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도핑된 메조다공성 이산화티타늄 마이크로스피어 입자 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015143805
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 개시에서는, 금속 또는 비금속 물질로 효과적으로 도핑된 메조다공성 TiO2 마이크로스피어 입자를 대량으로 생산할 수 있는 "도핑된 메조다공성 TiO2 마이크로스피어 입자 제조 방법"을 제공한다. 본 개시의 제조방법에 있어서, 기공 크기가 확장된 Ti 전구체 기반 메조다공성 마이크로스피어 입자에 도핑물질 전구체 함유 용액을 함침시킴으로써, 예를 들어 아세트산 아연과 같은 도핑물질 전구체의 분자 크기가 비교적 크더라도, 도핑물질 전구체는 Ti 전구체 기반 메조다공성 마이크로스피어 입자의 확장된 기공에 용이하게 채워질 수 있다.
Int. CL B01J 6/00 (2006.01) B01J 2/00 (2006.01) C01G 23/047 (2006.01)
CPC C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01) C01G 23/047(2013.01)
출원번호/일자 1020120149751 (2012.12.20)
출원인 삼성전자주식회사, 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0080204 (2014.06.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박영준 대한민국 경기 수원시 영통구
2 강대준 대한민국 경기 수원시 장안구
3 차승남 대한민국 서울 광진구
4 손정인 대한민국 경기 화성
5 알리 자히드 파키스탄 경기 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-1060547-88
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
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번호 청구항
1 1
(a) 제1용매 중에서 티타늄 전구체와 탄소함유 표면방향제어제를 혼합하여 티타늄-탄소 복합 입자를 형성하는 단계;(b) 상기 티타늄-탄소 복합 입자를 용해열 처리하여, 상기 티타늄-탄소 복합 입자로부터 탄소를 제거함으로써, 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자를 형성하는 단계;(c) 상기 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자에 도핑물질 전구체 함유 용액을 함침하여, 상기 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자의 기공에 상기 도핑물질 전구체 함유 용액을 채움으로써, 함침된 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자를 형성하는 단계; 및(d) 상기 함침된 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자를 열처리하여, 상기 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자를 티타늄옥사이드 메조다공성 마이크로스피어 입자로 전환하고, 상기 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자의 기공 내의 상기 도핑물질 전구체를 도핑물질로 전환시킴으로써, 도핑된 티타늄옥사이드 메조다공성 마이크로스피어 입자를 형성하는 단계;를 포함하는,도핑된 티타늄옥사이드 메조다공성 마이크로스피어 입자 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 티타늄 전구체가 티타늄 이소프로폭사이드, 티타늄 에톡사이드, 티타늄 부톡사이드, 티타늄 테트라이소프로폭사이드, 티타늄 테트라클로라이드, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 표면방향 제어제가 헥사데실아민, 트리블록 코폴리머 P123(PEO20PPO70PEO20), 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 제1용매가 에탄올과 염화칼륨의 혼합 수용액인 것을 특징으로 하는 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 티타늄-탄소 복합 입자의 용해열 처리 과정에서 사용되는 용매가 에탄올과 수산화암모늄의 혼합 수용액, 1-프로판올, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 티타늄-탄소 복합 입자의 용해열 처리 과정의 온도가 150 ℃ 내지 550 ℃인 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 도핑물질이 아연, 바나듐, 크롬, 니켈, 망간, 철, 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는 방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 도핑물질 전구체가 아세트산 아연, 염화아연, 이메틸아연, 이에틸아연, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 함침된 티타늄 전구체 메조다공성 마이크로스피어 입자를 열처리하는 과정의 온도가 150 ℃ 내지 550 ℃인 것을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.