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환상형 타겟 마그네트론 스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2015199253
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 환상형 타겟 마그네트론 스퍼터링 장치에 관한 것으로, 증착하고자 하는 대상이 되는 기판과, 상기 기판에 증착하고자 하는 물질로 이루어진 타겟에서 원자를 방출하여 기판에 박막을 증착시키는 마그네트론 스퍼터링 장치에 있어서, 상기 타겟은 원통 형상 또는 다수의 타겟이 서로 마주보게 설치되고, 상기 타겟의 외주면에 서로 다른 극성을 가지고 구비되는 마그네트, 상기 기판은 상기 타겟의 개방부로 박막 증착을 위해 설치되며, 상기 타겟과 기판으로 전압을 인가하여 타겟의 내측으로 플라즈마 생성을 위해 플라즈마 생성수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 낮은 압력에서도 고밀도 플라즈마를 발생할 수 있어서 증착율의 향상 및 고품질의 박막을 증착시키고, 고에너지 입자들에 의한 박막의 손상을 방지하며, 2차 전자에 의한 기판 온도 상승을 방지할 수 있어 기판 선택의 제약이 없는 이점이 있다. 환상형, 스퍼터링, 마그네트론, 플라즈마, 타겟
Int. CL H01L 21/203 (2006.01)
CPC H01J 37/345(2013.01) H01J 37/345(2013.01)
출원번호/일자 1020080106394 (2008.10.29)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1105842-0000 (2012.01.06)
공개번호/일자 10-2010-0047481 (2010.05.10) 문서열기
공고번호/일자 (20120118) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.10.29)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김영우 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 김용현 대한민국 경기도 안양시 만안구
3 윤정식 대한민국 대전광역시 동구
4 이봉주 대한민국 대전광역시 유성구
5 유석재 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-0751276-77
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0058116-71
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.09.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0418003-58
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0762319-58
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.11.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0762320-05
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2011.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0286094-18
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-0581622-77
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0581621-21
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.21 수리 (Accepted) 4-1-2011-5212108-42
11 등록결정서
Decision to grant
2011.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0727448-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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증착하고자 하는 대상이 되는 기판과, 상기 기판에 증착하고자 하는 물질로 이루어진 타겟에서 원자를 방출하여 기판에 박막을 증착시키는 마그네트론 스퍼터링 장치에 있어서, 상기 타겟은 다수의 타겟이 서로 마주보게 설치되어 상기 타겟의 공간부를 통해 2차 전자들을 구속되도록 구성하고, 상기 타겟의 외주면 서로 다른 극성을 가지고 구비되는 마그네트; 상기 기판은 상기 타겟의 개방부로 박막 증착을 위해 설치되며, 상기 타겟과 기판으로 전압을 인가하여 타겟의 내측으로 플라즈마 생성을 위해 플라즈마 생성수단;을 포함하고, 상기 기판은 상기 타겟의 양측 개방부에 각각 설치되며, 상기 마그네트는 서로 다른 극성을 가지고 상기 타겟 외주면으로 적어도 2개 이상 구비되어 복층의 플라즈마를 형성하여 코스퍼터링(co-sputtering) 가능하고, 상기 마그네트는 서로 다른 극성을 가지는 마그네트가 상기 타겟의 단부에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 환상형 타겟 마그네트론 스퍼터링 장치
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국가 R&D 정보가 없습니다.