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ⅰ) 하기 화학식 1로 표시되는 알키닐 할라이드와 인듐 (In)을 반응시켜, 하기 화학식 2로 표시되는 알레닐 인듐 화합물을 제조하는 과정,상기 반응식에서, X는 Cl, Br 또는 I의 할로겐원자를 나타내고; R1은 수소원자, C1-C8 알킬기, C2-C8 알케닐기, C2-C8 알키닐기, 페닐기, 또는 페닐-Z-(CH2)m- 를 나타내고; R2 및 R3은 서로 같거나 다른 것으로서 수소원자, 또는 C1-C8 알킬기를 나타내고; Z는 CH2C(CO2R13)2, CH2O, CH2CONR14, 또는 CH2ONBoc를 나타내고, 상기 R13은 C1-C8 알킬기이고, R14는 수소원자, C1-C8 알킬기, 또는 벤질기를 나타내고; 상기 페닐은 치환기로 치환 또는 비치환될 수 있는데, 이때 치환기는 C1-C8 알킬기, C1-C8 알콕시기, C1-C8 알콕시카르보닐기, NO2, NR15R16, CONR17R18 중에서 선택되고, 또한 서로 이웃하는 치환기가 서로 결합하여 C4-C10의 알킬렌 고리 또는 융합고리를 형성할 수 있고, 이때 R15, R16, R17, 및 R18는 각각 수소원자 C1-C8 알킬기, 또는 벤질기를 나타내고; n은 0, 또는 2의 정수이며, m은 1, 또는 2의 정수를 나타낸다 ;ⅱ) 하기 화학식 2로 표시되는 알레닐 인듐 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 불포화 화합물의 친전자체와 반응시켜, 하기 화학식 4로 표시되는 알렌 치환된 불포화 화합물을 제조하는 과정,상기 반응식에서, R1, R2, R3, 및 n은 각각 상기에서 정의한 바와 같고; 는 페닐기, 스티렌기, 페닐아세틸렌기, 바이페닐기, 또는 이중결합을 1개 이상 포함하는 C4-C10의 알킬렌 고리, 융합 고리 또는 헤테로 고리기를 나타내고; R4는 수소원자, 할로겐원자, C1-C8 알킬기, C1-C8 알콕시기, C1-C8 알콕시카르보닐기, 벤조일기, =O, NO2, NR15R16, 또는 CONR17R18 를 나타내고, 또는 R4는 R1과 함께 C4-C10의 고리를 형성할 수 있으며, 이때 R15, R16, R17, 및 R18는 각각 상기에서 정의한 바와 같고; Y는 할로겐원자 또는 트리플루오로메틸 설포네이트(OTf)를 나타내고; q는 1, 2 또는 3의 정수를 나타낸다;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 알렌 치환된 불포화 화합물의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 ⅰ) 반응에서 인듐(In)은 화학식 1로 표시되는 알키닐 할라이드에 대하여 1 내지 2 당량비 범위로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 ⅰ) 및 ⅱ) 반응은 인-시츄 (in-situ)로 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 ⅱ) 반응은 전이금속 촉매 존재 하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 ⅱ) 반응은 PdCl2, Pd(OAc)2, Pd(CH3CN)2Cl2, Pd(PhCN)2Cl2, Pd2dba3CHCl3 및 Pd(PPh3)4로 이루어진 군으로부터 선택된 팔라듐 촉매 존재 하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 4항 또는 제 5항에 있어서,상기 촉매의 사용량은 화학식 2로 표시되는 알레닐 인듐 화합물에 대하여 1 내지 10 mol%인 것을 특징으로 하는 방법
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제 1항, 제 4항 또는 제 5항에 있어서,상기 ⅱ) 반응은 리튬 할라이드 존재 하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 리튬 할라이드의 사용량은 화학식 2로 표시되는 알레닐 인듐 화합물에 대하여 1 내지 4 당량비 범위인 것을 특징으로 하는 제조방법
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9
