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진공증류법을 이용한 고순도 텔루륨 분말 제조 장치 및 상기 고순도 텔루륨 분말의 입도 제어 방법

  • 기술번호 : KST2015181190
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 진공증류공법을 이용하여 열전소재나 광전소재로 수요가 높은 텔루륨(Tellurium) 분말을 고순도로 회수할 수 있는 장치, 및 상기 장치를 이용하여 텔루륨 분말을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 국부적으로 가열이 가능한 가열로 및 캐리어 가스 주입구를 포함하는 고순도 텔루륨 분말의 제조 장치 및 상기 캐리어 가스 주입으로 인해 텔루륨 분말의 입도를 제어가 가능한 기술에 관한 것이다. 진공증류공법을 통해 제조된 텔루륨 분말은 종래 분말제조공법인 고체상에서 기계적분쇄를 통해 제조하는 볼 밀링 방법이나 용융 후 Atomization방법으로 제조하는 방법에 비해, 높은 순도의 텔루륨을 회수 할 수 있으며, 이때 회수조의 온도를 조절하여 나노분말 제조 및 증착된 분말의 입도를 제어 할 수 있는 우수한 기술이다. 특히 금속급(Metallurgical grade) 2N의 저순도 텔루륨 원료를 이용하여 1단계 공정으로 5N급 이상의 고순도 분말을 제조할 수 있어 경제성이 매우 뛰어나다. 또한, 텔루륨 분말은 광전 및 열전소재에 사용됨을 감안할 때 본 공법을 통해 제조된 5N급 텔루륨의 순도와 나노 크기의 분말은 열전 및 광전 특성향상의 큰 이점으로 작용할 것으로 기대된다.
Int. CL B22F 9/02 (2006.01) C22B 61/00 (2006.01) C22B 9/04 (2006.01)
CPC B22F 9/02(2013.01) B22F 9/02(2013.01) B22F 9/02(2013.01)
출원번호/일자 1020120095238 (2012.08.29)
출원인 충남대학교산학협력단, (주)리사이텍, 공주대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1408661-0000 (2014.06.13)
공개번호/일자 10-2014-0029739 (2014.03.11) 문서열기
공고번호/일자 (20140619) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구
2 (주)리사이텍 대한민국 경기도 남양주시
3 공주대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 공주시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종현 대한민국 대전 유성구
2 박경태 대한민국 대전 유성구
3 김완규 대한민국 충북 청주시 흥덕구
4 홍순직 대한민국 충남 천안시 서북구
5 지재규 대한민국 경기도 성남시 분당구
6 최준철 대한민국 경기도 군포시 고산로***번길 ** 모란아파트 **

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이룸 대한민국 서울시 서초구 사평대로 ***, *층(반포동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대전광역시 유성구
2 공주대학교 산학협력단 충청남도 공주시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0698318-46
2 보정요구서
Request for Amendment
2012.09.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0110325-25
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0805808-95
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2012-0898499-26
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.09.06 수리 (Accepted) 4-1-2013-5121903-91
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0081811-38
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.12.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0878025-22
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.12.26 수리 (Accepted) 4-1-2013-5174286-48
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-0156103-49
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.02.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0156100-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.03.04 수리 (Accepted) 4-1-2014-5027196-68
13 등록결정서
Decision to grant
2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0340513-18
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-5079935-55
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5034527-91
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.02.18 수리 (Accepted) 4-1-2020-5036312-87
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.23 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136814-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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국부적 가열이 가능한 가열로, 진공도 1 내지 10-5 torr의 진공증류기, 및 캐리어 가스 주입구를 포함하는 고순도 텔루륨(Tellurium) 나노 분말 제조 장치로서,상기 진공증류기는 캐리어 가스가 유입되는 방향으로부터 차례대로 실온 영역(1), 기화된 텔루륨의 유입 방지를 위한 가열로 영역(2), 저순도 텔루륨 분말이 장입 및 기화되는 가열로 영역(3), 고순도 텔루륨 분말을 회수하는 가열로 영역(4) 및 고순도 텔루륨 나노 분말을 회수하는 실온 영역(5)로 구성되고,상기 국부적 가열이 가능한 가열로는, 상기 가열로 영역(2)를 가열하는 600℃ 내지 1000℃ 온도 설정 구역, 상기 가열로 영역(3)을 가열하는 500℃ 내지 550℃ 온도 설정 구역, 및 상기 가열로 영역(4)를 가열하는 100℃ 내지 450℃ 온도 설정 구역으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 장치
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제 1 항에 있어서,상기 캐리어 가스는 일방향(one-way)으로 주입되는 것을 특징으로 하는, 장치
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제 1 항에 있어서,상기 캐리어 가스는 불활성 가스인 아르곤, 질소, 크립톤, 제논, 및 헬륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 장치
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제 1 항에 있어서,상기 장치는 금속급(Metallurgical grade) 5N 이상의 고순도 텔루륨 나노 분말을 제조할 수 있는 것을 특징으로 하는, 장치
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하기 단계를 포함하는 제1항의 장치를 이용하여 고순도 텔루륨(Tellurium) 나노 분말을 제조하는 방법:a) 진공증류기 영역(2)에 저순도 텔루륨 분말을 장입하는 단계;b) 50ml/min 내지 80ml/min의 유입속도로 캐리어 가스를 진공증류기 영역(1)에서 영역(5)방향으로 일방향(one-way) 주입하는 단계;c) 국부적으로 가열이 가능한 가열로를 이용하여 저순도 텔루륨 분말을 진공증류시키는 단계; 및d) 상기 진공증류 후 진공증류기 영역(5)에 증착된 고순도 텔루륨 나노 분말을 회수하는 단계
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제 11 항에 있어서,상기 캐리어 가스는 불활성 가스인 아르곤, 질소, 크립톤, 제논, 및 헬륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법
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패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국에너지기술평가원 (주)리사이텍 글로벌전문기업개발사업 텔레늄(Te) 재활용 및 고순도화 기술