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초저 반사율 구현을 위한 양면 나노 패터닝 공정 기술

  • 기술번호 : KST2015227707
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나방 눈(Moth eye) 구조의 돌출 및 함몰 형상 패턴이 반사 방지층의 양면에 구성되고, 한쪽 면은 포물선 모양의 돌기를 형성하고 다른 한쪽 면은 함몰형의 포물선 형상을 가지며, 패턴의 격자가 육각형의 배열을 갖도록 하여, 넓은 범위의 파장에서 우수한 반사 방지 특성을 가진 양면 나노 구조체의 제조방법을 제공하기 위한 것으로서, (A) 2차원 나노 구조를 갖는 투명몰드를 제작하는 단계와, (B) 상기 제작된 투명몰드를 준비된 기판에 접하고, 초근접광학 리소그래피(Near-field optical lithography)를 이용하여 UV량을 조절하여 노광하여 투명몰드에 형성된 2차원 나노 구조에 상응하는 포물선 나노 형상의 3차원 나노 구조가 생성된 임프린트용 스탬프를 제작하는 단계와, (C) 상기 제작된 임프린트용 스탬프를 필름의 상면 및 하면에 직접적으로 양면 열경화 임프린트 공정을 실시하여 필름의 상면 및 하면에 포물선 형상을 가지며 육각형 격자 배열의 나방 눈(Moth-eye) 형태인 허니컴(Honey comb) 구조를 갖는 양면 나노 구조체를 제작하는 단계를 포함하여 이루어지는데 있다.
Int. CL G02B 1/10 (2006.01) G02B 1/11 (2006.01)
CPC G02B 5/0221(2013.01) G02B 5/0221(2013.01) G02B 5/0221(2013.01) G02B 5/0221(2013.01)
출원번호/일자 1020130047442 (2013.04.29)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0138378 (2014.12.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.04.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정명영 대한민국 부산 금정구
2 김창석 대한민국 부산 남구
3 김소희 대한민국 대구 달서구
4 정은택 대한민국 부산 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정기택 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
2 오위환 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0376927-13
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-1094740-69
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0083903-15
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2014-0316423-53
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0427325-57
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2014-0530801-73
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0632108-10
9 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2014.07.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0112309-10
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0736398-38
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.08.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0736462-63
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.10.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0678250-98
13 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2014.11.03 수리 (Accepted) 7-1-2014-0041800-86
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(A) 2차원 나노 구조를 갖는 투명몰드를 제작하는 단계와,(B) 상기 제작된 투명몰드를 준비된 기판에 접하고, 초근접광학 리소그래피(Near-field optical lithography)를 이용하여 UV량을 조절하여 노광하여 투명몰드에 형성된 2차원 나노 구조에 상응하는 포물선 나노 형상의 3차원 나노 구조가 생성된 임프린트용 스탬프를 제작하는 단계와,(C) 상기 제작된 임프린트용 스탬프를 필름의 상면 및 하면에 직접적으로 양면 열경화 임프린트 공정을 실시하여 필름의 상면 및 하면에 포물선 형상을 가지며 육각형 격자 배열의 나방 눈(Moth-eye) 형태인 허니컴(Honey comb) 구조를 갖는 양면 나노 구조체를 제작하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 (A) 단계는실리콘 기판에 나노 패턴 형성용 마스킹을 위한 물질층인 레진 또는 레지스터를 포함하는 투광성 물질군에서 하나를 사용하여 코팅하는 단계와,전면에 전자빔, 스템퍼 리소그래피, 레이저 스캐너 중 어느 하나로 노광하여 선택적으로 패터닝을 수행하여 2차원 나노 구조를 갖는 마스터 몰드를 형성하는 단계와,상기 형성된 마스터 몰드를 템플릿으로 사용하여 투명몰드를 증착하고 경화시키는 단계와,상기 경화된 투명몰드를 마스터 몰드로부터 분리하여 2차원 나노구조가 형성된 투명몰드를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 투명몰드의 재질은 PDMS(polydimethylsiloxane), PUA(polyurethane acrylate), Ormostamp, PVA(poly-vinyl alcohol) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 제작되는 임프린트용 스탬프에 형성되는 3차원 나노 구조는 양면 열경화 임프린트 공정으로 포물선 형상을 가지며 육각형 격자 배열의 나방 눈(Moth-eye) 형태인 허니컴(Honey comb) 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 제작되는 임프린트용 스탬프에 형성되는 3차원 나노 구조는 돌출 또는 함몰 형상으로 제작되는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 양면 열경화 임프린트 공정은 유리전이온도 이상의 온도 및 압력을 가하여 임프린트를 진행하는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체에 제작된 나노 구조는 200nm ~ 400nm 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 초저 반사율을 갖는 양면 나노 구조체의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.