1 |
1
액정 실리콘 표시소자에 있어서,하부 실리콘 기판;상기 하부 실리콘 기판과 대향하며 이격하도록 배치되는 상부 투광성 기판; 및상기 하부 실리콘 기판과 상기 상부 투광성 기판 사이에 배치되는 액정 구조물을 포함하되,상기 하부 실리콘 기판은표시소자를 동작시키는 구동 회로를 포함하는 회로층;상기 회로층 상에 배치되고 외부로부터 입사하는 광을 반사하는 반사층; 및상기 반사층 상에 위치하여 상기 반사층의 손상을 방지하는 보호막층을 포함하고,상기 액정 구조물은상기 하부 실리콘 기판과 접하는 고분자층; 및상기 고분자층 상에 배치되는 고분자 분산형 액정(PDLC)층을 포함하되,상기 하부 실리콘 기판 및 상기 상부 투광성 기판과 상기 액정 구조물 사이에 별도의 배향막은 구비하지 않는액정 실리콘 표시소자
|
2 |
2
제1 항에 있어서,상기 고분자층은 상기 PDLC층과 상기 하부 실리콘 기판과의 계면에 액정이 존재하는 것을 방지하는 역할을 하는 액정 실리콘 표시소자
|
3 |
3
제1 항에 있어서,상기 보호막층은 상기 반사층 상에 1Å 내지 100Å의 두께를 가지도록 배치되는 산화물막 또는 질화물막인 액정 실리콘 표시소자
|
4 |
4
제1 항에 있어서,상기 상부 투광성 기판은 상기 상부 투광성 기판 상에 패터닝되는 투명 전극층을 포함하는액정 실리콘 표시소자
|
5 |
5
제4 항에 있어서,상기 상부 투광성 기판은 유리 또는 유연성 고분자 재질로 이루어지는 액정 실리콘 표시소자
|
6 |
6
액정 실리콘 표시소자의 제조 방법에 있어서,(a) 표시소자를 구동시키는 회로층을 포함하는 하부 실리콘 기판을 준비하는 단계;(b) 투명 전극층을 포함하는 상부 투광성 기판을 준비하는 단계;(c) 갭 조절 물질을 사용하여 상기 하부 실리콘 기판 및 상기 상부 투광성 기판이 소정의 간격으로 이격하도록 배치하는 단계;(d) 상기 이격된 간격에 의하여 상기 하부 실리콘 기판 및 상기 상부 투광성 기판 사이에 형성된 공간으로 액정과 고분자를 포함하는 고분자 액정 분산 조성물을 주입하는 단계; 및(e) 상기 고분자 액정 분산 조성물을 경화시켜 고분자층 및 고분자 분산형 액정(PDLC) 층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 하부 실리콘 기판 및 상기 상부 투광성 기판과 상기 액정 구조물 사이에는 별도의 배향막을 형성하지 않는액정 실리콘 표시소자의 제조 방법
|
7 |
7
제6 항에 있어서, 상기 고분자 액정 분산 조성물의 고분자는 2이상의 작용기를 가지는 다관능성 희석제, 가교제 및 광개시제를 포함하는 액정 실리콘 표시소자의 제조 방법
|
8 |
8
액정 실리콘 표시소자의 제조 방법에 있어서,(a) 표시소자를 구동시키는 회로층을 포함하는 하부 실리콘 기판을 준비하는 단계;(b) 투명 전극층을 포함하는 상부 투광성 기판을 준비하는 단계;(c) 상기 상부 투광성 기판 상에 액정과 고분자를 포함하는 고분자 액정 분산 조성물을 도포하는 단계;(d) 상기 고분자 액정 분산 조성물을 경화시켜 상기 상부 투광성 기판 상에 고분자층 및 고분사 분산형 액정(PDLC) 층을 형성하는 단계; 및 (e) 상기 상부 투광성 기판 상의 상기 고분자층과 상기 하부 실리콘 기판 기판을 접합하는 단계를 포함하되,상기 하부 실리콘 기판 및 상기 상부 투광성 기판과 상기 액정 구조물 사이에는 별도의 배향막을 형성하지 않는액정 실리콘 표시소자의 제조 방법
|
9 |
9
액정 실리콘 표시소자의 제조 방법에 있어서,(a) 표시소자를 구동시키는 회로층을 포함하는 하부 실리콘 기판을 준비하는 단계;(b) 투명 전극층을 포함하는 상부 투광성 기판을 준비하는 단계;(c) 고분자 분산형 액정층을 형성하기 위한 예비 기판을 준비하는 단계;(c) 갭 조절 물질을 사용하여 상기 상부 투광성 기판을 상기 예비 기판과 소정의 간격으로 이격하도록 배치하는 단계;(d) 상기 이격된 간격에 의하여 상기 상부 투광성 기판 및 상기 예비 기판 사이에 형성된 공간으로 액정과 고분자를 포함하는 고분자 액정 분산 조성물을 주입하는 단계; 및(e) 상기 고분자 액정 분산 조성물을 경화시켜 상기 상부 투광성 기판 및 상기 예비 기판 사이에 고분자층 및 고분자 분산형 액정(PDLC) 층을 가지는 중간 구조물을 형성하는 단계;(f) 상기 중간 구조물로부터 상기 예비 기판을 제거하고, 상기 예비 기판이 제거된 위치에 상기 하부 실리콘 기판을 접착하는 단계를 포함하는 액정 실리콘 표시소자의 제조 방법
|
10 |
10
액정 실리콘 표시소자의 제조 방법에 있어서,(a) 표시소자를 구동시키는 회로층을 포함하는 하부 실리콘 기판을 준비하는 단계;(b) 투명 전극층을 포함하는 상부 투광성 기판을 준비하는 단계;(c) 고분자 분산형 액정층을 형성하기 위한 예비 기판을 준비하는 단계;(d) 상기 예비 기판 상에 액정과 고분자를 포함하는 고분자 액정 분산 조성물을 도포하는 단계;(d) 상기 고분자 액정 분산 조성물을 경화시켜 상기 예비 기판 상에 고분자층 및 고분자 분산형 액정(PDLC) 층을 형성하는 단계; (f) 상기 예비 기판과 상기 상부 투광성 기판을 접합시켜 중간 구조물을 형성하는 단계;(g) 상기 중간 구조물로부터 상기 예비 기판을 제거하고, 상기 예비 기판이 제거된 위치에 상기 하부 실리콘 기판을 접착하는 단계를 포함하는 액정 실리콘 표시소자의 제조 방법
|
11 |
11
제6 항 내지 제10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 액정 분산 조성물을 경화시키는 공정은,저전력의 자외선 램프 가열에 통하여, 상기 고분자 액정 분산 조성물로부터 상기 고분자층을 형성하는 단계; 및고전력의 자외선 램프 가열을 통하여, 상기 고분자 액정 분산 조성물로부터 상기 PLDC층을 형성하는 단계를 포함하는액정 실리콘 표시소자의 제조 방법
|