요약 | 본 발명은 양자점 형성방법에 관한 것으로, 기판상에 제1고분자막과 제2고분자막이 결합된 블럭공중합체로 이루어진 희생막을 형성하는 단계; 상기 희생막에서 상기 제1고분자막을 선택적으로 제거하여 희생패턴을 형성하는 단계; 상기 희생패턴 사이를 매립하도록 물질막을 증착하는 단계; 및 상기 희생패턴을 제거하는 단계를 포함하고 있으며, 상술한 본 발명에 따르면, 자기조립구조를 갖는 블럭공중합체를 이용하여 양자점을 형성함으로써, 수~수십 나노미터의 선폭을 갖는 양자점을 전 기판에서 균일한 크기 및 형상을 갖도록 형성할 수 있으며, 결과적으로 양자점 형성공정시 재현성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 블럭공중합체, 양자점, 고분자 |
---|---|
Int. CL | H01L 21/20 (2006.01) |
CPC | H01L 21/02601(2013.01) H01L 21/02601(2013.01) H01L 21/02601(2013.01) H01L 21/02601(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020090117398 (2009.11.30) |
출원인 | 한국기초과학지원연구원 |
등록번호/일자 | 10-1175325-0000 (2012.08.13) |
공개번호/일자 | 10-2011-0020703 (2011.03.03) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20120820) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 |
대한민국 | 1020090078385 | 2009.08.24
|
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | 1020110094274;1020110094287; |
심사청구여부/일자 | Y (2009.11.30) |
심사청구항수 | 7 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기초과학지원연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이봉주 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 유석재 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
3 | 김영우 | 대한민국 | 경기도 용인시 기흥구 |
4 | 김대철 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
5 | 오경숙 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
6 | 최성웅 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인다인 | 대한민국 | 경기도 화성시 동탄기흥로*** 더퍼스트타워쓰리제**층 제****호, 제****-*호 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기초과학지원연구원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.11.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0739866-57 |
2 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2010.02.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0089028-13 |
3 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.08.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0500983-77 |
4 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.03.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.04.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0034095-83 |
6 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.04.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0206907-80 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.06.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0468019-82 |
8 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.07.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0552540-52 |
9 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2011.08.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0640614-29 |
10 | [분할출원]특허출원서 [Divisional Application] Patent Application |
2011.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0727872-54 |
11 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.09.19 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0726520-20 |
12 | [분할출원]특허출원서 [Divisional Application] Patent Application |
2011.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0727850-50 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0726519-84 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.10.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5212108-42 |
15 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.11.08 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0653513-67 |
16 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2012.01.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0021743-48 |
17 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.02.08 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0102342-76 |
18 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.02.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0102341-20 |
19 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.07.02 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0382053-11 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2012.08.31 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5184293-13 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2012.08.31 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5184331-50 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5058386-17 |
23 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5058545-81 |
24 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5135881-88 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 기판상에 제1고분자막과 제2고분자막이 결합된 블럭공중합체 박막을 형성하는 단계;상기 블럭공중합체 박막에서 상기 제1고분자막을 선택적으로 제거하여 제2고분자막 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제2고분자막 패턴 사이를 매립하는 양자점용 물질막을 증착하는 단계를 포함하며, 상기 블럭공중합체 박막을 형성하는 단계는 상온 내지 300℃ 범위의 온도에서 실시하는 양자점 형성방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 블럭공중합체 박막을 형성하는 단계는, 상기 제1고분자막과 상기 제2고분자막이 상호 반복되는 기둥형태의 매트릭스 배열을 갖도록 형성하는 양자점 형성방법 |
3 |
3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1고분자막 및 상기 제2고분자막은 폴리스틸렌(PS), 폴리카본에스테르(PC), 폴리메틸메타크릴레이드(PMMA), 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리이미드(PI), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에스테르(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부타디엔(PB), 폴리에틸렌프로필렌(PEP), 폴리4비닐피리딘(P4VP), 폴리비닐피리딘(PVP), 폴리이소플렌(PI) 및 폴리시나모일에틸메타에크릴에트(PCEMA)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나를 포함하는 양자점 형성방법 |
4 |
