맞춤기술찾기
이전대상기술
타겟용 위치가변유니트 및 이를 갖는 반도체 소자 제조용펄스파 레이저 증착설비
- 기술번호 : KST2015142356
- 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
- 전화번호 : 02-6124-6930
| 요약 | 본 발명은 타겟용 위치가변유니트를 제공한다. 상기 타겟용 위치가변유니트는 그 중심으로부터 방사형상으로 배치되며 타겟이 고정되는 타겟 홀더들을 갖는 타겟 고정체와, 타겟 고정체의 중심과 제 1회전축으로 연결되어 타겟 고정체를 회전시키는 제 1구동부와, 타겟 홀더들 각각의 중심과 제 2회전축으로 연결되어 타겟 홀더들 각각을 회전시키는 제 2구동부들과, 타겟 홀더를 회전시킴과 동시에 타겟 홀더의 폭 만큼의 회전범위로 타겟 고정체를 왕복 회전시키도록 제 1구동부와 제 2구동부를 제어하는 제어부와, 타겟 홀더에 연결되어 타겟 고정체 상에서 제 1회전축과 타겟 홀더 사이의 거리를 변화시키는 위치가변수단을 포함한다. 또한, 본 발명은 상기 타겟용 위치가변유니트를 갖는 반도체 소자 제조용 펄스파 레이저 증착설비도 제공함으로써, 타겟으로의 레이저 광이 조사되는 조사영역을 확대하여 레이저 광에 의하여 타격되는 타겟의 영역을 넓힐 수 있다. |
|---|---|
| Int. CL | H01L 21/687 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) |
| CPC | H01L 21/687(2013.01) H01L 21/687(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020070026475 (2007.03.19) |
| 출원인 | 한양대학교 산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-0854407-0000 (2008.08.20) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20080826) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2007.03.19) |
| 심사청구항수 | 10 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한양대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성동구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김은규 | 대한민국 | 서울 성동구 |
| 2 | 김재훈 | 대한민국 | 서울 강남구 |
| 3 | 송후영 | 대한민국 | 서울 용산구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이봉진 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)(유미특허법인) |
| 2 | 장수영 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, *층(역삼동, 대아빌딩)(특허법인 신우) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한양대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 성동구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 Patent Application |
2007.03.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0216265-81 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2007.12.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2008.01.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0000337-14 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2008.03.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5037763-28 |
| 5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.03.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0145160-23 |
| 6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2008.05.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0340581-69 |
| 7 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2008.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0372274-41 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.05.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0372277-88 |
| 9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0372279-79 |
