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탄소나노판 복합체 제조방법

  • 기술번호 : KST2015189264
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄소나노판 복합체에 관한 것으로서, 구체적으로는 그래핀 산화물 또는 그래핀인 탄소나노판을 재료로 하여 이를 화학적, 물리적으로 분산시킨 다음에 분산체를 이용하여 복합체 소재에 복합화시켜 제조되는 탄소나노판 복합체에 관한 것이다.본 발명은 아직 개발이 되지 않고 있는 탄소나노판인 그래핀산화물이나 그래핀을 원료로 하여 이를 물리적 화학적 처리방법에 의해 분산한 후 이를 복합체 소재에 복합화시킴으로써 산업적으로 다양한 용도로 활용될 수 있는 탄소나노판 복합체를 제공할 수 있다.탄소나노판, 그래핀, 그래핀산화물, 분산, 복합
Int. CL B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/0095(2013.01)
출원번호/일자 1020090073916 (2009.08.11)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1614318-0000 (2016.04.15)
공개번호/일자 10-2011-0016289 (2011.02.17) 문서열기
공고번호/일자 (20160422) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.08.11)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조성광 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, 가산더블유센터) ****호(지본특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.08.11 수리 (Accepted) 1-1-2009-0490196-57
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.08.11 수리 (Accepted) 1-1-2014-0756071-83
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5118645-79
4 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2014.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0961970-67
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0560842-16
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0038235-10
8 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2015.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0560561-92
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0513064-67
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0945699-57
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0945740-32
12 등록결정서
Decision to grant
2016.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0043751-14
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 탄소층간화합물에 마이크로웨이브를 조사하여 팽창시킨 후 화학적 산화반응을 통하여 박리시켜 탄소나노판을 제조하는 단계;(b) 상기 탄소나노판을 분산용매에 화학적 또는 물리적으로 분산시키고 폴리머 및 계면활성제를 첨가하여 복합체를 형성시키는 단계;(c) 상기 복합체에 대한 건조 및 열처리 단계; 를 포함하는 탄소나노판 복합체 제조방법
2 2
제1항에서,상기 (b)단계는 상기 분산용매에 유기화합물을 첨가하여 분산시키는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체 제조방법
3 3
제1항에서,상기 (b)단계는 상기 분산용매를 탄소나노판 100중량에 대해 50~10,000,000중량의 비율로 혼합하고, 상기 폴리머를 상기 탄소나노판 100중량에 대해 1~50,000중량의 비율로 첨가하고, 상기 계면활성제를 상기 탄소나노판 100중량에 대해 0
4 4
제1항에서,상기 분산용매는 물, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 에틸렌 글리콜, 폴리 에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드, 메틸렌클로라이드, 디에틸렌 글리콜 메틸 에틸 에테르(diehthylene glycol methyl ethyl ether), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 혼합용매로서 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체, 공용매, 아마이드 계열의 N,N-디메틸포름아마이드(N,N-dimethylformamide, DMF), N-메틸피롤리돈(N-methylpyrrolidone,NMP), 수산화암모늄 염산(NH2OH)(HCl)수용액, 알파-테피놀(Terpinol),클로로포름(chloroform), 메틸에틸키톤(methyl ethyl ketone), 포름산(formic acid), 니트로에탄(nitroethane)BBB, 2-에톡시 에탄올(2-ethoxy ethanol), 2-methoxy ethanol, 2-부톡시 에탄올(2-butoxy ethanol), 2-메톡시 프로판올(2-methoxy propanol), 에틸렌 글리콜, 아세톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 폴리에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나 프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드, 메틸렌클로라, 2-메톡시 에탄올(2-methoxy ethanol), 감마-부티로락톤(γ-Butyrolactone, GBL), 벤질 벤조에이트(Benzyl Benzoate), 1-메틸-2-피롤리디논(1-Methyl-2-pyrrolidinone, NMP), N,N-Dimethylacetamide (DMA), 1,3-Dimethyl-2-Imidazolidinone (DMEU), 1-Vinyl-2-pyrrolidone (NVP), 1-Dodecyl-2-pyrrolidinone (N12P), N,N-Dimethylformamide (DMF), Dimethyl sulfoxide (DMSO), Isopropoanol (IPA), 1-Octyl-2-pyrrolidone (N8P) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체 제조방법
5 5
제1항에서,상기 폴리머는 폴리 파라-페닐렌비닐렌(poly para-phenylenevinylene, PPV), 폴리 파라-페닌렌비닐렌-CO-2,5-디옥토시-메타-페닐렌비닐렌(Poly para-phenlyenevinylene-co-2,5-dioctoxy-m-phenylenevinylene, PMPV)와 폴리 파라-페닐렌비닐렌(poly para-phenylenevinylene, PPV)의 공중합체(copolymer), PPE (poly aryleneethylene), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리메타메틸크릴레이트(PMMA), 폴리 히드록시 아미노 에테르(PHAE, Poly hydroxy amino ethers)와 폴리 플루오린-디옥탄(poly fluorine-dioctane), 폴리페닐아세틸렌(PPA, Polyphenylacetylene), 디엔에이(DNA), 알엔에이(RNA), 단백질, 폴리카보 실란(polycarbo silane)류, 폴리-테트라-부틸아크릴레이트(poly t-butyl acrylaate), 나일론 6중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체 제조방법
6 6
제1항에서,상기 계면활성제는 트리톤 엑스백(Triton X-100), 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드-폴리프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리비닐피롤, 폴리비닐알코올, 가넥스(Ganax), 전분, 단당류(monosaccharide), 다당류(polysaccharide), 도데실벤젠술폰산 나트륨(dodecyl benzene sulfate), 도데실벤젠설폰산나트륨 (sodium dodecyl benzene sulfonate, NaDDBS), 도데실설폰산나트륨(sodium dodecylsulfonate, SDS), 4-비닐벤조산 세실트리메틸암모늄 (cetyltrimethylammounium 4-vinylbenzoate), 파이렌계 유도체(pyrene derivatives), 검 아라빅(Gum Arabic, GA), 나피온(nafion) 및 이들의 혼합물, 리튬 도데실 설페이트(Lithium Dodecyl Sulfate, LDS), 세실트리메틸암묘늄클로라이드(Cetyltrimethyl Ammonium Chloride, CTAC), 도데실-트리메틸 암모늄브로마이드(Dodecyl-trimethyl Ammonium Bromide, DTAB), 펜타옥소에틸렌도실 에테르(Pentaoxoethylenedocyl ether), 덱스트린(polysaccharide, Dextrin), 폴리에틸렌옥사이드(Poly Ethylene Oxide), 검 아라빅(Gum Arabic, GA), 에틸렌 셀룰로오스(ethylene cellulose), BYK110, BYK410 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체 제조 방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서,상기 (b)단계는 고속 블레이딩법, 비즈볼법, 젯트밀법, 건식볼밀링, 습식볼밀링, 기계적분쇄법, 초음파법, 크라이오제닉법 중 어느 하나로 상기 탄소나노판을 분산용매에 분산시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체 제조방법
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