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방사선 분광기 분석기용 결정의 벤딩 장치로서,
복수개의 관통홀(4)이 형성된 거울 배면(1);
상기 거울 배면(1)을 고정하기 위한 어댑터(2);
상기 어댑터에 연결된 덕트(duct; 3); 및
상기 덕트(3)에 연결된 진공펌프(20);를 포함하며,
상기 어댑터의 중심부는 개방되어 관통되어 있으며,
상기 거울 배면(1)에 형성된 복수개의 관통홀은 상기 어댑터(2)의 개방된 관통부 및 진공용 덕트(3)를 통하여 진공펌프와 연결되어, 상기 복수개의 관통홀과 진공펌프 사이에서 유체이동이 가능한 경로가 형성되어 있으며,
상기 거울 배면은 소정의 곡률반경만큼 오목 곡면이 형성된 오목면이며;
상기 오목면에 결정이 벤딩되도록 하는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 거울 배면(1)은 구리, 철, 알루미늄, 및 유리로 이루어진 군에서 선택된 1종에 의하여 형성된 것임을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 상기 거울의 배면(1) 및 어댑터(2)에는 냉각용 유체의 순환시킬 수 있는 냉각 수단(6)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 상기 어댑터의 일면은 상기 거울 배면쪽에 연결되어 상기 어댑터의 개방된 중심부가 복수개의 관통홀 쪽에 면하도록 배치되며, 상기 어댑터의 개방된 중심부의 다른 일면은 상기 덕트와 연결되는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 상기 어댑터에서 상기 거울 배면쪽 결합부와 상기 거울 배면 사이에는 밀폐용 O-링이 비치되어 있는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 거울 배면에는 상기 관통홀이 일정간격으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 거울 배면에서 상기 관통홀은 상기 거울 배면의 중심점을 기준으로 방사상으로 대칭되도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 상기 관통홀은 거울 배면의 테두리로부터 5 내지 20mm 안쪽의 영역에서부터 거울 배면의 중심쪽으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 상기 관통홀의 수는 20 ~ 500 개인 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항에 있어서, 상기 관통홀의 지름은 0
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제 1항에 있어서, 상기 거울 배면은 원형인 것을 특징으로 하는 벤딩 장치
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제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 의한 벤딩 장치의 거울 배면에 판 형태의 결정이 배치된 방사선 분광 분석기용 결정 거울(crystal mirror)
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제 12항에 있어서, 상기 방사선은 X-선인 것을 특징으로 하는 결정 거울
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제 12항에 있어서, 상기 벤딩 장치의 진공 펌프에 의하여 진공이 인가되면 상기 진공에 의한 흡인력으로 인하여 상기 결정이 상기 벤딩 장치에 흡착되어 결정이 벤딩되는 것을 특징으로 하는 결정 거울
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제 12항에 있어서, 상기 결정의 표면에는 방사선 손상 방지용 코팅이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 결정 거울
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제 15항에 있어서, 상기 코팅은 알루미늄, 보론, 또는 베릴륨에 의하여 형성된 것임을 특징으로 하는 결정 거울
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제 13항에 있어서, 상기 결정은 운모 결정, 석영 결정, SHA결정 및 TIAP 결정으로 이루어진 군에서 선택된 것임을 특징으로 하는 결정 거울
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제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 의한 벤딩 장치의 거울 배면에 판 형태의 결정을 배치하고, 상기 벤딩 장치의 진공 펌프에 진공을 인가하여 상기 진공에 의한 흡인력에 의하여 결정이 상기 벤딩 장치에 흡착되어 벤딩되도록 하는 결정의 벤딩 방법
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X-선 발생기, 구면으로 벤딩된 결정, X-선 검출기를 포함하는 X-선 분광 분석기에 있어서,
상기 구면으로 벤딩된 결정은, 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 의한 벤딩 장치의 거울 배면에 판 형태의 결정을 배치하고, 상기 벤딩 장치의 진공 펌프에 진공을 인가하여 상기 결정이 상기 벤딩 장치에 흡착되어 벤딩되도록 한 것임을 특징으로 하는 X-선 분광 분석기
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