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N-치환된술폰일옥시말레이미드단량체를이용한삼원공중합체의제조방법및그를이용한내열성레지스트화상형성방법

  • 기술번호 : KST2015123010
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 N-P-톨루엔술폰일옥시말레이미드(TsOMI), N-메탄술폰일옥시말레이미드(MsOMI), N-트리플로로메탄술폰일옥시말레이미드(TfOMI) 중에서 선택한 광산 발생형 단량체 X-OMI와 N-t-부틸옥시카보닐말레이미드(t-BOCMI), 말레이미드(MI), N-히드록시말레이미드(HOMI) 중에서 선택한 말레이미드 단량체 Y-MI와 스티렌(St), 히드록시스티렌(HOSt), t-부틸옥시카보닐옥시스티렌(t-BOCSt) 중에서 선택한 스티렌 유도체(Z-St)를 라디칼공중합시켜 X-OMI:Y-MI:Z-St=0.7∼1.5:0.7∼1.5:1.5∼2.5 (몰%)의 조성을 가진 N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체 P(X-OMI/Y-MI/Z-St)의 제조방법 및 이를 이용한 내열성 레지스트 화상형성방법.
Int. CL C08F 220/52 (2006.01) C08F 20/00 (2006.01) C07D 207/24 (2006.01) C07D 207/46 (2006.01)
CPC C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01) C08F 222/40(2013.01)
출원번호/일자 1019940020036 (1994.08.13)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0145353-0000 (1998.04.29)
공개번호/일자 10-1996-0007651 (1996.03.22) 문서열기
공고번호/일자 (19980715) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.08.13)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안광덕 대한민국 서울특별시서초구
2 정찬문 대한민국 서울특별시성북구
3 구덕일 대한민국 서울특별시서초구
4 강종희 대한민국 서울특별시노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 문기상 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로 *** (삼성동, 우창빌딩)(문앤문국제특허법률사무소)
2 조기호 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호 코디특허법률사무소 (역삼동, 한빛빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1994.08.13 수리 (Accepted) 1-1-1994-0091003-19
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1994.08.13 수리 (Accepted) 1-1-1994-0091002-74
3 특허출원서
Patent Application		 1994.08.13 수리 (Accepted) 1-1-1994-0091001-28
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1997.12.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0051190-05
5 의견서
Written Opinion		 1998.01.20 수리 (Accepted) 1-1-1994-0091004-65
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1998.01.20 수리 (Accepted) 1-1-1994-0091005-11
7 등록사정서
Decision to grant		 1998.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0051191-40
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

N-P-톨루엔술폰일옥시말레이미드(TsOMI), N-메탄술폰일옥시말레이미드(MsOMI), N-트리플로로메탄술폰일옥시말레이미드(TFOMI) 중에서 선택한 광산 발생형 단량체 X-OMI와 N-t-부틸옥시카보닐말레이미드(t-BOCMI), 말레이미드(MI), N-히드록시말레이미드(HOMI) 중에서 선택한 말레이미드 단량체 Y-MI와 스티렌(St), 히드록시스티렌(HOSt), t-부틸옥시카보닐옥시스티렌(t-BOCSt) 중에서 선택한 스트렌 유도체(A-St)를 라디칼 공중합시켜 X-OMI:Y-MI=1:1:2(몰비)의 조성을 가진 N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체 P(X-OMI/Y-MI/Z-St)의 제조방법

2 2

제1항의 삼원공중합체를 시클로헥산온, 클로로벤젠, 2-에톡시에틸아세테이트, 디옥산, 메틸이소부틸케톤, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸락테이트로 된 군에서 선택한 유기용제에 1∼30중량% 되게 용해시켜 제조한 레지스트 용액을 실리콘 웨이퍼에 스핀 도포한 다음 전열처리하고 원자외선 및 액사이머 레이저 또는 전자선으로 노광후 가열처리하고 현상하는 내열성 레지스트 화상형성방법

3 3

제2항에 있어서, 현상액으로 가성소다 수용액, 트리메틸함모늄히드록시 수용액, 아니솔로 구성된 군에서 선택하여 현상하는 내열성 레지스트 화상형성방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.