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기판 상에 형성된 애노드 전극;상기 애노드 전극 상부에 형성된 금속막;상기 금속막 상부에 형성된 유기층; 및상기 유기층 상부에 형성된 캐소드 전극을 포함하며,상기 애노드 전극은 금(Au) 박막으로 형성된 유기 전계 발광 소자
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기판 상에 형성된 애노드 전극;상기 애노드 전극 상부에 형성된 절연막;상기 절연막 상부에 형성된 유기층; 및상기 유기층 상부에 형성된 캐소드 전극을 포함하며,상기 애노드 전극은 금(Au) 박막으로 형성된 유기 전계 발광 소자
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제 1 항에 있어서, 상기 금속막은 알루미늄막인 유기 전계 발광 소자
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삭제
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 기판, 유리 기판 및 플라스틱 기판중 어느 하나인 유기 전계 발광 소자
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제 5 항에 있어서, 상기 실리콘 기판은 붕소 또는 질소가 도핑된 기판을 포함하는 유기 전계 발광 소자
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제 5 항에 있어서, 상기 실리콘 기판은 에칭된 기판을 포함하는 유기 전계 발광 소자
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제 1 항에 있어서, 상기 유기층은 홀 주입층, 홀 전달층, 유기 발광층 및 전자 주입층을 포함하는 유기 전계 발광 소자
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기판이 제공되는 단계;상기 기판 상부에 금(Au) 박막을 증착하여 애노드 전극을 형성하는 단계;상기 애노드 전극 상부에 유기층을 형성하는 단계; 및상기 유기층 상부에 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 애노드 전극, 유기층 및 캐소드 전극은 이배포레이터를 이용하여 인-시투로 형성되는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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10
기판이 제공되는 단계;상기 기판 상부에 금(Au) 박막을 증착하여 애노드 전극을 형성하는 단계;상기 애노드 전극 상부에 금속막을 형성하는 단계;상기 금속막 상부에 유기층을 형성하는 단계; 및상기 유기층 상부에 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 애노드 전극, 금속막, 유기층 및 캐소드 전극은 이배포레이터를 이용하여 인-시투로 형성되는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 금속막은 알루미늄막인 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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기판이 제공되는 단계;상기 기판 상부에 금(Au) 박막을 증착하여 애노드 전극을 형성하는 단계;상기 애노드 전극 상부에 절연막을 형성하는 단계;상기 절연막 상부에 유기층을 형성하는 단계; 및상기 유기층 상부에 캐소드 전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 애노드 전극, 절연막, 유기층 및 캐소드 전극은 이배포레이터를 이용하여 인-시투로 형성되는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제 12항에 있어서, 상기 절연막을 형성하는 단계는,상기 애노드 전극 상부에 금속막을 형성하는 단계;상기 금속막에 산소 플라즈마 처리를 실시하여 상기 금속막을 상기 절연막으로 변화시키는 단계를 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 산소 플라즈마 처리는 약 200W의 전력을 인가하여 약 100초 동안 실시하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 금속막은 알루미늄막이고, 상기 절연막은 알루미늄 산화막인 유기 전계 발광 소자의 제조 방법
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