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나노 임프린트용 스탬프 제작방법

  • 기술번호 : KST2015128577
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 임프린트용 스탬프 제작방법에 관한 것으로서, 폴리머 나노입자와, 상기 폴리머 나노입자의 용해도 계수와 5 이상의 차이가 나는 용해도 계수를 가지는 폴리머 매트릭스가 혼합된 혼합용액을, 기판 상에 적층하는 혼합용액 적층단계; 상기 혼합용액에서 용매를 제거하여, 상기 폴리머 나노입자들이 상기 폴리머 매트릭스 내에서 배열되는 나노입자 박막을 성형하는 나노입자 박막 성형단계; 상기 폴리머 매트릭스를 식각하여 상기 폴리머 나노입자를 노출시키는 노출단계; 상기 폴리머 나노입자의 용해도 계수와 0.5 미만의 차이가 나는 용해도 계수를 가지는 매개용매를 이용하여 노출된 폴리머 나노입자를 용해시킴으로써, 상기 나노입자 박막의 상면에 나노패턴을 형성하는 용해단계; 및 상기 나노패턴 상에 금속 물질을 적층하여 나노 임프린트용 스탬프를 형성하는 스탬프 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 21/027 (2011.01) H01L 21/308 (2011.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020090051029 (2009.06.09)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0978366-0000 (2010.08.20)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20100826) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.09)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최준혁 대한민국 대전광역시 유성구
2 김기돈 대한민국 서울특별시 송파구
3 이지혜 대한민국 대전광역시 유성구
4 최대근 대한민국 대전광역시 유성구
5 정준호 대한민국 대전광역시 유성구
6 최두선 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0348379-63
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2010-0026332-89
3 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2010-0273257-89
4 등록결정서
Decision to grant
2010.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0243660-75
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
폴리머 나노입자와, 상기 폴리머 나노입자의 용해도 계수와 5 이상의 차이가 나는 용해도 계수를 가지는 폴리머 매트릭스가 혼합된 혼합용액을, 기판 상에 적층하는 혼합용액 적층단계; 상기 혼합용액에서 용매를 제거하여, 상기 폴리머 나노입자들이 상기 폴리머 매트릭스 내에서 배열되는 나노입자 박막을 성형하는 나노입자 박막 성형단계; 상기 폴리머 매트릭스를 식각하여 상기 폴리머 나노입자를 노출시키는 노출단계; 상기 폴리머 나노입자의 용해도 계수와 0
2 2
극성 또는 무극성 중 하나의 성질을 가지는 폴리머 나노입자와, 극성 또는 무극성 중 다른 하나의 성질을 가지는 폴리머 매트릭스가 혼합된 혼합용액을, 기판 상에 적층하는 혼합용액 적층단계; 상기 혼합용액에서 용매를 제거하여, 상기 폴리머 나노입자들이 상기 폴리머 매트릭스 내에서 배열되는 나노입자 박막을 성형하는 나노입자 박막 성형단계; 상기 폴리머 매트릭스를 식각하여 상기 폴리머 나노입자를 노출시키는 노출단계; 극성 또는 무극성 중 상기 폴리머 나노입자와 동일한 성질을 가지는 매개용매를 이용하여 노출된 폴리머 나노입자를 용해시킴으로써, 상기 나노입자 박막의 상면에 나노패턴을 형성하는 용해단계; 및 상기 나노패턴 상에 금속 물질을 적층하여 나노 임프린트용 스탬프를 형성하는 스탬프 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 나노입자 박막은, 상기 폴리머 나노입자들이 상기 폴리머 매트릭스 내에서 이웃하게 배열되는 제1나노입자층과, 상기 제1나노입자층의 상측에 배치되며 상기 폴리머 나노입자들이 상기 폴리머 매트릭스 내에서 이웃하게 배열되는 제2나노입자층을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리머 나노입자는 폴리스티렌(polystyrene) 나노입자이고, 상기 폴리머 매트릭스는 폴리비닐아세테이트(polyvinyl acetate, PVA) 매트릭스이며, 상기 매개용매는 톨루엔(toluene) 또는 클로로포름(chloroform)인 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리머 나노입자의 지름은 200 nm 이상 500 nm 이하인 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 혼합용액에서, 상기 폴리머 매트릭스에 대한 상기 폴리머 나노입자의 체적비는 실질적으로 52% 이하인 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
7 7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 용해단계에서, 상기 폴리머 나노입자의 원활한 용해를 위해, 상기 나노입자 박막이 적층된 기판에 진동을 가하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
8 8
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 용해단계와 상기 스탬프 형성단계 사이에서, 상기 나노패턴 상에 형성된 나노 임프린트용 스탬프의 이형을 용이하게 하기 위해 상기 나노패턴 상에 표면처리를 수행하는 표면처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 스탬프 제작방법
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패밀리정보가 없습니다
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1 지식경제부 한국기계연구원 산업기술연구회-기관고유사업 나노 기반 연속 생산시스템 핵심요소기술 개발