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부분경화를 이용한 미세구조 형성방법

  • 기술번호 : KST2015130909
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명는 미세구조를 형성하는 방법으로써, 보다 자세하게는 부분경화를 이용한 미세구조를 형성하는 방법에 관한것이다. 본 발명에 따른 미세구조 형성방법은 도포되는 UV 경화성 물질에 UV를 조사하여 부분경화함으로써 형성되는 부분경화층을 가지는 고분자패턴을 제1베이스기판상에 마련하는 부분경화층 형성 단계; 상기 부분경화층이 형성된 상기 제1베이스기판을 타겟물질이 도포된 타겟기판에 상기 부분경화층과 상기 타겟물질이 상호 접하도록 설치되는 단계; 상기 타겟물질 중 상기 부분경화층과 접한 영역이 상기 부분경화층에 접착되도록 상기 부분경화층을 완전 경화시키는 경화단계; 상기 부분경화층에 접착된 타겟물질이 상기 제1베이스기판과 함께 상기 타겟기판으로부터 이탈되도록 상기 제1베이스기판을 상기 타겟기판으로부터 분리하는 분리단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여 간이한 방법으로 미세구조를 형성할 수 있는 미세구조 형성방법이 제공된다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01)
출원번호/일자 1020100107872 (2010.11.01)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1102012-0000 (2011.12.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20120104) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.11.01)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재관 대한민국 대전광역시 서구
2 박성제 대한민국 대전광역시 유성구
3 김사라 대한민국 대전광역시 유성구
4 김기돈 대한민국 서울특별시 중구
5 이지혜 대한민국 대전광역시 유성구
6 최준혁 대한민국 대전광역시 유성구
7 최대근 대한민국 대전광역시 유성구
8 서갑양 대한민국 서울특별시 관악구
9 정준호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0712407-62
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0067039-09
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0562985-81
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0948245-19
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.11.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0948205-04
9 등록결정서
Decision to grant		 2011.12.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0750066-57
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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도포되는 UV 경화성 물질에 UV를 조사하여 부분경화함으로써 형성되는 부분경화층을 가지는 고분자패턴을 제1베이스기판상에 마련하는 부분경화층 형성 단계;상기 부분경화층이 형성된 상기 제1베이스기판을 타겟물질이 도포된 타겟기판에 상기 부분경화층과 상기 타겟물질이 상호 접하도록 설치되는 단계;상기 타겟물질 중 상기 부분경화층과 접한 영역이 상기 부분경화층에 접착되도록 상기 부분경화층을 완전 경화시키는 경화단계; 상기 부분경화층에 접착된 타겟물질이 상기 제1베이스기판과 함께 상기 타겟기판으로부터 이탈되도록 상기 제1베이스기판을 상기 타겟기판으로부터 분리하는 분리단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 미세구조 형성방법
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제1항에 있어서,상기 타겟물질은 그래핀 또는 메탈 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 미세구조 형성방법
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제1항에 있어서, 상기 부분경화층은 레진으로 형성되는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 미세구조 형성방법
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제2항에 있어서,상기 부분경화된 제1베이스기판과 동일한 제2베이스 기판을 준비하는 단계;상기 제2베이스 기판을 상기 분리단계 이후에 형성된 기판에 상호 마주보도록 접촉시키는 단계;상기 제2베이스기판을 완전경화시키는 단계;상기 완전경화된 제2베이스기판을 상기 제1베이스기판으로부터 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분경화를 이용한 미세구조 형성방법
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