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기판;상기 기판 상에 배치된 제1 그래핀층;상기 제1 그래핀층 상에 배치된 제1 나노입자층;을 포함하는 그래핀-나노입자 구조체
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제1항에 있어서,상기 제1 나노입자층 상에,적어도 하나의 제2 그래핀층과, 적어도 하나의 제2 나노입자층이 교번 배치된 그래핀-나노입자 구조체
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제1항에 있어서,상기 제1 그래핀층은 양전하를 띠도록 표면 처리된 그래핀-나노입자 구조체
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제2항에 있어서,상기 제1 그래핀층과 상기 제2 그래핀층은 양전하를 띠도록 표면 처리된 그래핀-나노입자 구조체
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제1항에 있어서,상기 제1 나노입자층은 금속, 금속산화물, 반도체, 또는 폴리머로 이루어진 다수의 나노입자를 포함하는 그래핀-나노입자 구조체
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기판;상기 기판 상에 배치된 것으로, 적어도 하나의 그래핀층과 적어도 하나의 나노입자층이 교번 적층되어 이루어진 광촉매층;을 포함하는 광촉매 구조체
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7
제6항에 있어서,상기 그래핀층은 양전하를 띠도록 표면 처리된 광촉매 구조체
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제6항에 있어서,상기 나노입자층은 가시광선 대역에서 광흡수 효율의 피크가 나타나도록 재질과 크기가 정해진 다수의 나노입자를 포함하는 광촉매 구조체
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제6항에 있어서,상기 나노입자층은 다수의 골드 나노입자로 이루어진 광촉매 구조체
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기판;상기 기판 상에 배치된 것으로, 적어도 하나의 그래핀층과 적어도 하나의 나노입자층이 교번 적층되어 이루어진 광활성층;상기 광활성층에서 광전 변환된 전기에너지를 외부 부하에 연결하는 전극부;를 포함하는 광전소자
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기판 상에 제1 그래핀층을 형성하는 단계;상기 그래핀층 상에 제1 나노입자층을 형성하는 단계;를 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제11항에 있어서,상기 제1 그래핀층을 형성하는 단계는금속 촉매층이 형성된 기판 상에 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition)을 이용하여 그래핀을 합성하는 단계;합성된 그래핀을 상기 제1기판 상에 전사하는 단계;를 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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13
제12항에 있어서,상기 금속 촉매층이 형성된 기판으로 구리 호일(Cu foil)을 사용하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제13항에 있어서,상기 합성된 그래핀을 상기 제1기판 상에 전사하기 전에,상기 합성된 그래핀 위에 PMMA를 코팅하고, 상기 구리 호일을 제거하는 단계를 더 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제11항에 있어서,상기 제1기판은 PET 기판인 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제11항에 있어서,상기 제1 그래핀층의 표면이 양전하를 띠도록 표면 처리하는 단계를 더 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제11항에 있어서,상기 제1 나노입자층을 형성하는 단계는다수의 나노입자가 함유된 수용액을 형성하는 단계;상기 수용액에 함유된 다수의 나노입자를 Langmuir-Blodgett (LB) 법에 의해 상기 그래핀 층 상에 정렬하는 단계;를 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제17항에 있어서,상기 다수의 나노입자는 금속, 금속산화물, 반도체, 또는 폴리머로 이루어진 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제11항에 있어서,상기 제1 나노입자층 상에 제2 그래핀층을 형성하는 단계;상기 제2 그래핀층 상에 제2 나노입자층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제19항에 있어서,상기 제2 그래핀층을 형성하는 단계는금속 촉매층이 형성된 기판 상에 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition)을 이용하여 그래핀을 합성하는 단계;합성된 그래핀을 상기 제1 나노입자층 상에 전사하는 단계;를 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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제20항에 있어서,상기 제2 그래핀층의 표면이 양전하를 띠도록 표면 처리하는 단계를 더 포함하는 그래핀-나노입자 구조체 제조방법
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