4 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 블럭공중합체 박막은 폴리스틸렌-블럭-폴리메틸메타크릴레이드(PS-b-PMMA), 폴리메틸스틸렌-블럭-폴리하이드록시스틸렌(PMS-b-PHOST), 폴리스틸렌-블럭-폴리에틸렌프로필렌(PS-b-PEP), 폴리스틸렌-블럭-폴리이소플렌(PS-b-PI), 폴리스틸렌-블럭-폴리부타디엔(PS-b-PBD), 폴리스틸렌-블럭-폴리4비닐피리딘(PS-b-P4VP), 폴리스틸렌-블럭-폴리시나모일에틸메타에크릴에트(PS-b-PCEMA) 및 폴리스틸렌-블럭-폴리에테르설폰(PS-b-PFS)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나를 포함하는 양자점 형성방법 |
5 |
5 제2항에 있어서, 상기 제1고분자막은 폴리메틸메타크릴레이드(PMMA)를 포함하고, 상기 제2고분자막은 폴리스틸렌(PS)를 포함하며, 상기 블럭공중합체 박막은 폴리스틸렌-블럭-폴리메틸메타크릴레이드(PS-b-PMMA)를 포함하는 양자점 형성방법 |
6 |
6 삭제 |
7 |
7 제1항에 있어서, 상기 물질막을 증착하는 단계 후, 상기 제2고분자막 패턴을 습식식각법, 건식식각법, 산소 플라즈마 처리법 및 자외선방사법으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 한 방법을 사용하여 제거하는 단계를 더 포함하는 양자점 형성방법 |
8 |
8 제1항에 있어서, 상기 제1고분자막을 선택적으로 제거하기 이전에, 플라즈마 처리를 실시하여 상기 제2고분자막이 상기 제1고분자막 보다 큰 경도를 갖도록 경화시키는 단계를 더 포함하는 양자점 형성방법 |
9 |
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10 |
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지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | KR101163979 | KR | 대한민국 | FAMILY |
2 | KR101163980 | KR | 대한민국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | KR101163979 | KR | 대한민국 | DOCDBFAMILY |
2 | KR101163980 | KR | 대한민국 | DOCDBFAMILY |
3 | KR20110120256 | KR | 대한민국 | DOCDBFAMILY |
4 | KR20110120257 | KR | 대한민국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-1175325-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20091130 출원 번호 : 1020090117398 공고 연월일 : 20120820 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120702 청구범위의 항수 : 7 유별 : H01L 21/20 발명의 명칭 : 양자점 형성방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 159,000 원 | 2012년 08월 14일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 135,800 원 | 2015년 07월 02일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 135,800 원 | 2016년 07월 04일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 135,800 원 | 2017년 06월 29일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 183,000 원 | 2018년 06월 27일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 183,000 원 | 2019년 06월 26일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.11.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0739866-57 |
2 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2010.02.10 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0089028-13 |
3 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.08.03 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0500983-77 |
4 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.03.14 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
5 | 선행기술조사보고서 | 2011.04.15 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0034095-83 |
6 | 의견제출통지서 | 2011.04.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0206907-80 |
7 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.06.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0468019-82 |
8 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.07.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0552540-52 |
9 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2011.08.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0640614-29 |
10 | [분할출원]특허출원서 | 2011.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0727872-54 |
11 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.09.19 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0726520-20 |
12 | [분할출원]특허출원서 | 2011.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0727850-50 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.09.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0726519-84 |
14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.10.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5212108-42 |
15 | 의견제출통지서 | 2011.11.08 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0653513-67 |
16 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2012.01.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0021743-48 |
17 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.02.08 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0102342-76 |
18 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.02.08 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0102341-20 |
19 | 등록결정서 | 2012.07.02 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0382053-11 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2012.08.31 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5184293-13 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2012.08.31 | 수리 (Accepted) | 4-1-2012-5184331-50 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5058386-17 |
23 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5058545-81 |
24 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5135881-88 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345095967 |
---|---|
세부과제번호 | EN2921 |
연구과제명 | 플라즈마를활용한융ㆍ복합연구인프라구축사업 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 국가핵융합연구소 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200901~200912 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | ET(환경기술) |
과제고유번호 | 1415099408 |
---|---|
세부과제번호 | KI002182 |
연구과제명 | 차세대디스플레이용TFT백플레인기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국디스플레이연구조합 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200903~201302 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1345095967 |
---|---|
세부과제번호 | EN2921 |
연구과제명 | 플라즈마를활용한융ㆍ복합연구인프라구축사업 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 국가핵융합연구소 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200901~200912 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | ET(환경기술) |
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