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기판, 몰리브데넘 후면전극층, 구리박막, 및 광흡수분말층을 포함하고;상기 광흡수분말층의 조성은 CuxInyGa1-y(SzSe1-z)2 (0003c#x003c#1, 0003c#y003c#1, 0003c#z003c#1, x, y 및 z는 실수) 또는 Cu(2-p)Zn(2-q)Snq(SrSe(1-r))4 (0003c#p003c#2, 0003c#q003c#2, 0003c#r003c#1, p, q 및 r은 실수)이며; 닥터 블레이드법, 스크린 인쇄법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법 및 페인팅법을 포함하는 비진공형 공정을 통해 도포되고;상기 몰리브데넘 후면전극층의 두께는 0
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,상기 기판은,유리질, 금속, 세라믹 및 고분자로 이루어지는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,상기 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계는,몰리브데넘을 기판 표면을 전자빔 코팅법(electron beam coating), 스퍼터링법(sputtering), 화학증착법(chemical vapor deposition) 또는 유기금속화학증착법(metal-organic chemical vapor deposition)으로 코팅하는 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,상기 구리박막을 형성하는 단계는,진공증발법((thermal) vacuum evaporation), 전자빔 코팅법(electron beam coating), 스퍼터링법(sputtering), 화학증착법(chemical vapor deposition; CVD), 유기금속 화학증착법(metal-organic chemical vapor deposition; MOCVD) 또는 전기화학적 도금법(electro-chemical deposition)을 통해 상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,상기 광흡수분말층을 형성하는 단계는,비진공 환경에서, CuxInyGa1-y(SzSe1-z)2 (0003c#x003c#1, 0003c#y003c#1, 0003c#z003c#1, x, y 및 z는 실수) 또는 Cu(2-p)Zn(2-q)Snq(SrSe(1-r))4 (0003c#p003c#2, 0003c#q003c#2, 0003c#r003c#1, p, q 및 r은 실수)의 조성비를 갖는 화합물의 분말 또는 페이스트를, 상기 구리박막 표면 위에 닥터 블레이드법, 스크린 인쇄법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법 및 페인팅법을 포함하는 비진공형 공정을 통하여 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계는,250 내지 900 ℃의 셀레늄 증기 하에서 열처리하는 단계를 포함하고,열처리하는 중에 상기 구리박막이 상기 광흡수층으로 흡수되거나 또는 확산되어 사라지는 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,CdS, ZnS(O,OH), ZnSe, InS(O,OH), In2S3, ZnInxSey, Zn1-xMgxO (0003c#x003c#1, 0003c#y003c#1, x 및 y는 실수) 또는 그 혼합물을 CBD법(chemical bath deposition, 화학조 증착법), 전자빔 코팅법(electron beam coating), 스퍼터링법(sputtering) 또는 화학증착법(chemical vapor deposition; CVD)을 통해 증착시킴으로써 상기 광흡수층 상부에 버퍼층을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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기판의 일면에 몰리브데넘 후면전극층을 형성하는 단계;상기 몰리브데넘 후면전극층 표면 위에 구리박막을 형성하는 단계;상기 구리박막 표면 위에 구리인듐갈륨셀레늄 또는 구리아연주석황의 광흡수분말층을 형성하여 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 제조하는 단계; 및상기 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지 제조용 중간체 박막을 열처리하여 광흡수층을 형성하는 단계;를 포함하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법으로서,ZnO, AZO(aluminuim-doped zinc oxide), BZO(boron-doped zinc oxide), ITO(indium tin oxide), FTO(fluorine-doped tin oxide) 또는 그 혼합물을 전자빔 코팅법(electron beam coating) 또는 스퍼터링법(sputtering)을 통해 증착시킴으로써 상기 광흡수층 상부에 투명전극층을 형성하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지의 제조방법
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제5항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따라 제조된 것을 특징으로 하는 구리인듐갈륨셀레늄(CIGS) 또는 구리아연주석황(CZTS)계 태양전지
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