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치밀성 박막과 이를 이용한 연료전지 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121510
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 치밀성 박막과 이를 이용한 연료전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명은 (1) 다공성 표면에 제1 박막을 형성하는 단계 및 (2) 제1 박막의 표면에 제1 박막과 동종의 물질로 제2 박막을 형성하여 제1 박막의 핀 홀을 제거하는 단계를 포함하거나, (1') 다공성 표면에 제1 박막을 형성하는 단계, (2') 제1 박막의 표면에 제1 박막과 이종의 물질로 제2 박막을 형성하여 제1 박막의 핀 홀을 제거하는 단계 및 (3') 제2 박막의 표면을 식각하는 단계를 포함하는 치밀성 박막과, 이를 이용하는 초소형 연료전지의 제조방법에 관한 것이고, 다공성 소재, 다공성 소재의 표면에 형성되고, 핀 홀을 갖는 제1 박막 및 제1 박막과 동종의 물질을 포함하고, 핀 홀을 채우며 제1 박막의 표면에 형성되는 제2 박막을 포함하거나, 다공성 소재, 다공성 소재의 표면에 형성되고, 핀 홀을 갖는 제1 박막, 제1 박막과 이종의 물질을 포함하고, 핀 홀을 채우는 물질 및 제1 박막과 동종의 물질을 포함하고, 제1 박막의 표면에 형성되는 제2 박막을 포함하는 치밀성 박막과, 이를 이용하는 초소형 연료전지에 관한 것이다.
Int. CL H01M 8/12 (2006.01) H01M 8/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100069211 (2010.07.16)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0008390 (2012.01.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.07.16)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 손지원 대한민국 서울 성북구
2 이해원 대한민국 서울특별시 동대문구
3 권창우 대한민국 경기도 성남시 분당구
4 김기범 대한민국 서울 관악구
5 이종호 대한민국 서울 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0461602-48
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.06.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.06.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0498808-36
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.07.13 수리 (Accepted) 9-1-2011-0057996-88
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.02.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0070441-49
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0278534-62
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.04.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0278537-09
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.09.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0542635-93
9 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2012.10.16 수리 (Accepted) 7-1-2012-0047964-14
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0923811-67
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.11.09 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2012-0923815-49
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0709898-00
13 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2012.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0709899-45
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(1) 다공성 표면에 제1 박막을 형성하는 단계; 및(2) 상기 제1 박막의 표면에 상기 제1 박막과 동종의 물질로 제2 박막을 형성하여 제1 박막의 핀 홀을 제거하는 단계;를 포함하는 치밀성 박막 제조방법
2 2
(1') 다공성 표면에 제1 박막을 형성하는 단계;(2') 상기 제1 박막의 표면에 상기 제1 박막과 이종의 물질로 제2 박막을 형성하여 제1 박막의 핀 홀을 제거하는 단계; 및(3') 상기 제2 박막의 표면을 식각하는 단계;를 포함하는 치밀성 박막 제조방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 식각은 제2 박막을 제거하고, 상기 제1 박막이 드러나도록 하는 것인 치밀성 박막 제조방법
4 4
제2항에 있어서, 단계 (3')을 거친 제2 박막의 표면에 상기 제1 박막과 동종 또는 이종 물질을 증착하는 단계를 더 포함하는 치밀성 박막 제조방법
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2 박막은 원자층 증착법, 화학기상 증착법 또는 화학용액 증착법으로 형성하는 것인 치밀성 박막 제조방법
6 6
(1) 다공성 표면에 제1 전극을 형성하는 단계;(2) 상기 제1 전극, 또는 상기 다공성 표면 중 상기 제1 전극이 형성되지 않은 부분 및 상기 제1 전극의 표면에 제1 전해질 박막을 형성하는 단계; (3) 상기 제1 전해질 박막의 표면에 상기 제1 전해질 박막과 동종의 물질로 제2 박막을 형성하여 상기 제1 전해질 박막의 핀 홀을 제거하는 단계; 및(4) 상기 제2 박막의 표면에 제2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 초소형 연료전지 제조방법
7 7
(1') 다공성 표면에 제1 전극을 형성하는 단계;(2') 상기 제1 전극, 또는 상기 다공성 표면 중 상기 제1 전극이 형성되지 않은 부분 및 상기 제1 전극의 표면에 제1 전해질 박막을 형성하는 단계;(3') 상기 제1 전해질 박막의 표면에 상기 제1 전해질 박막과 이종의 물질로 제2 박막을 형성하여 상기 제1 전해질 박막의 핀 홀을 제거하는 단계;(4') 상기 제2 박막의 표면을 식각하는 단계; 및(5') 단계 (4')를 거친 제2 박막의 표면에 제2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 초소형 연료전지 제조방법
8 8
제7항에 있어서, 단계 (5')은, 단계 (4')을 거친 제2 박막의 표면에 상기 제1 전해질 박막과 동종 또는 이종의 물질로 제2 전해질 박막을 형성한 후, 상기 제2 전해질 박막의 표면에 제2 전극을 형성하는 것인 초소형 연료전지 제조방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 식각은 제2 박막을 제거하고, 상기 제1 박막이 드러나도록 하는 것인 치밀성 박막 제조방법
10 10
제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 제1 전해질 박막은 원자층 증착법, 화학기상 증착법 또는 화학용액 증착법으로 형성하는 것인 초소형 연료전지 제조방법
11 11
다공성 소재;상기 다공성 소재의 표면에 형성되고, 핀 홀을 갖는 제1 박막; 및상기 제1 박막과 동종 또는 이종의 물질을 포함하고, 상기 핀 홀을 채우는 물질; 및상기 제1 박막과 동종 또는 이종의 물질을 포함하고, 상기 제1 박막의 표면에 형성되는 제2 박막;을 포함하는 치밀성 박막
12 12
다공성 소재;상기 다공성 소재의 표면에 형성된 제1 전극;상기 제1 전극, 또는 상기 다공성 표면 중 상기 제1 전극이 형성되지 않은 부분 및 상기 제1 전극의 표면에 형성되고, 핀 홀을 구비하는 전해질 박막;상기 전해질 박막과 동종 또는 이종의 물질을 포함하고, 상기 핀 홀을 채우는 물질;상기 전해질 박막과 동종 또는 이종의 물질을 포함하고, 상기 전해질 박막의 표면에 형성된 제2 전해질 박막; 및상기 제2 전해질 박막의 표면에 형성되는 제2 전극;을 포함하는 초소형 연료전지
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20120015279 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2012015279 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.