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3차원 형태의 구리 나노구조물 및 그 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015187583
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법에 관한 것으로, 본 발명은, SiO2 마스크를 포함하는 구조로 시편을 제작하는 단계; 상기 시편에 3차원 식각구조물층을 형성하기 위해 다방향 경사 플라즈마 식각을 수행하는 단계; 상기 다방향 경사 플라즈마 식각 부위에 금속이 충진되도록 도금하는 단계; 상기 금속에서 과도금된 부분과 상기 SiO2 마스크를 제거하는 단계; 및 상기 시편 표면에서 3차원 식각구조물층인 금속을 제외한 부분을 제거하는 단계를 포함한다.본 발명에 의하면, 기존의 집속 이온빔식각법(focused ion beam etching, FIBE)에 의해 제작된 구리 나노 구조물 제작법의 한계를 극복하기 위하여 고밀도 플라즈마를 사용하여 파라데이 상자에 배치된 대면적 시편에 다방향 경사 플라즈마 식각을 진행한 후, 식각된 시편 틈에 구리막을 형성하고, 과도금된 구리막과 SiO2 마스크를 제거함으로써 균일한 배열(array)의 구리 나노 구조물을 형성할 수 있으며, 구리 나노구조물의 직경을 임의로 조절할 수 있으므로 높은 응용 가능성을 구현할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL C23C 18/31 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01) C23C 18/22 (2006.01) C23F 4/00 (2006.01)
CPC B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01) B22F 1/0018(2013.01)
출원번호/일자 1020130090733 (2013.07.31)
출원인 아주대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1509529-0000 (2015.04.01)
공개번호/일자 10-2015-0015130 (2015.02.10) 문서열기
공고번호/일자 (20150407) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.31)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조성운 대한민국 경기 수원시 팔달구
2 김창구 대한민국 서울 강동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-0694930-10
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-5000672-13
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.07.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2014-0066221-48
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2014.08.28 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2014-0821465-72
6 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2014.09.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0149110-98
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2014.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0863701-26
8 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2014.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0915304-67
9 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2014.10.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0171752-40
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.10.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0739546-61
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.12.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1273676-78
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-1273556-08
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2015.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0069650-64
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2015.03.02 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0204364-43
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-0204302-23
16 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2015.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0212032-80
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번호 청구항
1 1
SiO2 마스크를 포함하는 구조로 시편을 제작하는 단계;상기 시편에 3차원 식각구조물층을 형성하기 위해 다방향 경사 플라즈마 식각을 수행하는 단계;상기 다방향 경사 플라즈마 식각 부위에 금속이 충진되도록 도금하는 단계; 금속층에서 과도금된 부분과 상기 SiO2 마스크를 제거하는 단계; 및상기 시편 표면에서 3차원 식각구조물층인 금속을 제외한 부분을 제거하는 단계를 포함하는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 다방향 경사 플라즈마 식각 단계는, 파라데이 상자(Faraday cage)를 이용하여 상기 시편에 다방향 경사 플라즈마 식각을 수행하는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 다방향 경사 플라즈마 식각 단계는 이온 조사 방향 변경 또는 상기 이온 조사 방향 변경과 상기 시편을 회전시켜 실시하는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 금속 도금 단계는 무전해 도금법에 의해 실시하는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 금속층에서 과도금된 부분의 제거와 상기 SiO2 마스크의 제거는 화학적 기계 연마를 통해 실시하는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 금속층은 구리(Cu), W(텅스텐), Co(코발트), Ag(은), Au(금), Pt(백금) 및 Ni(니켈) 중 어느 하나가 적용되는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
7 7
제2항에 있어서,상기 다방향 경사 플라즈마 식각 단계는, 상기 파라데이 상자 내에 시편의 높이를 조절하여 이온의 포커싱 포인트에 따른 식각 형상을 제어하는 3차원 형태의 구리 나노구조물 형성 방법
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US09139914 US 미국 FAMILY
2 US20150037597 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2015037597 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9139914 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 아주대학교 중견연구자지원 3차원 고종횡비 미세구조물의 템플릿리스 직접 패터닝을 위한 다방향 경사 플라즈마 식각