맞춤기술찾기

이전대상기술

3차원 광촉매 부품 제조 방법 및 3차원 광촉매 반응 장치

  • 기술번호 : KST2015189475
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원적인 광촉매 부품의 이용을 가능하게 하는 3차원 광촉매 부품의 제조 방법 및 3차원 광촉매 반응 장치에 관한 것이다. 본 발명은, 금속 및 합금으로 구성이 되는 선재의 표면을 양극산화하여, 그 표면에 균일한 산화물 나노세공 피막을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 광촉매 부품 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따라 제조된 광촉매 부품은, 광이 모재의 대부분의 표면을 조사되도록 하고 광촉매로서 기능할 보다 높은 비표면적을 제공함으로써 높은 광촉매 효율을 얻을 수 있다.
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) B01J 21/04 (2011.01) B01J 21/06 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC B01J 35/026(2013.01) B01J 35/026(2013.01) B01J 35/026(2013.01) B01J 35/026(2013.01) B01J 35/026(2013.01) B01J 35/026(2013.01) B01J 35/026(2013.01)
출원번호/일자 1020070018855 (2007.02.26)
출원인 한국세라믹기술원, 나노미래 주식회사
등록번호/일자 10-0925184-0000 (2009.10.29)
공개번호/일자 10-2008-0078962 (2008.08.29) 문서열기
공고번호/일자 (20091106) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.02.26)
심사청구항수 3

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
2 나노미래 주식회사 대한민국 경기도 화성시

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울 동작구
2 류도형 대한민국 서울 금천구
3 진은주 대한민국 서울 금천구
4 조광연 대한민국 서울 구로구
5 정찬영 대한민국 경기 안양시 동안구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 나노미래 주식회사 대한민국 경기도 화성시
2 한국세라믹기술원 대한민국 서울특별시 금천구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0163322-64
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.09.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.10.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0059736-43
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0583802-54
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2007-0950124-79
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0008620-53
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0008625-81
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2008-5044692-49
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0263611-58
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0499414-36
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2008-0584779-57
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2008-0647514-87
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0714031-97
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.11.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0792304-63
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.11.17 수리 (Accepted) 1-1-2008-0792305-19
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2008-5187618-45
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.02.17 수리 (Accepted) 4-1-2009-5030815-31
18 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2009.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0122032-49
19 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.05.18 수리 (Accepted) 1-1-2009-0295805-91
20 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.05.18 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2009-0295804-45
21 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0410354-11
22 등록결정서
Decision to grant
2009.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0362322-47
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2012-5088002-14
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
양극 산화 후 광촉매 활성을 갖는 티타늄(Ti), 텅스텐(W) 및 니오븀(Nb) 중에서 선택된 1종의 금속 또는 이를 포함하는 합금으로부터, 빛을 투과 할 수 있는 형태인 스프링 형태, 폼(foam) 형태 또는 망사 형태의 구조체를 형성하는 공정과; 구조체를 이루는 금속 또는 합금의 표면을 양극 산화하여 그 표면에 균일한 산화물 나노세공 피막을 형성하는 공정을 포함하는 3차원 광촉매 부품의 제조 방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서, 양극 산화 후 얻어진 나노세공 피막에 TiO2 나노입자 광촉매 또는 TiO2 나노튜브 광촉매를 담지하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 광촉매 부품의 제조 방법
6 6
삭제
7 7
알루미늄(Al) 또는 이를 포함하는 합금으로부터, 빛을 투과 할 수 있는 형태인 스프링 형태, 폼(foam) 형태 또는 망사 형태의 구조체를 형성하는 공정과; 구조체를 이루는 금속 또는 합금의 표면을 양극 산화하여 그 표면에 균일한 산화물 나노세공 피막을 형성하는 공정과 양극산화 후 얻어진 나노세공 피막에 TiO2 나노입자 광촉매 또는 TiO2 나노튜브 광촉매를 담지하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 광촉매 부품의 제조 방법
8 8
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.