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글래스 기판 상에 실리카 비드(bead)들을 포함하는 실리카 분산용액을 코팅하여 실리카 비드층을 형성하는 단계; 및상기 실리카 비드층의 토폴로지를 이용하여 상기 실리카 비드층 및 상기 글래스 기판을 순차적으로 식각함으로써, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 실리카 비드층의 토폴로지는 상기 실리카 비드들의 적층 두께가 상기 실리카 비드층에 걸쳐 균일하지 않아 발생하는 높이 단차에 기인한 제2개구를 포함하고,상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 글래스 기판을 식각하는 동안 상기 글래스 기판 중 먼저 식각되는 부분은 상기 제2개구에 대응되는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 실리카 비드층의 토폴로지는 인접하는 상기 실리카 비드들 사이의 제1개구를 포함하는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제2항에 있어서, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 글래스 기판을 식각하는 동안 상기 글래스 기판 중 먼저 식각되는 부분은 상기 제1개구에 대응되는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계에서 상기 글래스 기판을 식각하는 동안 상기 실리카 비드층은 상기 글래스 기판에 대하여 식각 지연층의 역할을 하는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계에서 상기 실리카 비드층은 그 상에 별도의 마스크층을 형성하지 않고 식각되는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 실리카 비드층 및 상기 글래스 기판을 순차적으로 식각하는 단계는 단일 챔버 내에서 연속적으로 수행되는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 실리카 비드층 및 상기 글래스 기판을 순차적으로 식각하는 단계는 상기 실리카 비드층 및 상기 글래스 기판을 순차적으로 플라즈마 건식 식각하는 단계를 포함하는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계는 상기 실리카 비드층 및 상기 글래스 기판을 순차적으로 식각한 이후에 잔존하는 상기 실리카 비드층을 제거하는 단계를 포함하는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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제1항에 있어서, 상기 글래스 기판 상에 나노 돌기 패턴을 형성하는 단계 이후에 상기 글래스 기판 상에 소수성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 나노 돌기 패턴의 형성 방법
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