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무기고분자 및 친수성 고분자를 이용한 미세·나노유체 소자및 ＭＥＭＳ 미세구조물 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015180554
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광가교형 무기고분자형 포토레지스트(photoresist)를 노광 공정(Photolithography), 마이크로 트랜스퍼몰딩(micro-transfer molding; μ-TM), 임프린트 리소그래피 (imprint lithography)공정, 스테레오리소그래피 (stereolithography) 등과 같은 방법으로 각종 기능성 패턴과 구조물을 제조하는 것이다. 성형된 패턴과 구조물은 후경화 혹은 고온 열처리 공정을 거침으로서 화학적, 열적 안정성 및 광투과성을 지닌 무기고분자 혹은 세라믹 조성의 미세유체 패턴과 소자를 제조한다. 또한 유사한 공정을 친수성 고분자에 적용하여 친수성 나노유체 패턴 및 소자를 제조함으로서 향후 각종 MEMS/NEMS소자에 사용한다. 소프트리소그래피, 무기고분자, 세라믹, 세라믹 전구체, MEMS, 미세유체소자, 초친수성 고분자, 나노채널
Int. CL B82B 1/00 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC G03F 7/00(2013.01) G03F 7/00(2013.01) G03F 7/00(2013.01) G03F 7/00(2013.01)
출원번호/일자 1020080016388 (2008.02.22)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-0837830-0000 (2008.06.05)
공개번호/일자 10-2008-0021102 (2008.03.06) 문서열기
공고번호/일자 (20080613) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자 10-2006-0045370 (2006.05.19)
관련 출원번호 1020060045370
심사청구여부/일자 Y (2008.02.22)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동표 대한민국 대전 유성구
2 홍난영 대한민국 대전 동구
3 이홍주 대한민국 광주 남구
4 윤태호 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2008.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2008-0133910-98
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.23 수리 (Accepted) 4-1-2008-5063922-46
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.05.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0253675-80
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.05.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0377593-62
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2008-0377531-42
6 등록결정서
Decision to grant		 2008.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0290957-62
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.01.21 수리 (Accepted) 4-1-2009-5014069-12
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.03.18 수리 (Accepted) 4-1-2009-5050645-34
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.05.31 수리 (Accepted) 4-1-2011-5108981-12
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.12.26 수리 (Accepted) 4-1-2013-5174286-48
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 광가교 또는 열가교형 무기고분자 전구체를 유리 혹은 실리콘 기판에 도포하여 코팅층을 형성하는 단계;(b) 상기 무기고분자전구체를 마스킹한 후 장파장을 지닌 노광원으로 노광하는 단계; 및(c) 상기 결과물을 유기용매를 이용하여 가교되지 않은 채널을 현상하여 미세유체 채널 및 패턴을 얻는 단계;를 포함하는 무기 유체패턴 구조물의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 (b)단계에서 노광 전에 소프트 베이크 공정 노광 후에 포스트 베이크 공정을 추가하는 것을 포함하는 무기 유체 패턴 구조물의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 무기고분자 가교체를 불활성 기체하에서 600℃ 내지 1200℃ 열분해시키는 것을 특징으로 하는 무기 유체 패턴구조물의 제조방법
4 4
제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되는 무기 유체 패턴구조물을 구비하는 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.