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적어도 일 표면에 나노 패턴을 형성하는 복수개의 돌출부를 포함하는 다공성 기재; 및상기 돌출부 중 적어도 일부의 끝단부에 배치되어 상기 다공성 기재에 초친수 표면 특성을 부여하는 무기 입자;를 포함하고,상기 돌출부는 상기 다공성 기재의 표면이 식각되어 형성된 것이고,상기 다공성 기재는 플라스틱, 섬유, 유리, 세라믹 및 탄소계 물질 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 돌출부는 나노 헤어(nano-hair), 나노 섬유(nan-fiber), 나노 필라(nano-pillar), 나노 로드(nano-rod) 또는 나노 와이어(nano-wire) 형태인 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 돌출부는 직경이 1 내지 100nm 범위이고, 길이가 1 내지 10,000nm 범위이며, 종횡비가 1 내지 50 인 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 무기 입자는, Ti, Cu, Au, Ag, Cr, Pt, Fe, Al, Si, 이들의 합금, 및 이들의 산화물 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 TiO2를 포함하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 클러스터를 형성하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재는 곡면 형상을 가지고, 상기 나노 패턴이 적어도 상기 곡면 형상의 오목한 면에 형성된 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재는 부직포, 직물, 또는 망 형태인 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 기재는 10 내지 500 메쉬(mesh)의 그물망 형태인 유수분리 구조체
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제1항에 있어서,상기 플라스틱은 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리스타일렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 및 이들의 공중합체 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 섬유는 천연섬유, 인조섬유 및 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체
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제12항에 있어서, 상기 천연섬유는 면, 마, 모, 견, 및 석면 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 인조섬유는 레이온, 모달, 텐셀, 리오셀, 폴리노직, 아세테이트, 트리아세테이트, 폴리아미드계, 폴리올레핀계, 폴리에스테르계, 아크릴, 폴리(메타)아크릴레이트계, 폴리비닐알콜(PVA), 폴리우레탄, 폴리염화비밀(PVC), 폴리염화비닐리덴(PVDC), 폴리스티렌, 유리섬유, 및 이들의 공중합체 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 탄소계 물질은 흑연, 탄소 섬유, 다이아몬드, 및 그래핀 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 유수분리 구조체는 공기중 물에 대한 접촉각이 20° 이하인 유수분리 구조체
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제1항에 있어서, 상기 유수분리 구조체는 수중 기름에 대한 접촉각이 140° 이상인 유수분리 구조체
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제1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항, 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 유수분리 구조체를 포함하는 유수분리 장치
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제18항에 있어서, 상기 유수분리 구조체를 지지하는 보강재를 더 포함하는 유수분리 장치
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제1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항, 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 유수분리 구조체를 포함하는 뜰채
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제20항에 있어서, 상기 유수분리 구조체를 고정하는 지지 프레임을 더 포함하는 뜰채
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제1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항, 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 유수분리 구조체를 포함하는 오일 펜스
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다공성 기재를 준비하는 단계;금속 망 구조체를 상기 기재의 상방에 위치시키는 단계; 및상기 금속 망 구조체가 위치한 상기 기재를 플라즈마 처리하는 단계;를 포함하고, 상기 플라즈마 처리 단계는,플라즈마 처리를 통하여, 상기 금속 망 구조체로부터 발생된 금속 또는 금속 산화물 입자를 상기 기재 표면에 증착하는 단계; 및플라즈마 처리를 통하여, 상기 기재 표면에서 상기 금속 또는 금속 산화물 입자가 증착된 부분 이외의 나머지 부분을 식각하는 단계;를 포함하는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서,상기 기재는 부직포, 직물, 또는 망 형태인 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서,상기 기재는 플라스틱, 섬유, 유리, 금속, 세라믹, 및 탄소계 물질 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서, 상기 금속 망 구조체는 상기 기재의 상방에 20mm 이하의 간격을 두고 위치시키는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서, 상기 금속 망 구조체는 Ti, Cu, Au, Ag, Cr, Pt, Fe, Al, Si, 이들의 합금, 및 이들의 산화물 중 적어도 하나를 포함하는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서, 상기 금속 망 구조체의 망 간격이 10㎛ 내지 500㎛ 범위인 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서,상기 증착 단계 및 식각 단계는 동일한 플라즈마 처리 조건에서 동시에 수행되는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 O2, CF4, Ar, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스를 이용하여 행해지는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 -100V 내지 -1000V의 전압 범위에서, 1 내지 1000 mTorr의 압력에서 10초 내지 5시간 동안 수행되는 유수분리 구조체의 제조방법
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제23항에 있어서,상기 금속 망 구조체는 Ti를 포함하고, 상기 플라즈마 처리는 O2 가스를 이용하는 유수분리 구조체의 제조방법
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제18항에 따른 유수분리 장치를 이용하여, 물과 기름 중 물을 선택적으로 통과시키고 기름을 수거하는 단계를 포함하는 유수분리방법
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제34항에 있어서, 상기 유수분리 장치를 사용하기 전에, 상기 유수분리 장치를 물에 적시는 전처리 단계를 더 포함하는 유수분리방법
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제34항에 있어서, 상기 기름 수거 후, 상기 유수분리 장치를 UV 처리하는 단계를 더 포함하는 유수분리 방법
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