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a) 근채류의 표피에 열을 가하여 근채류의 표피를 익히는 단계와;b) 근채류의 익은 표피에 외력을 가하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 a)단계에서 근채류의 표피는 스팀열에 의해 익혀지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 a)단계에서 근채류의 표피는 온수열에 의해 익혀지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 b)단계에서 근채류의 익은 표피에 고압수를 분사하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 b)단계에서 근채류의 익은 표피에 고압공기를 분사하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 b)단계에서 근채류의 익은 표피와 접한 상태에서 회전하는 브러쉬부재(260)를 통해 근채류의 익은 표피를 제거하는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 b)단계에서 표피가 익은 상태인 복수의 근채류를 서로 마찰시켜 근채류의 익은 표피를 제거하는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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제 1항에 있어서,상기 근채류는 고구마로 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피방법
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근채류의 표피를 가열하여 근채류의 표피를 익히는 표피가열부(10)와;근채류의 익은 표피에 외력을 가하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 표피박피부(20);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피가열부(10)는 근채류가 내부에 저장되는 저장부재(110)와;상기 저장부재(110)의 내부에 저장된 근채류의 표피로 스팀열을 가하기 위해 상기 저장부재(110)의 내부에 스팀열을 발생시키는 스팀열발생부재(120)와;상기 저장부재(110)의 내부에 저장된 표피가 익은 근채류를 상기 저장부재(110)의 외부로 배출하는 배출부재(140);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피가열부(10)는 근채류와 물이 저장되는 저장부재(110)와;상기 저장부재(110)의 내부에 저장된 근채류의 표피로 온수열을 가하기 위해 상기 저장부재(110)의 내부에 저장된 물을 가열하여 온수열을 발생시키는 온수열발생부재(130)와;상기 저장부재(110)의 내부에 저장된 표피가 익은 근채류를 상기 저장부재(110)의 외부로 배출하는 배출부재(140);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 10항 또는 제 11항에 있어서,상기 배출부재(140)는 상기 저장부재(110)의 내부에 구비되는 컨베이어(141)로 이루어지고,상기 컨베이어(141)는 상기 저장부재(110)의 일측에서 타측방향으로 갈수록 하향경사지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 10항 또는 제 11항에 있어서,상기 배출부재(140)는 상기 저장부재(110)의 내부에 구비되는 이송스크류(142)로 이루어지고,상기 이송스크류(142)는 상기 저장부재(110)의 일측에서 타측방향으로 갈수록 하향경사지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피박피부(20)는 상부면에 표피가 익혀진 근채류가 투입되는 투입구(211)가 형성되는 하우징(210)과;상기 하우징(210)의 내부에 수용되고, 상기 하우징(210)의 투입구(211)로 투입된 표피가 익혀진 근채류가 내부에 저장된 상태에서 회전하며, 표면에 다수의 다공(221)이 일정간격으로 형성되는 저장부재(220)와;상기 저장부재(220)의 내부에 저장된 근채류의 익은 표피에 고압수를 분사하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 고압수분사부재(230);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피박피부(20)는 상부면에 표피가 익혀진 근채류가 투입되는 투입구(211)가 형성되는 하우징(210)과;상기 하우징(210)의 내부에 수용되고, 상기 하우징(210)의 투입구(211)로 투입된 표피가 익혀진 근채류가 내부에 저장된 상태에서 회전하며, 표면에 다수의 다공(221)이 일정간격으로 형성되는 저장부재(220)와;상기 저장부재(220)의 내부에 저장된 근채류의 익은 표피에 고압공기를 분사하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 고압공기분사부재(240);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피박피부(20)는 상부면에 표피가 익혀진 근채류가 투입되는 투입구(211)가 형성되는 하우징(210)과;상기 하우징(210)의 내부에 수용되고, 상기 하우징(210)의 투입구(211)로 투입된 표피가 익혀진 근채류가 내부에 저장된 상태에서 회전하며, 표면에 다수의 다공(221)이 일정간격으로 형성되는 저장부재(220)와;상기 저장부재(220)의 내부에 저장된 근채류의 익은 표피와 접한 상태에서 회전하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 브러쉬부재(260);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피박피부(20)는 상부면에 형성된 투입구(211)를 통해 표피가 익혀진 근채류가 내부에 저장되는 하우징(210)과;상기 하우징(210)의 내부에 구비되어 회전하는 회전부재(250)와;상기 회전부재(250)의 외주면에 구비되고, 상기 하우징(210)의 내부에 저장된 근채류의 익은 표피와 접한 상태에서 상기 회전부재(250)를 따라 회전하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 브러쉬부재(260);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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18
제 9항에 있어서,상기 표피박피부(20)는 상부면에 형성된 투입구(211)를 통해 표피가 익혀진 근채류가 내부에 저장되는 하우징(210)과;상기 하우징(210)의 내부에 구비되고, 표면에 다수의 다공(252)이 일정간격으로 형성되며, 상기 하우징(210)의 내부에 저장된 근채류의 익은 표피와 접한 상태에서 회전하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 회전부재(250);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 17항 또는 제 18항에 있어서,상기 회전부재(250)는 상기 하우징(210)의 내부에 구비되는 이송스크류(251)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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제 9항에 있어서,상기 표피박피부(20)는 상부면에 표피가 익혀진 근채류가 투입되는 투입구(211)가 형성되는 하우징(210)과;상기 하우징(210)의 내부에 수용되고, 표면에 다수의 다공(221)이 형성되며, 상기 하우징(210)의 투입구(211)로 투입된 표피가 익혀진 근채류가 내부에 저장된 상태에서 회전하여 근채류의 익은 표피를 제거하는 저장부재(220);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 근채류의 표피 박피장치
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