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삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법

  • 기술번호 : KST2015131453
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 발광다이오드 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 발광다이오드 제조방법은 발광다이오드(Light Emitting Diode ; LED) 발광면에 폴리에틸렌옥사이드-폴리메틸메타크릴레이트-폴리스티렌 삼중블록공중합체(poly(ethylene oxide-b-methyl methacrylate-b-styrene ; PEO-b-PMMA-PS)를 이용하여 삼중블록공중합체막을 형성한다. 그리고 삼중블록공중합체막이 폴리스티렌 기지(matrix) 영역 내에 발광다이오드 발광면에 수직한 폴리에틸렌옥사이드 영역과 폴리메틸메타크릴레이트 영역으로 이루어진 실린더 형상의 미세구조를 갖는 형태가 되도록, 삼중블록공중합체막을 어닐링한다. 그리고 어닐링된 삼중블록공중합체막 중 폴리에틸렌옥사이드 영역 및 폴리메틸메타크릴레이트 영역을 제거하여 나노패턴으로 이루어진 나노템플레이트를 형성하고, 나노템플레이트를 이용하여 발광다이오드 발광면을 식각한다. 본 발명에 따르면, 삼중블록공중합체를 이용하여 저온에서 두꺼운 나노템플레이트를 형성시킴으로서, 발광다이오드 발광면에 복수 개의 종장형 나노 홈을 규칙적으로 형성시킬 수 있어 우수한 광추출 효율을 갖는 발광다이오드를 제조할 수 있다.
Int. CL H01L 33/20 (2014.01) H01L 33/22 (2014.01)
CPC C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01)
출원번호/일자 1020080005966 (2008.01.21)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0951855-0000 (2010.04.01)
공개번호/일자 10-2009-0080149 (2009.07.24) 문서열기
공고번호/일자 (20100412) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.21)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김지현 대한민국 서울 성북구
2 방준하 대한민국 서울 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 송경근 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 ** (방배동) 기산빌딩 *층(엠앤케이홀딩스주식회사)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0046175-16
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.05 수리 (Accepted) 4-1-2008-5034712-96
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.07.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.08.14 수리 (Accepted) 9-1-2008-0053406-97
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0402346-60
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.10.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0629808-17
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0629799-94
9 등록결정서
Decision to grant
2010.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0128645-70
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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번호 청구항
1 1
발광다이오드(Light Emitting Diode ; LED) 발광면에 폴리에틸렌옥사이드-폴리메틸메타크릴레이트-폴리스티렌 삼중블록공중합체(poly(ethylene oxide-b-methyl methacrylate-b-styrene ; PEO-b-PMMA-PS)를 이용하여 삼중블록공중합체막을 형성하는 단계; 상기 삼중블록공중합체막이 폴리스티렌 기지(matrix) 영역 내에 상기 발광다이오드 발광면에 수직한 폴리에틸렌옥사이드 영역과 폴리메틸메타크릴레이트 영역으로 이루어진 실린더 형상의 미세구조를 갖는 형태가 되도록, 상기 삼중블록공중합체막을 어닐링하는 단계; 상기 어닐링된 삼중블록공중합체막 중 상기 폴리에틸렌옥사이드 영역 및 상기 폴리메틸메타크릴레이트 영역을 제거하여 나노패턴으로 이루어진 나노템플레이트를 형성하는 단계; 및 상기 나노템플레이트를 이용하여 상기 발광다이오드 발광면을 식각하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 삼중블록공중합체는 하기 식 1로 표시되고, 하기 식 1에서 m, n, p는 몰분율로서, p는 0
3 3
제1항에 있어서, 상기 삼중블록공중합체는 폴리스티렌 기지 영역 내에 폴리에틸렌옥사이드 영역과 폴리메틸메타크릴레이트 영역으로 이루어진 실린더 형상의 미세구조를 갖는 형태인 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 삼중블록공중합체막을 형성하는 단계는 상기 삼중블록공중합체를 2,000 내지 6,000 rpm의 속도로 스핀코팅하여 도포되는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 삼중블록공중합체막은 25 내지 300 nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 삼중블록공중합체의 수평균분자량은 15,000 내지 150,000인 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 삼중블록공중합체를 어닐링하는 단계는 용매를 통한 어닐링(solvent annealing) 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 용매는 벤젠인 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 용매를 통한 어닐링은 상온에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
10 10
제7항에 있어서, 상기 용매를 통한 어닐링은 상대습도 70 내지 90%의 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 폴리에틸렌옥사이드 영역과 폴리메틸메타크릴레이트 영역으로 이루어진 실린더 형상의 미세구조는 중심부가 폴리에틸렌옥사이드 영역으로 형성되고 외부가 폴리메틸메타크릴레이트 영역으로 이루어진 코어-셀(core-shell) 형태인 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 나노템플레이트를 형성하는 단계는, 상기 어닐링된 삼중블록공중합체막의 상부에서 200 내지 400 nm의 파장을 갖는 UV를 조사하여 상기 어닐링된 삼중블록공중합체막에 포함된 폴리메틸메타크릴레이트 영역을 제거하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
13 13
제1항에 있어서, 상기 나노패턴은 상기 발광다이오드 발광면에 수직한 실린더 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 발광다이오드 발광면에 수직한 실린더 형상의 직경은 20 내지 300nm인 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 발광다이오드 발광면을 식각하는 단계는 불소(F)를 함유하는 가스 및 염소(Cl)를 함유하는 가스 중 적어도 하나를 이용하여 식각하는 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 발광다이오드는 AlGaN, AlGaAs, GaN, SiC, Si, GaAs, SiGe, GaP 및 ZnO 중에서 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 삼중블록공중합체를 이용한 발광다이오드의 제조방법
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국가 R&D 정보가 없습니다.