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나이트레이트 음이온의 이산화탄소/에폭사이드 공중합 촉매 시스템

  • 기술번호 : KST2015187432
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나이트레이트 음이온의 4차 암모늄 염을 3개 이상 포함하는 살렌(Salen) 유형의 리간드; 이 리간드로부터 제조된 금속 3가 착화합물 및 이의 제조 방법; 이를 촉매로 사용하여 에폭사이드 화합물과 이산화탄소를 공중합하여 폴리카보네이트를 제조하는 방법; 및 상기 공중합 반응 후 공중합체로부터 촉매를 분리 및 회수하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 상기 촉매가 에폭사이드 화합물과 이산화탄소를 공중합함에 있어서 기존 촉매 대비 촉매 제조 공정이 단순하고, 촉매 제조 및 회수에 필요한 비용이 낮고, 또한 활성이 높다.
Int. CL C07F 15/06 (2006.01.01) C08G 64/32 (2006.01.01) C08G 64/20 (2006.01.01) B01J 31/18 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020100017049 (2010.02.25)
출원인 에스케이이노베이션 주식회사, 아주대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1503745-0000 (2015.03.12)
공개번호/일자 10-2011-0097282 (2011.08.31) 문서열기
공고번호/일자 (20150319) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020140120827;
심사청구여부/일자 Y (2012.05.08)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 에스케이이노베이션 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
2 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정지수 대한민국 경상남도 통영시 해미당*길 *
2 수지드 수데반 인도 대전광역시 유성구
3 옥명안 대한민국 대전광역시 유성구
4 나성재 대한민국 대전광역시 유성구
5 한용규 대한민국 대전광역시 유성구
6 정광진 대한민국 대전광역시 유성구
7 이분열 대한민국 서울특별시 관악구
8 조비 코디안 벌기스 인도 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 에스케이이노베이션 주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
2 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0123610-75
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2010.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0184587-75
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.01.06 수리 (Accepted) 4-1-2011-5003468-16
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.02.13 수리 (Accepted) 4-1-2012-5031054-64
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2012.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0366010-47
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0728954-94
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-1181026-07
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-5000672-13
9 보정요구서
Request for Amendment		 2014.01.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0001320-43
10 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2014.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0008444-10
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0056847-76
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.02.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-0178257-76
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0272369-64
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.03.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0272356-71
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.07.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0480984-48
16 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2014.08.14 수리 (Accepted) 7-1-2014-0030672-70
17 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2014.09.12 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0864445-11
18 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0864405-95
19 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2014.09.12 취하 (Withdrawal) 1-1-2014-0864280-74
20 보정요구서
Request for Amendment		 2014.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0164196-00
21 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2014.09.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-0914559-13
22 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0717760-10
