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진공 챔버내로 소정 비율의 Ar, O2 가스를 1 내지 500 mTorr 이하의 챔버내 진공도를 유지하도록 도입하고, 상기 챔버 내에 설치되는 기판을 예열하고, ZnO 타겟과 기판을 수평으로 배치한 상태에서 RF 마그네트론 스퍼터링법으로 기판 위에 ZnO 단결정 박막을 증착하고, 상기 ZnO 박막 증착시 사용하였던 챔버내 산소 분압을 그대로 유지하면서 상기 기판을 서냉시키는 것을 특징으로 하는 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광 소자용 ZnO 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 Ar/O2 비율은 4/1 미만인 것을 특징으로 하는 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광 소자용 ZnO 박막의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 상기 Ar/O2 비율은 1/1 내지 3/1인 것을 특징으로 하는 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광 소자용 ZnO 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기판은 500 내지 650℃의 온도범위까지 예열되는 것을 특징으로 하는 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광 소자용 ZnO 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 RF 마그네트론 스퍼터링법에서 타겟에 인가되는 유효 단위 면적당 에너지 밀도는 3
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판은 Al2O3 단결정 기판, Si과 같이 ZnO와 격자 부정합도가 큰 단결정 기판 및 ZnO를 버퍼로 사용하는 기판 중 선택되는 어느 한 기판인 것을 특징으로 하는 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광 소자용 ZnO 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 기판 위쪽에 설치된 원자 라디칼원으로부터 C 및 N을 도입하면서 ZnO 박막을 기판에 증착하는 것을 특징으로 하는 상온에서 작동하는 자외선 수광, 발광 소자용 ZnO 박막의 제조방법
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