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코드마크에 있어서,서로 다른 여기 파장(Excitation Wavelength)을 가지는 광들이 조사됨에 따라 서로 다른 방출 파장(Emission Wavelength)을 나타내는, 적어도 두 개 이상의 마크 물질들 중 제 1 마크 물질이 도포 또는 인쇄되는 제 1 마크층; 및상기 적어도 두 개 이상의 마크 물질들 중 제 2 마크 물질이 상기 제 1 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 제 2 마크층; 및 상기 제 1 마크층 또는 제 2 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 커버 물질을 포함하되, 상기 제 1 마크층은 제 1 형상을 형성하도록 도포 또는 인쇄되고,상기 제 2 마크층은 상기 제 1 형상과 다른 제 2 형상을 형성하도록 도포 또는 인쇄되는 것인 코드마크
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 형상 및 제 2 형상은 도형, 문자, 패턴, 기호, 부호, 이미지 중 적어도 하나인 것인, 코드마크
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제 1 항에 있어서,상기 커버 물질은 상기 제 1 형상 및 제 2 형상을 육안으로 식별할 수 없도록 일정 색상 및 일정 형상으로 상기 제 1 마크층 또는 제 2 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 것인, 코드마크
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제 1 항에 있어서,상기 커버 물질은 상기 제 1 형상 및 제 2 형상을 육안으로 식별할 수 없도록, 상기 제 1 마크 물질 및 제 2 마크 물질과 혼합되어 일정 색상을 가지며 상기 제 1 마크층 및 제 2 마크층을 형성하는 것인, 코드마크
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제 1 항에 있어서,상기 커버 물질은 상기 마크 물질들과 동일한 색상 또는 검정 색상인 것인, 코드마크
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 마크 물질은 서로 다른 염기서열을 가지는 적어도 두 개의 DNA들 중 제 1 DNA를 포함하고,상기 제 2 마크 물질은 상기 적어도 두 개의 DNA들 중 제 2 DNA를 포함하는 것인, 코드마크
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 DNA는 상기 제 1 마크 물질과 동일한 표지 물질에 의하여 표지 또는 상기 제 1 마크 물질로 염색되고,상기 제 2 DNA는 상기 제 2 마크 물질과 동일한 표지 물질에 의하여 표지 또는 상기 제 2 마크 물질로 염색되는 것인, 코드마크
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제 1 항에 있어서,상기 마크 물질은 형광 색소(Fluorochrome) 또는 퀀텀 닷(Quantum dot)이고, 상기 여기 파장 및 방출 파장의 중심 파장은 서로 다른 것인, 코드마크
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 마크층 및 상기 제 2 마크층과 서로 다른 여기 파장을 가지는 광들이 조사됨에 따라 서로 다른 방출 파장을 나타내는 제 3 마크 물질이 제 3 형상으로 도포 또는 인쇄되는 제 3 마크층을 더 포함하며,상기 제 1 마크층, 제 2 마크층 및 제 3 마크층의 여기 파장, 방출 파장 및 형상은 서로 다른 것인, 코드마크
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제 10 항에 있어서,상기 제 3 마크 물질은 상기 제 1 DNA 및 제 2 DNA와 서로 다른 염기서열을 가지는 제 3 DNA들을 더 포함하는 것인, 코드마크
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코드마크를 제조하는 방법에 있어서,여기 파장(Excitation Wavelength)을 가지는 광들이 조사됨에 따라 방출 파장(Emission Wavelength)을 나타내는 제 1 마크 물질로 제 1 형상을 가지는 제 1 마크층을 도포 또는 인쇄하는 단계; 및상기 제 1 마크 물질과 다른 여기 파장 및 방출 파장을 나타내는 제 2 마크 물질이 상기 제 1 마크층에 상기 제 1 형상과는 다른 제 2 형상의 제 2 마크층으로 적층되도록 도포 또는 인쇄하는 단계; 및상기 제 1 마크층 또는 제 2 마크층에 적층되도록 커버 물질을 도포 또는 인쇄하는 단계를 포함하는 코드마크 제조방법