| 10 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.08.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0432452-15 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.06.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5068294-39 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5022074-70 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5155816-75 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5156285-09 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 그 중심으로부터 방사형상으로 배치되며 타겟이 고정되는 타겟 홀더들을 갖는 타겟 고정체;상기 타겟 고정체의 중심과 제 1회전축으로 연결되어 상기 타겟 고정체를 회전시키는 제 1구동부;상기 타겟 홀더들 각각의 중심과 제 2회전축으로 연결되어 상기 타겟 홀더들 각각을 회전시키는 제 2구동부들; 및상기 타겟 홀더를 회전시킴과 동시에 상기 타겟 홀더의 폭 만큼의 회전범위로 상기 타겟 고정체를 왕복 회전시키도록 상기 제 1구동부와 상기 제 2구동부를 제어하는 제어부; 및상기 타겟 홀더에 연결되어 상기 타겟 고정체 상에서 상기 제 1회전축과 상기 타겟 홀더 사이의 거리를 변화시키는 위치가변수단을 포함하는 타겟용 위치가변유니트 |
| 2 |
2 제1항에 있어서,상기 타겟을 향하여 레이저 광을 조사하는 광 조사부를 구비하고,상기 제어부는 상기 제 1구동부로 전기적 신호를 전송하여, 상기 레이저 광이 상기 타겟으로 조사되도록 상기 타겟 고정체를 회전시키는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트 |
| 3 |
3 제1항에 있어서,상기 위치가변수단은,일단이 상기 제 2회전축에 연결되고 타단이 상기 타겟 고정체에 연결되어 상기 제 1회전축을 향해 상기 타겟 홀더에 탄성력을 제공하는 탄성스프링과, 상기 타겟 홀더의 외주면에 접하고 그 중심이 상기 타겟 고정체와 제 3회전축으로 연결되어 회전되는 타원형상의 회전체를 구비하는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트 |
| 4 |
4 제1항에 있어서,상기 위치가변수단은,상기 타겟 홀더에 연결되는 엑스축 레일과, 상기 엑스축 레일에 연결되는 와이축 레일과, 상기 타겟 홀더를 상기 엑스축 레일을 따라 이동시키는 엑스축 실린더와, 상기 와이축 레일을 와이축을 따라 이동시키는 와이축 실린더를 구비하는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트 |
| 5 |
5 그 중심으로부터 방사형상으로 배치되며 타겟이 고정되는 타겟 홀더들을 갖는 타겟 고정체와, 상기 타겟 고정체의 중심과 제 1회전축으로 연결되어 상기 타겟 고정체를 회전시키는 제 1구동부와, 상기 타겟 홀더들 각각의 중심과 제 2회전축으로 연결되어 상기 타겟 홀더들 각각을 회전시키는 제 2구동부들과, 상기 제 1구동부 및 상기 제 2구동부와 전기적으로 연결되어 상기 제 1,2구동부를 구동시키고 상기 제 1구동부로 구동신호를 전송하여 상기 타겟 고정체를 상기 타겟 고정체의 중심으로부터 상기 타겟 홀더의 폭을 회전범위로 하여 회전시키는 제어부와, 상기 타겟 홀더에 연결되는 위치가변수단을 포함하며,상기 타겟을 향하여 레이저 광을 조사하는 광 조사부를 구비하고, 상기 제어부는 상기 제 1구동부로 전기적 신호를 전송하여 상기 레이저 광이 상기 타겟으로 조사되도록 상기 타겟 고정체를 회전시키며,상기 위치가변수단은 일단이 상기 제 2회전축에 연결되고 타단이 상기 타겟 고정체에 연결되어 상기 타겟 고정체의 중심을 향해 상기 타겟 홀더에 탄성력을 제공하는 탄성스프링과, 상기 타겟 홀더의 외주면에 접하고 그 중심이 상기 타겟 고정체와 제 3회전축으로 연결되어 회전되는 타원형상의 회전체를 구비하는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트 |
| 6 |
6 내부에 진공이 형성되는 챔버;상기 챔버의 내부에 설치되며, 웨이퍼가 안착되는 척;상기 챔버의 내부로 공정가스를 공급하는 가스공급부;상기 척과 대응되는 방향으로 일정거리 이격되도록 상기 챔버의 내부에 설치되며, 그 중심으로부터 방사형상으로 배치되며 상기 웨이퍼 상에 증착되는 타겟이 고정되는 타겟 홀더들을 갖는 타겟 고정체;상기 타겟을 향하여 레이저 광을 조사하는 광 조사부;상기 타겟 고정체의 중심과 제 1회전축으로 연결되어 상기 타겟 고정체를 회전시키는 제 1구동부;상기 타겟 홀더들 각각의 중심과 제 2회전축으로 연결되어 상기 타겟 홀더들 각각을 회전시키는 제 2구동부들; 및상기 타겟 홀더를 회전시킴과 동시에 상기 타겟 홀더의 폭 만큼의 회전범위로 상기 타겟 고정체를 왕복 회전시키도록 상기 제 1구동부와 상기 제 2구동부를 제어하는 제어부; 및상기 타겟 홀더에 연결되어 상기 타겟 고정체 상에서 상기 제 1회전축과 상기 타겟 홀더 사이의 거리를 변화시키는 위치가변수단을 포함하는 타겟용 위치가변유니트를 갖는 반도체 소자 제조용 펄스파 레이저 증착설비 |
| 7 |
7 제6항에 있어서,상기 제어부는 상기 제 1구동부로 전기적 신호를 전송하여, 상기 레이저 광이 상기 타겟으로 조사되도록 상기 타겟 고정체를 회전시키는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트를 갖는 반도체 소자 제조용 펄스파 레이저 증착설비 |
| 8 |