23 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.12.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1242833-24
24 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-1242860-57
25 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2015.03.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0156334-60
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.12.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5260828-53
27 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.12.12 수리 (Accepted) 4-1-2019-5263004-74
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 착화합물:[화학식 1][상기 화학식 1에서, M은 코발트 3가 또는 크롬 3가이고;A는 산소 또는 황 원자이고;Q는 (C6~C30)아릴렌, (C1~C20)알킬렌, (C2~C20)알케닐렌, (C2~C20)알키닐렌 또는 (C3~C20)시클로알킬렌이고;R1 및 R2 는 서로 독립적으로 1차 (C1-C20)알킬이고;R3 내지 R10은 서로 독립적으로 수소; 할로겐; (C1-C20)알킬; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C1-C20)알킬; (C2-C20)알케닐; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C2-C20)알케닐; (C1-C20)알킬(C6-C20)아릴; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C1-C20)알킬(C6-C20)아릴; (C6-C20)아릴(C1-C20)알킬; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C6-C20)아릴(C1-C20)알킬; (C1-C20)알콕시; (C6-C30)아릴옥시; 포밀; (C1-C20)알킬카보닐; (C6-C20)아릴카보닐; 또는 하이드로카빌로 치환된 14족 금속의 메탈로이드 라디칼이며; 상기 R1 내지 R10 중 2개가 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;상기 R3 내지 R10 중 적어도 세 개 이상은 하기 화학식 a로 표시되는 양성자단으로 더 치환되고;Z는 질소이고;R11, R12 및 R13는 서로 독립적으로 (C1-C20)알킬; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C1-C20)알킬; (C2-C20)알케닐; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C2-C20)알케닐; (C1-C20)알킬(C6-C20)아릴; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C1-C20)알킬(C6-C20)아릴; (C6-C20)아릴(C1-C20)알킬; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C6-C20)아릴(C1-C20)알킬; 또는 하이드로카빌로 치환된 14족 금속의 메탈로이드 라디칼이며; R11, R12 및 R13 중 2개가 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;a은 R3 내지 R10 이 포함하는 양성자단의 수 + 1이고;b는 1 이상의 정수이고;나이트레이트 또는 아세테이트 음이온은 M에 배위할 수도 있다
2 2
삭제
3 3
하기 화학식 1로 표시되는 착화합물:[화학식 1][상기 화학식 1에서, 상기 M은 코발트3가이고; A는 산소이고;Q는 트랜스-1,2-싸이클로헥실렌, 페닐렌 또는 에틸렌이고;R1 과 R2 는 서로 독립적으로 메틸 또는 에틸이고;R3 내지 R10은 서로 독립적으로 수소 또는 -[YR413-m{(CR42R43)nN+R44R45R46}m]이고;Y는 C이고;R41, R42, R43, R44, R45 및 R46은 서로 독립적으로 수소; (C1-C20)알킬; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C1-C20)알킬; (C2-C20)알케닐; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C2-C20)알케닐; (C1-C20)알킬(C6-C20)아릴; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C1-C20)알킬(C6-C20)아릴; (C6-C20)아릴(C1-C20)알킬; 할로겐, 아민, 알콜, 에테르, 실란, 티올 또는 포스핀 중 하나 이상을 포함하는 (C6-C20)아릴(C1-C20)알킬; 또는 하이드로카빌로 치환된 14족 금속의 메탈로이드 라디칼이며, R44, R45 및 R46 중 2개는 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;m는 1 내지 3의 정수이고, n는 1 내지 20의 정수이고;단, m가 1인 경우 R3 내지 R10중 적어도 3개 이상은 -[YR413-m{(CR42R43)nN+R44R45R46}m]이고, m이 2인 경우 R3 내지 R10중 적어도 2개 이상은 -[YR413-m{(CR42R43)nN+R44R45R46}m]이고, m이 3인 경우 R3 내지 R10중 1개 이상은 -[YR413-m{(CR42R43)nN+R44R45R46}m]이고;a은 R3 내지 R10 이 포함하는 양성자단의 수 + 1이고;b는 1 이상의 정수이고;나이트레이트 또는 아세테이트 음이온은 M에 배위할 수도 있는 것을 특징으로 하는 착화합물
4 4
제 3항에 있어서,하기 화학식 2로 표시되는 착화합물
5 5
제 4항에 있어서, R51, R52, R53및 R54가 메틸이고, n이 3이고, Q는 트랜스-1,2-싸이클로헥실렌인 착화합물
6 6
제 1항 및 제 3항 내지 제 5항의 어느 한 항에 따른 착화합물을 촉매로 이용하여, 에폭사이드 화합물 및 이산화탄소를 공중합하는 단계를 포함하는 폴리카보네이트의 제조 방법
7 7
제 6항에 있어서,상기 에폭사이드 화합물은 할로겐, (C1-C20)알킬옥시, (C6-C20)아릴옥시 또는 (C6-C20)아르(C1-C20)알킬(aralkyl)옥시로 치환 또는 비치환된 (C2-C20)알킬렌옥사이드; 할로겐, (C1-C20)알킬옥시, (C6-C20)아릴옥시 또는 (C6-C20)아르(C1-C20)알킬(aralkyl)옥시로 치환 또는 비치환된 (C4-C20)사이클로알킬렌옥사이드; 및 할로겐, (C1-C20)알킬옥시, (C6-C20)아릴옥시, (C6-C20)아르(C1-C20)알킬(aralkyl)옥시 또는 (C1-C20)알킬로 치환 또는 비치환된 (C8-C20)스타이렌옥사이드 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트의 제조 방법
