맞춤기술찾기

이전대상기술

나노패턴을 이용한 자외선 차단 필름 제조방법 및 그 제품

  • 기술번호 : KST2015128537
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노패턴을 이용한 자외선차단 필름 제조방법 및 그 제품에 관한 것으로, 더 상세하게는 필름 기판에 레진을 도포하고, 상기 도포된 레진층에는 패턴을 형성시키기 위한 스템프를 가압하면서 열 또는 자외선을 가하여 기판에 패턴을 형성한 것이다. 상기 패턴은 400nm 파장 이하의 자외선 투과억제 효과를 증가시키면서 필름의 투명성을 유지시킬 수 있음으로 어린이의 안전을 위한 투명우산과 투명유리창보호에 사용될 수 있는 나노패턴을 이용한 자외선차단 필름 제조방법 및 그 제품에 관한 것이다. 본 발명의 자외선차단 필름 제조방법은 자외선차단필름 제조방법에 있어서, 폴리머 기판 상부에 레진을 도포하는 레진층 형성단계와; 나노패턴이 음각된 스템프로 상기 레진층을 가압하는 가압단계와; 상기 스템프의 가압상태에서 레진층을 경화시켜 나노패턴을 기판에 전사하는 나노패턴전사단계;를 포함하여 이루어진다. 또한, 본 발명에 따른 나노패턴을 이용한 자외선 차단필름은, 폴리머기판에 레진층을 도포하고, 상기 레진층을 스템프로 가압한 후 경화시키는 제조방법에 의해 투명한 폴리머 기판 상면에 직경 200~600 nm, 피치 300~900 nm, 높이는 100~800nm의 나노패턴을 형성하여 300~400 nm 파장의 자외선 차단율을 증가시키도록 하였다. 자외선 차단, 필름, 나노, 패턴
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B32B 37/10 (2006.01) B32B 37/00 (2006.01) B32B 38/04 (2006.01)
CPC B32B 37/10(2013.01) B32B 37/10(2013.01) B32B 37/10(2013.01) B32B 37/10(2013.01) B32B 37/10(2013.01)
출원번호/일자 1020080116668 (2008.11.24)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1063453-0000 (2011.09.01)
공개번호/일자 10-2010-0058019 (2010.06.03) 문서열기
공고번호/일자 (20110907) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.11.24)
심사청구항수 3

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최대근 대한민국 대전 유성구
2 정준호 대한민국 대전광역시 유성구
3 김기돈 대한민국 서울 송파구
4 이응숙 대한민국 대전 유성구
5 최준혁 대한민국 대전 유성구
6 이기중 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 웰 대한민국 서울특별시 서초구 방배로**길*, *~*층(방배동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0806808-35
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.11.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.12.08 수리 (Accepted) 9-1-2009-0067469-69
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2010-0176023-15
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.12.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0584898-87
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0099271-15
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.02.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0099250-67
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
10 등록결정서
Decision to grant
2011.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0467973-82
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
자외선차단필름 제조방법에 있어서, 폴리머 기판(20) 상부에 레진을 도포하는 레진층 형성단계(S1)와; 나노패턴이 음각된 스템프(40)로 도포된 레진층(30)을 가압하는 가압단계(S2)와; 상기 스템프의 가압상태에서 열을 가하거나 자외선을 조사해 레진층을 경화시켜 나노패턴(50)을 기판(20)에 전사하는 나노패턴전사단계(S3);를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 나노패턴을 이용한 자외선 차단 필름 제조방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 나노패턴 전사단계(S3)에서 전사된 나노패턴(50) 하나의 크기는 직경 200~600 nm, 피치 300~900 nm, 높이는 100~800nm으로 형성하여 됨을 특징으로 하는 나노패턴을 이용한 자외선 차단 필름 제조방법
4 4
폴리머기판에 레진층을 도포하고, 상기 레진층을 스템프로 가압한 후 열을 가하거나 자외선을 조사해 경화시키는 제조방법에 의해 투명한 폴리머 기판(20) 상면에 레진을 경화시켜 직경 200~600 nm, 피치 300~900 nm, 높이는 100~800nm의 나노패턴(50)을 형성해 300~400 nm 파장의 자외선 차단시킨 것을 특징으로 하는 나노패턴을 이용한 자외선 차단 필름
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과기부 한국기계연구원 21세기 프론티어-나노메카트로닉스 기술개발사업 나노임프린트 공정기술 개발