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하기 화학식 2 내지 4 중 어느 하나로 표시되는 실록산 화합물:[화학식 2][화학식 3][화학식 4]상기 식에서,R11, R17, R19, R22 및 R25는 각각 독립적으로 -OCO-CH=CH-Ar, -NHCO-CH=CH-Ar, -NH(CH2)pNHCO-CH=CH-Ar 또는 -O(CH2CH2O)qCO-CH=CH-Ar을 나타내고,여기서 Ar은 메톡시, 메틸, 하이드록시, 다이메틸아미노, 트라이플루오로메틸, 플루오로, 클로로, 브로모, 나이트로 및 메틸렌다이옥시기로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 치환기로 치환되거나 비치환된 페닐기를 나타내며,m은 1 내지 200의 정수를 나타내고, n은 1 내지 20의 정수를 나타내며, p는 1 내지 4의 정수를 나타내고, q는 1 내지 100의 정수를 나타낸다
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제1항에 있어서화학식 2의 화합물은 화학식 2a로 표시되는 화합물인 화합물:[화학식 2a]상기 식에서,m은 1 내지 120의 정수이고,n은 1 내지 15의 정수를 나타낸다
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제1항에 있어서,화학식 3의 화합물은 R11 및 R22이 -OCO-CH=CH-Ar를 나타내고, 여기서 Ar은 메톡시, 메틸, 하이드록시, 다이메틸아미노, 트라이플루오로메틸, 플루오로, 클로로, 브로모, 나이트로 및 메틸렌다이옥시기로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 치환기로 치환되거나 비치환된 페닐기를 나타내며,m은 1 내지 200의 정수를 나타내는 화합물인 화합물
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제6항에 있어서,화학식 3의 화합물은 화학식 3a로 표시되는 화합물인 화합물:[화학식 3a]상기 식에서,n은 1 내지 100의 정수를 나타낸다
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제1항에 있어서,화학식 4의 화합물은 R17 및 R25는 -OCO-CH=CH-Ar이고,여기서 Ar은 메톡시, 메틸, 하이드록시, 다이메틸아미노, 트라이플루오로메틸, 플루오로, 클로로, 브로모, 나이트로 및 메틸렌다이옥시기로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 치환기로 치환되거나 비치환된 페닐기를 나타내는 화합물인 화합물
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제9항에 있어서,화학식 4의 화합물은 화학식 4a로 표시되는 화합물인 화합물:[화학식 4a]
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하기 화학식 5로 표시되는 신나모일기 함유 화합물과 하기 화학식 6의 실록산 화합물을 반응시키는 단계를 포함하는 제1항의 실록산 화합물의 제조방법:[화학식 5]Ar-CH=CH-CO-R[화학식 6]상기 식에서, R은 할로겐 또는 하이드록시이고,R31은 C1-4 알킬, C6-12 아릴 또는 -R39N(R40R41)2를 나타내고,여기서 R39 및 R40은 각각 독립적으로 C1-4 알킬렌을 나타내며, R41은 하이드록시, 아미노, -NH(CH2)pNH2, O(CH2CH2O)pH, 또는 에폭시기를 나타내고, R32 및 R33은 각각 독립적으로 C1-4 알킬 또는 -O-SiR42R43R44를 나타내며,여기서 R42 및 R43은 각각 독립적으로 C1-4 알킬을 나타내고,R44는 -R45-O-R46-R47을 나타내며,여기서 R45 및 R46은 각각 독립적으로 하이드록시로 치환되거나 비치환된 C1-4 알킬렌을 나타내고,R47은 하이드록시, 아미노, -NH(CH2)pNH2, -O(CH2CH2O)qH, 또는 에폭시기를 나타내며, R34 및 R35는 각각 독립적으로 C1-4 알킬 또는 -R48R49를 나타내고,여기서 R48은 C1-4 알킬렌을 나타내며, R49는 하이드록시, 아미노, -NH(CH2)pNH2, -O(CH2CH2O)qH, 또는 에폭시기를 나타내고, R36 및 R37은 각각 독립적으로 C1-4 알킬을 나타내며,R38은 C1-4 알킬, -R50N(R51R52)2, 또는 -R53-O-R54-R55를 나타내고,여기서 R50 및 R51은 각각 독립적으로 C1-4 알킬렌을 나타내며, R52는 하이드록시, 아미노, -NH(CH2)pNH2, -O(CH2CH2O)qH, 또는 에폭시기를 나타내고, R53 및 R54는 각각 독립적으로 하이드록시로 치환되거나 비치환된 C1-4 알킬렌을 나타내며,R55는 하이드록시, 아미노, -NH(CH2)pNH2, -O(CH2CH2O)qH, 또는 에폭시기를 나타내고, m은 1 내지 200의 정수를 나타내고, n은 0 내지 20의 정수를 나타내며, p는 1 내지 4의 정수를 나타내고, q는 1 내지 100의 정수를 나타낸다
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제11항에 있어서,화학식 6의 실록산 화합물이 하기 화학식 7 내지 9로 표시되는 화합물 중 어느 하나인 실록산 화합물의 제조방법:[화학식 7][화학식 8][화학식 9]상기 식에서,R49는 -OH, -NH2, -NHCH2CH2NH2, 또는 -O(CH2CH2O)qH이고, 여기서 q는 1 내지 100의 정수를 나타내고,m은 1 내지 200의 정수를 나타내며, n은 1 내지 20의 정수를 나타낸다
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제11항에 있어서,반응은 촉매 하에서 실시하는 실록산 화합물의 제조방법
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제13항에 있어서,촉매는 아민 화합물 또는 산 화합물인 실록산 화합물의 제조방법
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제14항에 있어서,촉매는 디메틸아미노피리딘, 피리딘, 트라이에틸아민, 황산, 또는 파라-톨루엔술폰산 중 어느 하나인 실록산 화합물의 제조방법
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제1항의 화합물이 가교결합된 중합체
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제1항의 화합물에 광을 조사하여 가교시키는 단계를 포함하는 가교결합된 중합체의 제조방법
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제16항의 중합체를 포함하는 보호코팅용 조성물
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기판; 및상기 기판 상에 형성된 제16항의 중합체 코팅층을 포함하는 복합체
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제1항의 화합물을 기판 상에 코팅하는 단계; 및상기 화합물에 광을 조사하여 가교시키는 단계를 포함하는 크랙을 치유하는 방법
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