제 1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 알키닐 할라이드는 프로파질 할라이드, 1-할로부트-2-인, 1-할로펜트-2-인, 3-할로부트-1-인, 3-할로-3-메틸부트-1-인, 9-할로노나-1,7-다이인, 및 2-(4-할로부트-2-인일)-2-(2-할로벤질)-말론산 디에틸 에스터로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 화학식 3으로 표시되는 불포화 화합물은 페닐 할라이드, 페닐 다이할라이드, 페닐아세틸렌 할라이드, 바이페닐 다이할라이드, 나프틸 할라이드, 피라닐 할라이드, 피리딜 할라이드, 피리미딜 할라이드, 및 퀴놀릴 할라이드 군으로부터 선택된 할로겐화 불포화 화합물이거나, 또는 트리플루오로메틸 벤젠설포네이트, 비스(트리플루오로메틸)벤젠-1,4-다이설포네이트, 1-(3,3,3-트리플루오로프로프-1-인일)벤젠, 4,4'-다이트리플루오로메틸-다이벤젠설포네이트, 트리플루오로메틸 나프탈렌설포네이트, 트리플루오로메틸 피란설포네이트, 트리플루오로메틸 피리딘설포네이트, 트리플루오로메틸 피리미딘설포네이트, 및 트리플루오로메틸 퀴놀린설포네이트 군으로부터 선택된 트리플루오로메틸 설포네이트기가 치환된 불포화 화합물이고, 상기 화합물의 불포화 고리는 할로겐, C1-C8 알킬, C1-C8 알콕시, C1-C8 알콕시카르보닐, 벤조일, 케톤(=O), NO2, NR15R16, 및 CONR17R18 중에서 선택된 작용기가 1개 이상 치환 또는 비치환되는 것을 특징으로 하는 제조방법
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11
제 7항에 있어서,상기 ⅱ) 반응은 다이메틸포름아미드 (DMF) 또는 테트라하이드로퓨란 (THF)의 용매 하에서 반응 온도 70 내지 110℃의 범위에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법
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하기 화학식 4로 표시되는 알렌 치환된 불포화 화합물 :[화학식 4]상기 화학식 4에서,는 페닐기, 스티렌기, 페닐아세틸렌기, 바이페닐기, 또는 이중결합을 1개 이상 포함하는 C4-C10의 알킬렌 고리, 융합 고리 또는 헤테로 고리기를 나타내고; R1은 수소원자, C1-C8 알킬기, C2-C8 알케닐기, C2-C8 알키닐기, 페닐기, 또는 페닐-Z-(CH2)m- 를 나타내고; R2 및 R3은 서로 같거나 다른 것으로서 수소원자, 또는 C1-C8 알킬기를 나타내고; Z는 CH2C(CO2R13)2, CH2O, CH2CONR14, 또는 CH2ONBoc를 나타내고; R4는 수소원자, 할로겐원자, C1-C8 알킬기, C1-C8 알콕시기, C1-C8 알콕시카르보닐기, 벤조일기, =O, NO2, NR15R16, 또는 CONR17R18 를 나타내고, 또는 R4는 R1과 함께 C4-C10의 고리를 형성할 수 있으며;상기 페닐은 치환기로 치환 또는 비치환될 수 있는데, 이때 치환기는 C1-C8 알킬기, C1-C8 알콕시기, C1-C8 알콕시카르보닐기, NO2, NR15R16, 및 CONR17R18 중에서 선택되고, 또한 서로 이웃하는 치환기가 서로 결합하여 C4-C10의 알킬렌 고리 또는 융합고리를 형성할 수 있고;상기 R13은 C1-C8 알킬기를 나타내고, R14는 수소원자, C1-C8 알킬기, 또는 벤질기를 나타내고, R15, R16, R17, 및 R18는 각각 수소원자 C1-C8 알킬기, 또는 벤질기를 나타내고;q는 1, 2, 또는 3의 정수이다
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제12항에 있어서,상기 는 페닐기, 스티렌기, 페닐아세틸렌기, 바이페닐기, 싸이클로헥센기, 나프탈렌기, 디하이드로나프탈렌기, 피리딘기, 피리미딘기, 퀴놀린기, 이소퀴놀린기, 또는 피란기를 나타내고; Y는 I, Br, 트리플루오로메틸 설포네이트기(OTf)를 나타내고; R1은 수소원자, C1-C8 알킬기, C2-C8 알케닐기, 또는 C2-C8 알키닐기를 나타내고; R2 및 R3은 서로 같거나 다른 것으로서 수소원자, 또는 C1-C8 알킬기를 나타내고; R4는 수소원자, 할로겐원자, C1-C8 알킬기, C1-C8 알콕시기, C1-C8 알콕시카르보닐기, 벤조일기, =O, NO2, NH2, 또는 N(C1-C8 알킬)2를 나타내고, 또는 R4는 R1과 함께 C4-C10의 고리를 형성할 수 있으며; 상기 페닐은 치환기로 치환 또는 비치환될 수 있는데, 이때 치환기는 C1-C8 알킬기, C1-C8 알콕시기, C1-C8 알콕시카르보닐기, NO2, NH2, CONH2 중에서 선택되고, 또한 서로 이웃하는 치환기가 서로 결합하여 C4-C10의 알킬렌 고리 또는 융합고리를 형성할 수 있고; q는 1, 2 ,또는 3의 정수이다
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