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탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법

  • 기술번호 : KST2015140924
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 탐침 현미경을 이용하여 특정 조건에서 리소그래피를 수행하고, 상기 특정 조건에 따른 리소그래피 결과를 데이터베이스로 구축하여 이를 기초로 수학적 모델을 도출한 후, 상기 수학적 모델을 이용하여 리소그래피를 수행함으로써, 시행착오 없이 사용자가 원하는 형태의 나노 구조물을 반복하여 제작할 수 있는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법에 관한 것이다.이를 위해, 탐침 및 캔틸레버를 포함하여 구성되는 탐침 현미경을 이용하여 샘플 상에 리소그래피를 수행하는 장치에 있어서, 상기 장치는,상기 탐침 현미경의 탐침 또는 샘플에 일정시간 동안 전압을 인가하는 전압인가 수단;상기 인가된 전압에 의하여 발생된 전류를 측정하는 전류검출 수단; 상기 리소그래피가 수행되는 환경의 온도 및 습도를 제어하는 환경제어 수단; 상기 샘플 상에 형성된 나노구조물의 높이를 측정하는 표면측정 수단;상기 인가된 전압의 크기, 전압 인가 시간, 발생된 전류, 환경의 온도 및 습도, 형성된 나노구조물의 높이를 포함하여 구성되는 데이터베이스를 구축하고, 상기 데이터베이스를 기초로 상기 샘플의 산화 모델을 계산하는 중앙제어 수단;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치를 제공한다.탐침 현미경, 리소그래피, 나노 구조물 제조 공정, 데이터베이스, 원자 힘 현미경, SPM, AFM, Lithography, Nano pattern.
Int. CL G01Q 80/00 (2017.01.01) H01J 37/295 (2006.01.01) H01L 21/033 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01)
CPC G01Q 80/00(2013.01) G01Q 80/00(2013.01) G01Q 80/00(2013.01) G01Q 80/00(2013.01)
출원번호/일자 1020070104876 (2007.10.18)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0882555-0000 (2009.02.02)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20090212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.18)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이해원 대한민국 경기 성남시 분당구
2 정정주 대한민국 서울 광진구
3 한철수 대한민국 경기 수원시 팔달구
4 권광민 대한민국 서울 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임승섭 대한민국 서울특별시 종로구 율곡로*길 *(수송동, 로얄팰리스스위트) ***호(특허법인임앤정)
2 송경근 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 ** (방배동) 기산빌딩 *층(엠앤케이홀딩스주식회사)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2007-0744988-67
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2007.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-5086150-17
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2008.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0026029-01
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.04.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.05.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0029214-19
7 등록결정서
Decision to grant		 2008.11.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0569901-82
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
탐침 및 캔틸레버를 포함하여 구성되는 탐침 현미경을 이용하여 샘플 상에 리소그래피를 수행하는 장치에 있어서, 상기 장치는,상기 탐침 현미경의 탐침 또는 샘플에 일정시간 동안 전압을 인가하는 전압인가 수단;상기 인가된 전압에 의하여 발생된 전류를 측정하는 전류검출 수단; 상기 리소그래피가 수행되는 환경의 온도 및 습도를 제어하는 환경제어 수단; 상기 샘플 상에 형성된 나노구조물의 높이를 측정하는 표면측정 수단;상기 인가된 전압의 크기, 전압 인가 시간, 발생된 전류, 환경의 온도 및 습도, 형성된 나노구조물의 높이를 포함하여 구성되는 데이터베이스를 구축하고, 상기 데이터베이스를 기초로 상기 샘플의 산화 모델을 계산하는 중앙제어 수단;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치
2 2
청구항 1에 있어서,상기 중앙제어 수단은,커브 핏(curve fit) 알고리즘을 이용하여 상기 데이터베이스를 기초로 샘플의 산화 모델을 계산하는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치
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청구항 1에 있어서,상기 표면측정 수단은, 상기 캔틸레버 상에 레이저를 입사시키는 레이저 방출 수단;및상기 켄틸레버에 의하여 반사된 레이저를 입력받는 광센서(Photo Sensitive Detector, PSD);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치
4 4
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,상기 중앙제어수단은,사용자에 의하여 입력된, 전압의 크기, 전압 인가 시간, 온도 및 습도 중에서 선택된 어느 하나 이상의 리소그래피 조건을 저장하고, 상기 조건에 따라 상기 전압인가 수단 및 상기 환경제어 수단을 제어해서 다트 리소그래피(dot lithography)를 수행하여 나노구조물을 형성한 다음,상기 표면측정 수단에 의하여 측정된 나노구조물의 높이를 저장하여 데이터베이스를 구축하는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치
5 5
청구항 4에 있어서,상기 전류검출수단은 상기 조건에 따라 리소그래피를 수행 시, 상기 인가되는 전압에 의해 발생되는 전류를 측정하고, 상기 중앙제어수단은 상기 측정된 전류를 저장하여 데이터베이스를 구축하는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치
6 6
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,상기 중앙제어수단은, 사용자에 의하여 입력된 나노구조물의 크기에 따라, 상기 데이터베이스의 산화 모델을 이용하여 전압의 크기, 전압 인가 시간, 온도 및 습도 중에서 선택된 어느 하나 이상의 조건을 산출하고, 상기 산출된 조건에 따라 상기 전압인가 수단 또는 상기 환경제어 수단을 제어하여 다트 리소그래피를 수행하는 것을 특징으로 하는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치
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