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전도성 기판의 표면에 형성되는 광결정 구조를 갖는 찰코파이라이트형 화합물을 함유하는 광흡수층;상기 광흡수층의 표면에 형성된 n-층;상기 n-층의 표면에 형성된 전자수송층; 및상기 전자수송층의 표면에 형성된 전극층;을 포함하고,상기 광흡수층은 나노임프린트 리소그래프 공정을 통해 제조되는 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지
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제1항에 있어서,상기 전도성 기판은 ITO(인듐주석산화물) 또는 FTO(불소-도핑 된 인듐주석산화물) 유리, Mo 코팅된 유리, 금속 포일, 금속 판 및 전도성 고분자 물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지
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제1항에 있어서,상기 찰코파이라이트형 화합물은 구리인듐셀렌(CIS), 구리인듐갈륨셀렌(CIGS), 구리인듐황(CIS), 구리인듐갈륨황(CIGS)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지
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제1항에 있어서,상기 광흡수층과 n-층 사이의 층간 에너지 차이와 격자상수 차이를 완화하는 버퍼층을 상기 광흡수층의 표면에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지
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제1항에 있어서,상기 광흡수층에 형성된 광결정 단위형상의 직경은 0
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제1항에 있어서,상기 광흡수층에 형성된 광결정 단위형상의 이격 거리는 0
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제1항에 있어서,상기 광흡수층에 형성된 광결정 단위형상의 높이는 0
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제1항에 있어서,상기 태양전지의 두께는 100 ~ 3000 ㎚인 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지
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ⅰ) 전도성 기판 상에 광결정 구조를 갖는 찰코파이라이트형 화합물을 함유하는 광흡수층을 형성하는 단계;ⅱ) 상기 광흡수층의 상부에 n-층을 형성하는 단계;ⅲ) 상기 n-층의 상부에 전자수송층을 형성하는 단계; 및ⅳ) 상기 전자수송층의 상부에 전극층을 부착하고 압착하는 단계;를 포함하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 ⅰ ) 단계는 ⅰ-1) 상기 전도성 기판의 표면에 찰코파이라이트형 화합물을 포함하는 졸-겔 용액을 도포하는 도포단계;ⅰ-2) 상기 광결정 구조의 역 표면 형상을 갖는 마스크로 상기 찰코파이라이트형 화합물을 임프린트시켜서 광결정을 형성시키는 단계; 및ⅰ-3) 상기 마스크를 가압 및 가열함으로써 상기 졸-겔 용액이 광결정 구조로 성형되는 단계;를 포함하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 전도성 기판은 ITO(인듐주석산화물), FTO(불소-도핑 된 인듐주석산화물) 유리, Mo 코팅된 유리, 금속 포일, 금속 판 및 전도성 고분자 물질로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 찰코파이라이트형 화합물은 구리인듐셀렌(CIS), 구리인듐갈륨셀렌(CIGS), 구리인듐황(CIS) 및 구리인듐갈륨황(CIGS)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 ⅰ) 단계와 ⅱ) 단계 사이에 상기 광흡수층의 표면에 버퍼층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 광흡수층에 형성된 광결정 단위형상의 직경은 0
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제10항에 있어서,상기 광흡수층에 형성된 광결정 단위형상의 이격 거리는 0
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제10항에 있어서,상기 태양전지의 두께는 100 ~ 3000 ㎚인 것을 특징으로 하는 찰코파이라이트형 화합물계 태양전지의 제조방법
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