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마이크로 반응기의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015159497
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로 반응기 내부에 형성된 미세 유로에서의 촉매 반응을 수반하는 화학 반응을 일으키기 위하여 미세 유로가 촉매 층에 의한 막힘 현상이 없도록 미세 유로의 내벽에만 효과적으로 촉매 층을 코팅할 수 있는 방법을 제시한다. 본 발명에서는 슬러리 형태의 촉매 코팅액을 이용하여 채우기-건조법(fill and dry coating)을 적용함으로써, 마이크로 반응기의 미세 유로 내벽에만 촉매 층의 코팅이 이루어지도록 하였다. 또한 미세 유로 표면과 촉매 층과의 접착력 향상을 위하여 미세 유로 표면에 실리콘 산화막을 형성하였다. 본 발명의 기본 개념인 채우기-건조법에 따르면, 미세 유로의 크기와 더불어 촉매 슬러리의 점도에 따라 코팅되는 촉매 층의 두께 및 미세 유로의 막힘 현상에 영향을 주므로 이를 적절히 조절하여 최적화된 촉매 층을 갖는 마이크로 반응기를 얻을 수 있다.마이크로 반응기, 미세 유로, 촉매 코팅액, 촉매 층, 슬러리
Int. CL B01F 5/00 (2006.01) B01J 19/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01)
CPC B01J 19/0013(2013.01) B01J 19/0013(2013.01) B01J 19/0013(2013.01) B01J 19/0013(2013.01) B01J 19/0013(2013.01)
출원번호/일자 1020060091234 (2006.09.20)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0832040-0000 (2008.05.19)
공개번호/일자 10-2008-0026337 (2008.03.25) 문서열기
공고번호/일자 (20080527) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.09.20)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재정 대한민국 서울 관악구
2 황선미 대한민국 서울 영등포구
3 권오중 대한민국 충남 천안시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허진석 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)(특허법인아주김장리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2006-0679507-82
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.04.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2007-0030096-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0452429-98
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2007-0705640-36
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.10.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0705649-46
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
8 등록결정서
Decision to grant		 2008.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0084237-86
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
미세 유로를 가지는 기판을 준비하고, 상기 기판 상에 산화물 층을 형성하는 제1 단계와;상기 기판의 미세 유로에 촉매 코팅액을 흘려 넣어 상기 미세 유로를 채우는 제2 단계와;상기 기판을 건조시켜 상기 촉매 코팅액에 포함된 용매의 표면 장력에 의해 미세 유로의 내벽에만 촉매 층을 형성하는 제3 단계;를 구비하는 마이크로 반응기 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 제1 단계가:(a) 접합될 두 기판 중 적어도 하나의 기판에 미세 유로를 형성하는 단계와;(b) 상기 두 기판을 접합하는 단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 제3 단계에서 상기 기판을 건조시키는 단계가:상기 기판을 상온에서 건조시키는 단계와;상기 상온 건조된 기판을 상온보다 더 고온에서 열처리를 하는 단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 산화물 층이 Al2O3 막, SiO2 막, 상기 기판의 열 산화막 및 상기 기판의 자연 산화막으로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 산화물 층이 상기 기판의 열 산화막일 경우, 상기 열 산화막이 열처리 온도 및 시간에 따라 달라지는 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
8 8
제6항에 있어서, 상기 기판이 실리콘 기판이며, 상기 산화물 층이 상기 실리콘 기판의 열 산화막으로 이루어질 경우, 상기 실리콘 열 산화막이 300℃에서 3시간 동안 상기 실리콘 기판을 열처리함으로써 20 ~ 30Å의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 기판이, 실리콘 웨이퍼(silicon wafer), 파이렉스 유리(Pyrex glass), 알루미늄(aluminum plate), 세라믹(ceramic), 스테인리스 스틸(stainless steel) 및 고분자(polymer)로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나의 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 촉매 코팅액이 고상의 촉매를 액상의 슬러리 형태로 만든 것임을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
11 11
제1항에 있어서, 상기 촉매 층에 의해 작용하는 촉매가, 백금(Pt), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 금(Au), 망간(Mn), 크롬(Cr), 이리듐(Ir), 구리(Cu), 아연(Zn), 마그네슘(Mg) 및 이들의 합금 촉매로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종 이상인 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
12 12
제1항에 있어서, 상기 촉매 층이, CeO2, Al2O3, SiO2, MgO, CaO, Fe2O3, ZrO2 및 TiO2로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 산화물 계열의 담체를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
13 13
제2항에 있어서, 상기 미세 유로를 형성하는 단계가, 습식식각(wet etching), 건식식각(dry etching), LIGA(LIthographie Galvanoforming Abformung) 공정, 인젝션 몰딩(injection molding), 밀링(milling), 터닝(turning), 드릴링(drilling), 펀칭(punching) 및 레이저 미세가공(laser micromachining)으로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나의 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
14 14
제2항에 있어서, 상기 두 기판을 접합하는 단계가, 양극 접합(anodic bonding), 실리콘 용융 접합(silicon fusion bonding) 및 중간매개층에 의한 접합(intermediate-layer assisted bonding)으로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나의 공정에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
15 15
제1항에 있어서, 상기 촉매 코팅액이 산화물 계열의 물질이 포함된 촉매를 이용하여 만들어진 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
16 16
제1항에 있어서, 상기 촉매 코팅액이 분쇄된 촉매를 용매인 증류수에 넣음으로써 만들어지며, 촉매 대비 증류수의 비율이 1:10 내지 1:2의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
17 17
제4항에 있어서, 상기 기판을 상온에서 건조시키는 시간이 1 ~ 10일인 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
18 18
제4항에 있어서, 상기 촉매 층이 Cu/ZnO/Al2O3인 경우에 상기 고온에서의 열처리가 200 ~ 400℃에서, 3 ~ 10시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
19 19
제4항에 있어서, 상기 촉매 층이 Pt/Al2O3인 경우에 상기 고온에서의 열처리가 300 ~ 600℃에서, 3 ~ 10시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
20 20
제16항에 있어서, 상기 촉매 코팅액은, 전단율이 100 l/s일 때 2cp ~ 500cp의 점도를 가지도록 상기 증류수에 포함되는 촉매의 양이 조절되는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
21 21
제16항에 있어서, 상기 용매인 증류수에 알루미나 졸, 실리카 졸, 이소프로필알코올(IPA), 아세트산 및 폴리비닐알코올(PVA)로 구성된 군으로부터 선택된 어느 하나를 더 첨가하는 것을 특징으로 하는 마이크로 반응기 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.