[KST2014059595][한국광기술원] |
선택적 에칭층을 구비하는 발광다이오드 및 그 제조방법 |
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[KST2015200483][한국광기술원] |
질화물계 반도체 발광소자의 제조 방법 |
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[KST2015200381][한국광기술원] |
패턴된 경사진 기판을 이용한 양자점 어레이 형성방법 |
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[KST2015200401][한국광기술원] |
초격자 구조를 가지는 질화물계 반도체 발광소자 |
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[KST2020007905][한국광기술원] |
스트레인 인가층을 포함하는 다중 파장 발광 소자 |
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[KST2015200477][한국광기술원] |
다중 파장을 가지는 발광다이오드 및 그 제조방법 |
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[KST2015200499][한국광기술원] |
3족 질화물 반도체 발광소자 |
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[KST2015200524][한국광기술원] |
질화물계 반도체 발광소자 및 그의 제조 방법 |
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[KST2015200737][한국광기술원] |
질화물계 발광소자 및 그의 제조방법 |
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[KST2018009613][한국광기술원] |
3족 질화물 반도체 발광소자 |
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[KST2018014501][한국광기술원] |
마이크로 LED 디스플레이 화소 조립체 및 이의 제조방법 |
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[KST2020010511][한국광기술원] |
반도체 발광소자 |
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[KST2014023524][한국광기술원] |
전기적 특성을 향상한 광자결정 발광 소자 및 제조방법 |
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[KST2015200482][한국광기술원] |
질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 |
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[KST2014002116][한국광기술원] |
실리콘 기판 3족 질화물계 적층구조를 가지는 발광다이오드 및 그 제작방법 |
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[KST2016013346][한국광기술원] |
질화물 반도체 발광소자(NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGH EMITTING DEVICE) |
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[KST2014058939][한국광기술원] |
질화물계 반도체 발광소자 및 그의 제조 방법 |
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[KST2015200818][한국광기술원] |
수직 구조 발광 다이오드 |
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[KST2015200788][한국광기술원] |
질화물 양자점을 갖는 소자 및 그 제조방법 |
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[KST2015226183][한국광기술원] |
GaN 박막을 포함한 이종 기판, 이의 제조방법, 이를 구비하는 발광 소자 및 이의 제조방법(Hetero-substrate having GaN thin film, manufacturing method thereof, light emitting device and manufactruing method thereof) |
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[KST2015200684][한국광기술원] |
질화물계 반도체 발광소자 |
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[KST2018000474][한국광기술원] |
고휘도 발광소자(high brighness LED) |
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[KST2014023535][한국광기술원] |
횡방향 전류 확산을 향상시킨 발광소자 및 제조 방법 |
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[KST2015200755][한국광기술원] |
응력 완화층을 구비한 질화물계 발광소자 및 이의 제조방법 |
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[KST2018006254][한국광기술원] |
마이크로 LED 디스플레이 화소 조립체 및 이의 제조방법(MICRO LED DISPLAY PIXEL ASSEMBLY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME) |
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[KST2015200800][한국광기술원] |
플라즈몬에 의한 발광효율이 개선된 발광소자 및 그 제조방법 |
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[KST2014022527][한국광기술원] |
매립형 레이저 다이오드 형성 방법 |
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[KST2015200458][한국광기술원] |
발광다이오드 및 이의 제조방법 |
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[KST2015200384][한국광기술원] |
다중 활성층을 갖는 반도체 발광소자 및 그의 제조방법 |
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[KST2019029914][한국광기술원] |
무반사층을 구비한 중적외선 발광 다이오드 |
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