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반도체 패키지용 방수 조성물에 있어서,상기 반도체 패키지용 방수 조성물은 비스페놀 A형(Bisphenol-A), 비스페놀 F형, 노볼락 타입 에폭시(Novolac Type Epoxy), 난연성 에폭시(Brominated Epoxy), 사이클로알리퍼틱 에폭시(Cycloaliphatic Epoxy) 및 루버 모디파이드 에폭시(Rubber Epoxy)로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나 이상의 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 100~300nm 크기의 클레이 1-5 중량부가 포함되며,상기 반도체 패키지용 방수 조성물은 초음파로 처리되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지용 방수 조성물
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제 1항에 있어서,상기 클레이가 포함되기 전의 반도체 패키지용 방수 조성물은 비스페놀 A형(Bisphenol-A), 비스페놀 F형, 노볼락 타입 에폭시(Novolac Type Epoxy), 난연성 에폭시(Brominated Epoxy), 사이클로알리퍼틱 에폭시(Cycloaliphatic Epoxy) 및 루버 모디파이드 에폭시(Rubber Epoxy)로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나 이상의 에폭시 수지가 20중량%이상으로 포함되어 이루어지는 반도체 패키지용 방수 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 방수 조성물은 반도체 패키지의 제조 과정에서 접착제(Adhesive), EMC(Epoxy molding compound), 언더필(Underfill) 및 흡착제로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나 이상의 용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지용 방수 조성물
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제 1항에 있어서,상기 클레이가 포함된 반도체 패키지용 방수 조성물은 클레이가 포함되기 전의 방수 조성물에 비해 수분 흡수율이 40%이상 감소된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지용 방수 조성물
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제 1항에 있어서,상기 클레이가 포함된 반도체 패키지용 방수 조성물은 클레이가 포함되기 전의 방수 조성물에 비해 수분 또는 습기에 24시간 노출된 후의 접착 강도가 65%이상 증가된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지용 방수 조성물
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제 1항에 따른 반도체 패키지용 방수 조성물을 포함하는 반도체 패키지
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반도체 패키지용 방수 조성물의 제조방법에 있어서,1) 비스페놀 A형(Bisphenol-A), 비스페놀 F형, 노볼락 타입 에폭시(Novolac Type Epoxy), 난연성 에폭시(Brominated Epoxy), 사이클로알리퍼틱 에폭시(Cycloaliphatic Epoxy) 및 루버 모디파이드 에폭시(Rubber Epoxy)로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나 이상의 에폭시 수지를 포함하는 방수 조성물 100 중량부에 대하여 100~300nm 크기의 클레이 1-5 중량부를 혼합하는 단계; 및2) 상기 혼합 후 초음파 처리하는 단계;를 포함하는 반도체 패키지용 방수 조성물의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 초음파 처리는 25분 내지 30분 동안 처리하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지용 방수 조성물의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 클레이가 혼합되기 전의 반도체 패키지용 방수 조성물은 비스페놀 A형(Bisphenol-A), 비스페놀 F형, 노볼락 타입 에폭시(Novolac Type Epoxy), 난연성 에폭시(Brominated Epoxy), 사이클로알리퍼틱 에폭시(Cycloaliphatic Epoxy) 및 루버 모디파이드 에폭시(Rubber Epoxy)로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나 이상의 에폭시 수지가 20중량% 이상으로 포함되어 이루어지는 반도체 패키지용 방수 조성물의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 방수 조성물은 반도체 패키지의 제조 과정에서 접착제(Adhesive), EMC(Epoxy molding compound), 언더필(Underfill) 및 흡착제로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나 이상의 용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지용 방수 조성물의 제조방법
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