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반도체 제조 장비용 열용사 코팅막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121466
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 반도체 장비용 열용사 코팅막의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 싱ㄹ시예에 따른 반도체 제조 장비에 사용되는 열용사 코팅막의 제조 방법은, i) (AlxY1-x)2O3(x는 0.05 내지 0.95) 조성을 가지는 열용사 코팅물질을 준비하는 단계, ii) 열용사 코팅물질을 플라즈마 불꽃을 향하여 주입하여 가열하는 단계, 및 iii) 가열에 의해 완전 용융 또는 반용융된 상태의 열용사 코팅물질을 반도체 제조장비에 사용되는 부품의 표면에 적층하여 비정질 구조를 갖는 코팅막을 형성하는 단계를 포함한다. 열용사 코팅, 비정질 세라믹, 반도체 제조 장비, 보호 코팅막
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) C01F 7/00 (2006.01) C01F 17/00 (2006.01) C23C 4/10 (2006.01)
CPC C01F 17/0018(2013.01) C01F 17/0018(2013.01) C01F 17/0018(2013.01) C01F 17/0018(2013.01) C01F 17/0018(2013.01) C01F 17/0018(2013.01)
출원번호/일자 1020090107645 (2009.11.09)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0940812-0000 (2010.01.29)
공개번호/일자 10-2009-0125028 (2009.12.03) 문서열기
공고번호/일자 (20100204) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020060055968   |   2006.06.21
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2007-0060758 (2007.06.20)
관련 출원번호 1020070060758
심사청구여부/일자 Y (2009.11.09)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석현광 대한민국 서울 도봉구
2 이해원 대한민국 서울특별시 동대문구
3 백경호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2009.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0687286-22
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
3 등록결정서
Decision to grant		 2010.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0038479-53
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반도체 제조 장비에 사용되는 열용사 코팅막의 제조 방법으로서, (AlxY1-x)2O3(x는 0
2 2
제1항에 있어서 상기 코팅막을 형성하는 단계는 금속 중간층을 형성하는 단계를 포함하는 열용사 코팅막의 제조 방법
3 3
제2항에 있어서 상기 코팅막을 형성하는 단계는 상기 열용사 코팅물질의 조성을 순차적으로 달리하여 경사 코팅막을 형성하는 단계를 더 포함하는 열용사 코팅막의 제조 방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 코팅이 진행되는 동안 상기 열용사 코팅 물질의 조성을 상기 코팅이 되는 모재와 동일한 조성으로 (AlxY1-x)2O3(x 는 0
5 5
제1항에 있어서, 상기 코팅막을 형성하는 단계에서, 상기 부품은 진공 플라즈마 장치의 챔버 또는 상기 챔버 내부의 부품인 열용사 코팅막의 제조 방법
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2 TW200815624 TW 대만 FAMILY
3 TWI375734 TW 대만 FAMILY
4 WO2007148931 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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3 TW200815624 TW 대만 DOCDBFAMILY
4 TWI375734 TW 대만 DOCDBFAMILY
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