8 제6항에 있어서,상기 위치가변수단은,일단이 상기 제 2회전축에 연결되고 타단이 상기 타겟 고정체에 연결되어 상기 제1 회전축을 향해 상기 타겟 홀더에 탄성력을 제공하는 탄성스프링과, 상기 타겟 홀더의 외주면에 접하고 그 중심이 상기 타겟 고정체와 제 3회전축으로 연결되어 회전되는 타원형상의 회전체를 구비하는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트를 갖는 반도체 소자 제조용 펄스파 레이저 증착설비 |
| 9 |
9 제6항에 있어서,상기 위치가변수단은,상기 타겟 홀더에 연결되는 엑스축 레일과, 상기 엑스축 레일에 연결되는 와이축 레일과, 상기 타겟 홀더를 상기 엑스축 레일을 따라 이동시키는 엑스축 실린더와, 상기 와이축 레일을 와이축을 따라 이동시키는 와이축 실린더를 구비하는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트를 갖는 반도체 소자 제조용 펄스파 레이저 증착설비 |
| 10 |
10 내부에 진공이 형성되는 챔버와, 상기 챔버의 내부에 설치되며, 웨이퍼가 안착되는 척과, 상기 챔버의 내부로 공정가스를 공급하는 가스공급부와, 상기 척과 대응되는 방향으로 일정거리 이격되도록 상기 챔버의 내부에 설치되며 그 중심으로부터 방사형상으로 배치되며 상기 웨이퍼 상에 증착되는 타겟이 고정되는 타겟 홀더들을 갖는 타겟 고정체와, 상기 타겟을 향하여 레이저 광을 조사하는 광 조사부와, 상기 타겟 고정체의 중심과 제 1회전축으로 연결되어 상기 타겟 고정체를 회전시키는 제 1구동부와, 상기 타겟 홀더들 각각의 중심과 제 2회전축으로 연결되어 상기 타겟 홀더들 각각을 회전시키는 제 2구동부들과, 상기 제 1구동부와 상기 제 2구동부와 전기적으로 연결되어 상기 제 1,2구동부를 구동시키고 상기 제 1구동부로 구동신호를 전송하여 상기 타겟 고정체를 상기 타겟 고정체의 중심으로부터 상기 타겟 홀더의 폭을 회전범위로 하여 회전시키는 제어부와, 상기 타겟 홀더에 연결되는 위치가변수단을 포함하며,상기 제어부는 상기 제 1구동부로 전기적 신호를 전송하여 상기 레이저 광이 상기 타겟으로 조사되도록 상기 타겟 고정체를 회전시키는 것이고,상기 위치가변수단은 상기 타겟 홀더에 연결되는 엑스축 레일과, 상기 엑스축 레일에 연결되는 와이축 레일과, 상기 타겟 홀더를 상기 엑스축 레일을 따라 이동시키는 엑스축 실린더와, 상기 와이축 레일을 와이축을 따라 이동시키는 와이축 실린더를 구비하는 것을 특징으로 하는 타겟용 위치가변유니트를 갖는 반도체 소자 제조용 펄스파 레이저 증착설비 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-0854407-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20070319 출원 번호 : 1020070026475 공고 연월일 : 20080826 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080820 청구범위의 항수 : 10 유별 : H01L 21/203 발명의 명칭 : 타겟용 위치가변유니트 및 이를 갖는 반도체 소자 제조용펄스파 레이저 증착설비 존속기간(예정)만료일 : 20160821 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 258,000 원 | 2008년 08월 21일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2011년 07월 11일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2012년 07월 10일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 260,000 원 | 2013년 06월 28일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 480,000 원 | 2014년 07월 03일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 480,000 원 | 2015년 06월 30일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허출원서 | 2007.03.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0216265-81 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2007.12.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2008.01.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0000337-14 |
| 4 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2008.03.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2008-5037763-28 |
| 5 | 의견제출통지서 | 2008.03.14 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0145160-23 |
| 6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2008.05.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0340581-69 |
| 7 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2008.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0372274-41 |
