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알루미늄을 포함하는 표면처리대상물의 표면에 알루미나 파우더를 샌드블라스팅하여 일체로 형성된 마이크로 크기의 요철과,상기 요철의 표면에 아르곤 이온빔을 조사하여 일체로 형성된 나노 크기의 돌기와,상기 돌기의 외측에 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)을 화학기상증착(CVD) 공정으로 코팅하여 초발수 특성을 갖도록 하는 코팅층을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 초발수 특성을 가진 금속 표면 구조
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알루미늄을 포함하는 표면처리대상물의 표면에 알루미나 파우더를 샌드블라스팅하여 일체로 형성된 마이크로 크기의 요철과,상기 요철의 외측에 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)을 화학기상증착(CVD) 공정으로 코팅하여 초발수 특성을 갖도록 하는 코팅층을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 초발수 특성을 가진 금속 표면 구조
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 코팅층은 105° 이상의 물접촉각을 갖는 것을 특징으로 하는 초발수 특성을 가진 금속 표면 구조
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알루미늄을 포함하는 표면처리대상물의 표면에 알루미나 파우더를 샌드블라스팅하여 마이크로 크기의 요철을 형성하는 요철형성단계와,상기 요철에 아르곤 이온빔을 조사하여 나노 크기의 돌기를 형성하는 돌기를 형성하는 돌기형성단계와,상기 돌기에 화학기상증착(CVD) 공정을 통해 코팅층을 형성하는 코팅층형성단계로 이루어지며,상기 코팅층형성단계에서,상기 코팅층은 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)으로 형성된 것을 특징으로 하는 초발수 특성을 가진 금속 표면 구조의 형성 방법
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알루미늄을 포함하는 표면처리대상물의 표면에 알루미나 파우더를 샌드블라스팅하여 마이크로 크기의 요철을 형성하는 요철형성단계와,상기 요철에 화학기상증착(CVD) 공정을 통해 코팅층을 형성하는 코팅층형성단계로 이루어지며,상기 코팅층형성단계에서,상기 코팅층은 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)으로 형성된 것을 특징으로 하는 초발수 특성을 가진 금속 표면 구조의 형성 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 돌기형성단계는, 1
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