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키토산 및 스피넬 구조의 리튬 망간 산화물의 혼합 입상체를 포함하는, 입상화된 리튬 흡착제
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제 1항에 있어서, 상기 스피넬 구조의 리튬 망간 산화물은 LinMn2-xO4 (1≤n≤1
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제 1항에 있어서, 상기 키토산 및 리튬 망간 산화물은 7:3 내지 9:1의 중량 비율로 혼합하는 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제
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제 1항에 있어서, 상기 입상화된 리튬 흡착제는 펠렛형, 스택형 및 판형으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제
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제 1항에 있어서, 상기 입상화된 리튬 흡착제는 40 내지 50 m2/g의 BET 표면적을 갖는 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제
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1)스피넬 구조를 갖는 리튬 망간 산화물 분말을 준비하는 단계;2)유기산 용액에 키토산을 가하여 키토산 용액을 준비하는 단계;3)상기 키토산 용액에 상기 리튬 망간 산화물 분말을 혼합한 후, 상기 혼합물을 압출하는 단계;4)상기 압출한 혼합물을 냉각한 후, 이를 동결-건조하여 키토산 및 리튬 망간 산화물의 혼합 입상체를 제조하는 단계; 및 5)상기 키토산 및 리튬 망간 산화물의 혼합 입상체를 산 처리하는 단계;를 포함하는, 입상화된 리튬 흡착제의 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 1)단계에서 스피넬 구조의 리튬 망간 산화물 분말은 LinMn2-xO4 (1≤n≤1
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제 6항에 있어서, 상기 2)단계에서 키토산 용액은 유기산 용액에 2 내지 8wt%의 키토산을 가한 후, 이를 40 내지 80℃로 가열하여 제조하는 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제의 제조 방법
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제 8항에 있어서, 상기 유기산은 초산, 젖산, 개미산, 글리콜산, 아크릴산, 프로핀산, 석신산, 수산, 호박산, 아스코르브산, 글루콘산, 주석산, 말레인산, 구연산, 및 글루타민산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제의 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 3)단계에서 키토산 용액 및 리튬 망간 산화물 분말은 7:3 내지 9:1의 중량 비율로 혼합하는 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제의 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 4)단계에서 동결-건조는 -40 내지 -10℃에서 예비동결을 수행한 후, 진공 건조하는 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제의 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 5)단계에서 산 처리는 0
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제 12항에 있어서, 상기 산 용액은 황산 용액인 것을 특징으로 하는, 입상화된 리튬 흡착제의 제조 방법
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