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제 12 항에 있어서,상기 제 1 마크 물질은 서로 다른 염기서열을 가지는 적어도 두 개의 DNA들 중 제 1 DNA를 포함하고,상기 제 2 마크 물질은 상기 적어도 두 개의 DNA들 중 제 2 DNA를 포함하는 것인, 코드마크 제조방법
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코드마크를 인식하기 위한 시스템에 있어서,서로 다른 여기 파장(Excitation Wavelength)을 가지는 광들이 조사됨에 따라 서로 다른 방출 파장(Emission Wavelength)을 나타내는, 적어도 두 개 이상의 마크 물질들 중 제 1 마크 물질이 도포 또는 인쇄되는 제 1 마크층 및 상기 적어도 두 개 이상의 마크 물질들 중 제 2 마크 물질이 상기 제 1 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 제 2 마크층을 포함하는 코드마크; 및상기 코드마크의 서로 다른 여기 파장 또는 서로 다른 방출 파장을 필터링하여 상기 제 1 마크층 및 제 2 마크층을 인식하는 인식장치를 포함하되, 상기 코드마크는 상기 제 1 마크층 또는 제 2 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 커버 물질을 더 포함하되,상기 제 1 마크층은 제 1 형상을 형성하도록 도포 또는 인쇄되고,상기 제 2 마크층은 상기 제 1 형상과 다른 제 2 형상을 형성하도록 도포 또는 인쇄되는 것인 코드마크 인식 시스템
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제 14 항에 있어서,상기 제 1 마크 물질은 서로 다른 염기서열을 가지는 적어도 두 개의 DNA들 중 제 1 DNA를 포함하고,상기 제 2 마크 물질은 상기 적어도 두 개의 DNA들 중 제 2 DNA를 포함하는 것인, 코드마크 인식 시스템
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제 15 항에 있어서,상기 코드마크의 제 1 마크 물질 및 제 2 마크 물질을 식별하기 위하여, 상기 제 1 DNA와 제 2 DNA가 수소 결합을 이루는 혼성화(DNA Hybridization)하기 위한 DNA 칩을 더 포함하는 것인, 코드마크 인식 시스템
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제 14 항에 있어서,상기 인식 장치에는 상기 서로 다른 여기 파장 또는 서로 다른 방출 파장을 식별하는 다중 파장 필터 또는 적어도 두 개의 단파장 필터가 내장 또는 내장된 것인, 코드마크 인식 시스템
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코드마크를 인식하기 위한 방법에 있어서,코드마크와 인식 대상을 매칭하여 데이터베이스화하는 단계;서로 다른 여기 파장(Excitation Wavelength)을 가지는 광들이 조사됨에 따라 서로 다른 방출 파장(Emission Wavelength)을 나타내는, 적어도 두 개 이상의 마크 물질들 중 제 1 마크 물질이 도포 또는 인쇄되는 제 1 마크층 및 상기 적어도 두 개 이상의 마크 물질들 중 제 2 마크 물질이 상기 제 1 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 제 2 마크층을 포함하는 상기 코드마크에, 상기 서로 다른 여기 파장을 가지는 광들을 순차적으로 조사하는 단계;상기 여기 파장으로 인해 방출되는 상기 서로 다른 방출 파장을 순차적으로 인식하는 단계; 및상기 인식된 상기 코드마크와 상기 인식 대상을 매칭하여 상기 인식 대상을 검색하는 단계를 포함하되, 상기 코드마크는 상기 제 1 마크층 또는 제 2 마크층에 적층되도록 도포 또는 인쇄되는 커버 물질을 더 포함하되,상기 제 1 마크층은 제 1 형상을 형성하도록 도포 또는 인쇄되고,상기 제 2 마크층은 상기 제 1 형상과 다른 제 2 형상을 형성하도록 도포 또는 인쇄되는 것인 코드마크 인식방법
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제 18 항에 있어서,상기 제 1 마크 물질은 서로 다른 염기서열을 가지는 적어도 두 개의 DNA들 중 제 1 DNA를 포함하고,상기 제 2 마크 물질은 상기 적어도 두 개의 DNA들 중 제 2 DNA를 포함하는 것인, 코드마크 인식방법
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제 18 항에 있어서,상기 코드마크의 제 1 마크 물질 및 제 2 마크 물질을 식별하기 위하여, 상기 제 1 DNA와 제 2 DNA가 수소 결합을 이루는 혼성화(DNA Hybridization) 단계를 더 포함하는 것인, 코드마크 인식방법
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