 상기 광원과 플란지의 접촉부에 위치한 오-링과;

상기 투명 필름 격납실 상판 개구부 둘레에 용접된 플란지와 상기 플란지 가장자리를 결합하는, 양단에 플란지를 갖는 성형 벨로우즈 또는 용접 벨로우즈로 된 신축부와;

제20항에 있어서, 상기 플란지에 오-링으로 결합된 상기 광원이 대기압에 견디지 못하고 파손될 위험이 있는 경우, 상기 격납실 개구부에 노출된 상기 광원의 발광면을 제외한 광원의 나머지 외표면의 일부 또는 전부에 보강재를 용접하여 광원이 대기압에 견딜 수 있도록 보강한 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제21항에 있어서, 상기 보강재의 재질이 스테인레스 스틸, 또는 광원의 표면 재료와 용접이 가능한 재질인 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제20항에 있어서, 상기 광원을 고정시키는 플란지 및 상기 격납실 상판과 상기 신축부와는 오-링 또는 가스켓류에 의해 결합되는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

제20항에 있어서, 필요한 광여기 공정을 위하여 반응실의 기판 가열 지지대 위에 기판을 설치하고, 공정이 끝난 후 반응실로부터 기판을 꺼낼 때 반응실의 진공을 깨지 않기 위하여 통상적으로 사용되는 보조실(load-lock chamber)이 구비 설치되고, 반응실과 보조실간의 기판 이송 및 설치를 위한 기판 이송 기구가 구비 설치되며, 기판의 설치 및 수거를 위한 기판 이송시 이외에는 반응실과 보조실 사이의 게이트 밸브가 항상 닫혀 있어서 반응실과 보조실을 격리하고 있는 것을 특징으로 하는 광여기 공정 장치

광여기 공정을 위한 발광면이 평탄한 광원과, 광이 투과할 수 있는 개구부를 그 상판 중심부에 가지는 광여기 공정용 반응실과, 광원의 발광면의 흐림을 방지하기 위한 투명 필름 두루말이들을 격납할 수 있도록 상기 반응실의 외부 양측에 각각 마련된 공급실과 수납실로 이루어진 격납실과, 반응실에 대한 기판의 보관, 설치 및 수거를 위한 보조실을 포함한 광여기 공정 장치에서 광여기 공정을 진행함에 있어서,

반응실과 격납실 및 보조실을 고진공으로 배기하는 단계;

반응실 상판 개구부 둘레에 설치된 오-링에 내열성 투명 필름을 끼고 밀착되어 있는, 광원이 부착되어 있는 플란지를 광원 구동장치에 의해 수직으로 올려, 오-링, 투명 필름, 광원의 발광면을 따로따로 이격시키는 단계;

막이 부착되어 흐려진 투명 필름을 새로운 청결한 투명 필름 부분으로, 사용한 투명 필름을 감기 위한 로울러를 외부 구동장치로 회전시켜, 감아서 교체해 주는 단계;

반응실과 보조실 사이의 게이트 밸브를 열고 보조실에 준비해둔 기판을 반응실로 이송하여 기판 가열 지지대 위에 설치하는 단계;

상기 게이트 밸브를 닫아 보조실과 반응실을 격리시키는 단계;

광원이 부착되어 있는 플란지를 광원 구동장치에 의해 수직으로 내려 투명 필름을 아래로 약간 밀면서 광원의 발광면의 가장 자리에 용접된 플란지가 투명 필름을 끼고 반응실 상판 개구부 둘레에 설치된 오-링에 밀착되게 하는 단계;

가스공급관을 통해 반응가스를 반응실에 넣고 반응실의 압력이 미리 정해 놓은 압력이 되도록 배기구를 통해 반응가스를 배기하는 단계;

투명 필름 공급실과 수납실 즉 격납실의 압력이 반응실보다 약간 높거나 같게 되도록 질소 가스나 비활성 가스를 취기구를 통해 흘려 보내 주고 배기구를 통해 배기 하면서 오-링을 통해 반응가스가 격납실 내로 누출되는 것을 방지하는 단계;

기판 가열 지지대의 내장 히터에 의해 기판을 가열 승온시켜 기판이 일정 온도에 도달 되게 하는 단계;

최적의 조건에서 광여기 공정이 이루어질 수 있도록 반응실내에서 기판의 위치가 상하 구동장치에 의해 조절되는 단계;

광원으로부터의 광을 반응실 내로 조사하여 반응가스를 활성화시킴으로써 광여기 공정을 진행하는 단계;