| 8 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.05.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0372277-88 |
| 9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.05.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0372279-79 |
| 10 | 등록결정서 | 2008.08.20 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0432452-15 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.06.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5068294-39 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5022074-70 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5155816-75 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.06 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5156285-09 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1350010118 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2005-01416 |
| 연구과제명 | 스피닉스응용을위한반도체와자성체이종접합양자구조연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 한양대학교 |
| 성과제출연도 | 2006 |
| 연구기간 | 200504~200703 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1355051042 |
|---|---|
| 세부과제번호 | R11-2002-099-04003-0 |
| 연구과제명 | 광자-전하/스핀물성융합연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 한양대학교 |
| 성과제출연도 | 2007 |
| 연구기간 | 200503~200802 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1345076074 |
|---|---|
| 세부과제번호 | R11-2002-099-06002-0 |
| 연구과제명 | 광자-전하/스핀물성융합연구 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 한양대학교 |
| 성과제출연도 | 2008 |
| 연구기간 | 200803~201102 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1350010118 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2005-01416 |
| 연구과제명 | 스피닉스응용을위한반도체와자성체이종접합양자구조연구 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 한양대학교 |
| 성과제출연도 | 2006 |
| 연구기간 | 200504~200703 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
| [1020080104668] | 센서 테스트 장치(DEVICE FOR TESTING HYDROGEN SENSOR) | 새창보기 |
|---|---|---|
| [1020080098870] | 유전체 박막의 기둥미세구조의 증착방법 및 그에 따른 유전체 박막 구조 | 새창보기 |
| [1020080090705] | 마이크로 자이로 장치 | 새창보기 |
| [1020080062756] | 세포 또는 생체 조직의 라만 신호 영상화 방법 및 장치(Method for imaging Raman spectroscopy of biologic tissues and cells and an apparatus using the same) | 새창보기 |
| [1020080049420] | 수소 광센서(Optical Hydrogen Sensor) | 새창보기 |
| [1020080041111] | 내구성이 개선된 수소센서용 가스채색 박막 및 이를포함하는 수소센서(Gasochromic Thin Film for Hydrogen Sensor with Improved Durability and Hydrogen Sensor Containing the Same) | 새창보기 |
| [1020080037106] | 광섬유 커넥터 | 새창보기 |
| [1020070119250] | 실리콘 카바이드 나노입자를 이용한 비휘발성 메모리 소자 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
| [1020070049604] | 편광 발광다이오드 | 새창보기 |
| [1020070026475] | 타겟용 위치가변유니트 및 이를 갖는 반도체 소자 제조용펄스파 레이저 증착설비 | 새창보기 |
| [1020060124448] | 나노 부유 게이트형 비휘발성 반도체 메모리 소자 및 이의제조방법 | 새창보기 |
| [1020060067203] | 나노 부유게이트형 비휘발성 메모리소자 | 새창보기 |
| [1020060045461] | 자외선 수광소자의 제조방법 | 새창보기 |
| [1020060039787] | 금 나노 입자를 이용한 나노 부유 게이트형 비휘발성메모리 소자의 제조방법 | 새창보기 |