8 8
제 1항 및 제 3항 내지 제 5항의 어느 한 항에 따른 착화합물을 촉매로 이용하여, 할로겐, (C1-C20)알킬옥시, (C6-C20)아릴옥시 또는 (C6-C20)아르(C1-C20)알킬(aralkyl)옥시로 치환 또는 비치환된 (C2-C20)알킬렌옥사이드; 할로겐, (C1-C20)알킬옥시, (C6-C20)아릴옥시 또는 (C6-C20)아르(C1-C20)알킬(aralkyl)옥시로 치환 또는 비치환된 (C4-C20)사이클로알킬렌옥사이드; 및 할로겐, (C1-C20)알킬옥시, (C6-C20)아릴옥시, (C6-C20)아르(C1-C20)알킬(aralkyl)옥시 또는 (C1-C20)알킬로 치환 또는 비치환된 (C8-C20)스타이렌옥사이드이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 에폭사이드 화합물 및 이산화탄소를 공중합하여 폴리카보네이트를 제조하는 단계; 및 상기 제조된 공중합체와 촉매가 용해되어 있는 용액을 이 용액에 용해되지 않는 고체상의 무기 물질, 고분자 물질 또는 이의 혼합물과 접촉시켜 상기 고체상의 무기 물질 또는 고분자 물질과 촉매의 복합체를 형성시킴으로써 공중합체와 촉매를 분리하는 단계;를 포함하는 폴리카보네이트의 제조 방법
9 9
제 8항에 있어서,고체상의 무기 물질이 표면 개질되거나 표면 개질되지 않은 실리카 또는 알루미나이고, 고체상의 고분자 물질이 알콕시 음이온에 의하여 탈양성자 반응이 일어날 수 있는 작용기를 가지고 있는 고분자 물질인 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트의 제조 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 알콕시 음이온에 의하여 탈양성자 반응이 일어날 수 있는 작용기가 설폰산 기, 카르복실산 기, 페놀 기 또는 알콜 기인 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트의 제조 방법
11 11
제 1항 및 제 3항 내지 제 5항의 어느 한 항에 따른 착화합물을 촉매로 이용하여, 할로겐 또는 (C1-C20)알콕시로 치환 또는 비치환된 (C2-C20)알킬렌옥사이드; 할로겐 또는 (C1-C20)알콕시로 치환 또는 비치환된 (C4-C20)사이클로알킬렌옥사이드; 및 할로겐, (C1-C20)알콕시 또는 (C1-C20)알킬로 치환 또는 비치환된 (C8-C20)스타이렌옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 에폭사이드 화합물 및 이산화탄소를 공중합하여 폴리카보네이트를 제조하는 단계; 상기 제조된 공중합체와 촉매가 용해되어 있는 용액을 이 용액에 용해되지 않는 고체상의 무기 물질, 고분자 물질 또는 이의 혼합물과 접촉시켜 상기 고체상의 무기 물질 또는 고분자 물질과 촉매의 복합체를 형성시킴으로써 공중합체와 촉매를 분리하는 단계; 및 상기 고체상의 무기 물질 또는 고분자 물질과 촉매의 복합체를 용해시킬 수 없는 매질 속에서, 상기 고체상의 무기 물질 또는 고분자 물질과 촉매의 복합체를 질산 또는 질산염으로 처리하여 촉매가 상기 매질로부터 용해되어 나오게 함으로써 촉매를 분리 회수하는 단계;를 포함하는 공중합체와 촉매가 용해되어 있는 용액으로부터 촉매를 분리 회수하는 방법
12 12
하기 화학식 4 의 화합물을 화학식 4가 포함하는 할로겐 음이온 당량의 질산은(AgNO3) 또는 질산은(AgNO3)과 초산은(AgOC(O)CH3)의 혼합물과 반응시켜 화학식 5의 화합물을 제조하는 단계; 및코발트(II)아세테이트 또는 크롬(II)아세테이트와 화학식 5의 화합물을 산소 존재 하에서 반응시켜 화학식 1의 착화합물을 제조하는 단계:를 포함하는 제 1항의 화학식 1의 착화합물을 제조하는 방법
13 13
하기 화학식 4 의 화합물을 화학식 4가 포함하는 할로겐 음이온 당량의 질산은(AgNO3)또는 질산은(AgNO3)과 초산은(AgOC(O)CH3)의 혼합물과 반응시켜 화학식 5의 화합물을 제조하는 단계; 및코발트(II)아세테이트 또는 크롬(II)아세테이트와 화학식 5의 화합물을 산소 존재 하에서 반응시켜 화학식 1의 착화합물을 제조하는 단계:를 포함하는 제 3항의 화학식 1의 착화합물을 제조하는 방법
14 14
제 13항에 있어서,하기 화학식 6의 화합물을 4 당량의 질산은(AgNO3)과 반응시켜 화학식 7의 화합물을 제조하는 단계; 및코발트(II)아세테이트와 화학식 7의 화합물을 산소 존재 하에서 반응시켜 하기 화학식 2의 화합물을 제조하는 단계:를 포함하는 제조방법
15 15
제 14항에 있어서,R51, R52, R53및 R54가 메틸이고, n이 3이고, Q는 트랜스-1,2-싸이클로헥실렌인 제조방법
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순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102695713 CN 중국 FAMILY
2 EP02539353 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP25520493 JP 일본 FAMILY
4 KR1020140116833 KR 대한민국 FAMILY
5 US08598309 US 미국 FAMILY
6 US20110207909 US 미국 FAMILY
7 WO2011105846 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
8 WO2011105846 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CA2776232 CA 캐나다 DOCDBFAMILY
2 CN102695713 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 CN102695713 CN 중국 DOCDBFAMILY
4 EP2539353 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
5 EP2539353 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
6 JP2013520493 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 TW201136961 TW 대만 DOCDBFAMILY
8 US2011207909 US 미국 DOCDBFAMILY
9 US8598309 US 미국 DOCDBFAMILY
10 WO2011105846 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
11 WO2011105846 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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