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투명 기판 상에 광학 활성화제가 도핑된 희토류 산화물 나노시트 층과 다공성 실리카 나노입자 층이 코팅된 투명 루미네선스성 필름 구조체
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제1항에 있어서, 광학 활성화제가 Eu, Tb, Pr, Nd, Pm, Sm, Dy, Ho, Er, Tm, Yb 및 Lu로 구성된 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 필름 구조체
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제1항에 있어서, 희토류 산화물이 산화가돌리늄인 것을 특징으로 하는 필름 구조체
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제1항에 있어서, 투명 기판이 유리, 석영 또는 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는 필름 구조체
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제1항에 있어서, 광학 활성화제가 도핑된 희토류 산화물 나노시트 층과 실리카 나노입자 층이 교대로 2 내지 10회 적층된 것을 특징으로 하는 필름 구조체
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제1항에 있어서, 투명 기판 상에 코팅된 희토류 산화물 나노시트 층과 실리카 나노입자 층으로 구성된 필름의 두께가 100 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 필름 구조체
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투명 기판 상에 광학 활성화제가 도핑된 희토류 산화물 나노시트 층과 실리카 나노입자 층이 코팅된 투명 루미네선스성 필름 구조체의 제조방법으로서, (i) 투명 기판 상에 광학 활성화제가 도핑된 층상 희토류 히드록사이드 나노시트 층 및 실리카 나노입자 층을 순차적으로 층상 증착(layer-by-layer deposition)시키는 단계; 및(ii) 단계 (i)에서 수득한 필름 구조체를 어닐링시키는 단계를 포함하는 제조방법
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제7항에 있어서, 투명 기판이 유리, 석영 또는 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는 제조방법
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제7항에 있어서, 광학 활성화제가 도핑된 층상 희토류 히드록사이드가 하기 화학식 (I)로 표시되는 것을 특징으로 하는 제조방법:RE2-xMx(OH)5Y·mH2O (I)상기 식에서, RE는 희토류이고, M은 광학 활성화제이며, x는 0
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제9항에 있어서, RE는 Y, La, Ce 및 Gd으로 구성된 군 중에서 선택되고, M은 Eu, Tb, Pr, Nd, Pm, Sm, Dy, Ho, Er, Tm, Yb 및 Lu으로 구성된 군 중에서 선택되며, x는 0
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제10항에 있어서, RE는 Gd인 것을 특징으로 하는 제조방법
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제7항에 있어서, 단계 (i)에서 투명 기판을 광학 활성화제가 도핑된 층상 희토류 히드록사이드 나노시트의 현탁액 및 실리카 나노입자 용액에 순차적으로 침지시키는 공정을 수행하여, 투명 기판 상에 광학 활성화제가 도핑된 층상 희토류 히드록사이드 나노시트 층 및 실리카 나노입자 층을 순차적으로 층상 증착시키는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제7항에 있어서, 단계 (i)의 층상 증착 공정을 반복하여 필름의 두께를 증가시키는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제12항에 있어서, 실리카 나노입자 용액이 실리카 나노입자의 이소프로판올 용액인 것을 특징으로 하는 제조방법
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제7항에 있어서, 실리카 나노입자의 직경이 5 내지 30 nm인 것을 특징으로 하는 제조방법
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제7항에 있어서, 단계 (ii)에서 어닐링 온도가 500 내지 700℃인 것을 특징으로 하는 제조방법
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제7항에 있어서, 단계 (ii) 다음에 필름 구조체를 환원시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제17항에 있어서, 필름 구조체를 아르곤과 수소의 혼합 기체의 흐름 하에 200 내지 300℃에서 어닐링시켜 환원시키는 것을 특징으로 하는 제조방법
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