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빔 프로젝트나 비전 검사 장치 또는 노광 장치에 구비되어 피사체에 광을 조사하는 광 발생 장치에 있어서,레이저 광원(1)과,상기 레이저 광원(1)으로부터 출사되는 레이저 빔의 직경을 확대시켜 출사시키는 빔 확장 렌즈(2)와,상기 빔 확장 렌즈(2)로부터 출사되는 레이저 빔으로부터 광속을 분리하고 발산각을 크게 하기 위한 대물 렌즈(3)와,상기 대물 렌즈(3) 표면 또는 레이저 빔의 출사창의 먼지나 이물에 의한 얼룩과 산란을 제거하며 레이저 빔의 회절에 의한 간섭 무늬 경계를 모호하게 하기 위한 핀 홀(41)이 형성된 핀 홀 마운트(4), 및 상기 핀 홀(41)을 통과한 레이저 빔의 필요 영역만 자르거나 레이저 빔을 유도하기 위한 빔 가이드(5)를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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제 1항에 있어서,상기 레이저 광원(1)은;헬륨 네온 레이저 또는 반도체 레이저임을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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제 1항에 있어서,상기 빔 확장 렌즈(2)는;상기 레이저 광원(1)으로부터 출사되는 레이저 빔과 상기 대물 렌즈(3)의 개구부 직경에 따라 배율이 설정됨을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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제 1항에 있어서,상기 핀 홀(41)은 원형이나 다각형으로 형성될 수 있고,상기 핀 홀(41)의 직경은 5~10㎛로 형성됨을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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5
제 1항에 있어서,상기 빔 가이드(5)는 회절 현상에 의한 간섭 무늬를 줄일 수 있도록 레이저 빔이 닿는 부분은 구배지게 형성됨을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 빔 확장 렌즈(2)와, 상기 대물 렌즈(3)와, 상기 핀 홀 마운트(4)는 각각 상기 레이저 광원(1)과의 광축을 일치시키기 위하여 X축 방향 및 Y축 방향으로 위치 조절이 가능하게 설치됨을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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제 6항에 있어서,상기 대물 렌즈(3)와 상기 핀 홀 마운트(4)는 동일 베이스에 구비되며,상기 대물 렌즈(3)와 상기 핀 홀 마운트(4)는 상기 베이스 상에서 상호 거리 조절이 가능하게 설치됨을 특징으로 하는 면광 발생 장치
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빔 프로젝트나 비전 검사 장치 또는 노광 장치의 피사체에 광을 조사하는 방법에 있어서, 레이저 광원을 발진시켜 레이저 빔을 발생시키고 빔 확장 렌즈를 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시켜 레이저 빔의 광축과 일치시키는 과정과,상기 레이저 빔이 빔 확장 렌즈를 투과하여 상기 빔 확장 렌즈의 배율만큼 확대되도록 하는 과정과,상기 빔 확장 렌즈에서 확대된 레이저 빔을 대물 렌즈의 조리개에 입사시키고 대물 렌즈를 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시켜 레이저 빔의 광축과 일치시키는 과정과, 상기 대물 렌즈에 의해 광원의 파장 크기로 한 점에 수렴된 레이저 빔을 핀 홀에 입사시키고 핀 홀 마운트를 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시켜 레이저 빔의 광축과 일치시키는 과정과,상기 핀 홀을 통과한 레이저 빔을 빔 가이드를 이용하여 필요 영역만 잘라 피사체에 유도시키는 과정을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 면광 발생 방법
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제 8항에 있어서,상기 레이저 광원으로는 헬륨 네온 레이저 또는 반도체 레이저를 이용하는 것을 특징으로 하는 면광 발생 방법
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제 8항에 있어서,상기 피사체에 레이저 빔을 유도시킨 후 대물 렌즈와 핀 홀 마운트 사이의 거리 조절을 통해 간섭 무늬의 밝기나 경계를 명확성 조절을 하는 과정을 더 포함함을 특징으로 하는 면광 발생 방법,
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제 8항에 있어서,상기 핀 홀은 원형이나 다각형으로 형성되며 그 직경은 5~10㎛ 범위로 형성된 것을 이용하는 것을 특징으로 하는 면광 발생 방법
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제 7항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 레이저 빔의 광축과 피사체는 동일 광축 상에 배치하여 투과광을 조사하도록 하거나 상기 피사체에 대하여 상기 광원을 기울여 설치하여 반사광을 조사하는 것을 특징으로 하는 면광 발생 방법
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