| [1020050065736] | 금속 나노입자를 갖는 비휘발성 메모리 단위 소자의 제조방법 | 새창보기 |
중요키워드
| [KST2020014449][한양대학교] | 고이동도 이황화주석 박막의 제조방법 | 새창보기 |
|---|---|---|
| [KST2016017872][한양대학교] | 아연 산질화물을 포함하는 박막, 그 제조 방법, 및 이를 포함하는 트랜지스터(thin film comprising Zinc oxynitride, method of fabricating the same, and transistor comprising the same) | 새창보기 |
| [KST2019020402][한양대학교] | 전자파 조사를 이용한 주석계 산화물 박막 제조 방법 | 새창보기 |
| [KST2019000731][한양대학교] | 산화물 반도체 박막 트랜지스터 및 이의 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2021007768][한양대학교] | 듀얼 게이트 트랜지스터 및 그 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2019001167][한양대학교] | 절연막의 제조 방법, 및 이를 이용한 절연막 | 새창보기 |
| [KST2020008739][한양대학교] | 트랜지스터, 패널 및 트랜지스터의 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2023005994][한양대학교] | 분자선 구조를 갖는 다층 분자막 포토레지스트의 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2016013377][한양대학교] | 박막의 제조 방법(Method of fabricating a layer) | 새창보기 |
| [KST2014039994][한양대학교] | Ｇｅ계 반도체층 상에 유전막을 형성하는 방법 및 이를 이용한 반도체 소자 제조 방법 | 새창보기 |
| [KST2020009730][한양대학교] | 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2019003883][한양대학교] | 막 제조방법 및 그 제조장치 | 새창보기 |
| [KST2019003885][한양대학교] | 금속 산화물 트랜지스터 및 그 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2015141952][한양대학교] | 열처리 장치 | 새창보기 |
| [KST2018011237][한양대학교] | 반도체 박막의 제조 방법 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 | 새창보기 |
| [KST2020011809][한양대학교] | 고유전율 트랜지스터 및 그 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2015141573][한양대학교] | 웨이퍼 절단 장치 | 새창보기 |
| [KST2018010583][한양대학교] | 웨이퍼 본딩 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 삼차원 구조의 반도체 반도체 소자 | 새창보기 |
| [KST2019013609][한양대학교] | SOI 웨이퍼와 열처리 공정을 이용한 박막 형성 및 전사 방법 | 새창보기 |
| [KST2015141553][한양대학교] | 정전분무 슬러리 증착 공정을 이용한 내플라즈마 세라믹층 형성방법 및 이를 이용한 리프트 핀의 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2020008753][한양대학교] | 주석산화물층, 이를 채널층으로 포함하는 박막트랜지스터, 및 박막트랜지스터의 제조방법 | 새창보기 |
| [KST2019000733][한양대학교] | IGO 박막의 제조 방법, 및 IGO 박막 트랜지스터 | 새창보기 |
| [KST2018011642][한양대학교] | 수소화물 기상증착법(HVPE)을 이용한 질화갈륨 기판의 제조 방법 | 새창보기 |
| [KST2020011814][한양대학교] | 표시 장치 및 이의 제조 방법 | 새창보기 |
| [KST2019030916][한양대학교] | 금속/칼코겐 화합물을 포함하는 박막의 제조 방법 | 새창보기 |
| [KST2016008214][한양대학교] | 감광성 유리를 이용한 EUV 리소그래피용 펠리클 제조방법(Method of manufacturing Pellicle for EUV Lithography using Photosensitive glass) | 새창보기 |
| [KST2020008752][한양대학교] | 단결정 반도체층 제조방법, 단결정 반도체층을 포함하는 구조체, 및 상기 구조체를 포함하는 반도체 소자 | 새창보기 |
| [KST2021002651][한양대학교] | 탄소 함유 박막의 증착방법 | 새창보기 |
| [KST2016016908][한양대학교] | 박막, 그 제조 방법, 및 그 제조 장치(Thin film, method of fabricating the same, apparatus for fabricating the same) | 새창보기 |
| [KST2018000521][한양대학교] | 투명 활성층, 이를 포함하는 박막 트랜지스터, 및 그 제조 방법(Transparent active layer, thin film transistor comprising the same, and method of fabricating of the thin film transistor) | 새창보기 |
| 심판사항 정보가 없습니다 |
|---|