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(a) 부착성을 갖는 밀착성 고분자 기판 위에 복수의 입자를 압력을 가하여 상기 밀착성 고분자 기판 표면에 상기 복수의 입자에 각기 대응하는 복수의 오목부가 형성되도록 하면서 코팅하여 코팅막을 형성하는 단계;(b) 일면에 접착층이 마련된 접착 필름을 준비하고, 상기 접착층을 부분적으로 덮도록 상기 접착 필름에 인쇄층을 인쇄하는 단계; 및(c) 상기 인쇄층이 인쇄된 상기 접착 필름을 상기 코팅막에 접촉시켰다 떼어내어, 상기 코팅막을 형성하는 상기 복수의 입자 중 일부 입자를 상기 접착층의 상기 인쇄층으로 덮이지 않은 부분에 접착시켜 제거함으로써 상기 코팅막을 패터닝하는 단계;를 포함하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후,상기 코팅막이 형성된 상기 밀착성 고분자 기판을 노광시켜 상기 밀착성 고분자 기판과 패터닝된 상기 코팅막 사이의 결합력을 증가시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후,상기 밀착성 고분자 기판의 부착력보다 큰 부착력을 갖는 전사 기판에 패터닝된 상기 코팅막을 전사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 상기 복수의 입자를 문질러서 압력을 가하여 상기 밀착성 고분자 기판 위에 코팅하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 밀착성 고분자 기판은 실리콘 기반 고분자 물질, 랩, 표면 보호용 필름, 표면형상의 변형이 용이한 광택을 지닌 필름 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 밀착성 고분자 기판은 폴리메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리비닐클로라이드(polyvinylchloride, PVC) 중에서 적어도 하나의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 상기 복수의 입자는 상기 밀착성 고분자 기판에 직접 접촉하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 상기 코팅막은 상기 복수의 입자가 단층으로 코팅되어 이루어진 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 상기 복수의 입자가 비구형일 경우에는, 상기 복수의 입자 중 입경이 상위 10% 입자의 평균 입경에 대한 상기 코팅막 두께의 평균값의 비율이 1
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에서 상기 입자의 평균 입경에 대한 상기 오목부의 깊이 비율이 0
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 입자의 평균 입경이 10nm 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 밀착성 고분자 기판에는, 상기 밀착성 고분자 기판의 변형에 의해 상기 복수의 입자에 각각 대응하도록 복수의 오목부가 함몰되게 마련되며, 상기 복수의 오목부는 가역적인 상태로 마련되는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅방법
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 입자는 각각, 전하성 물질 및 비전하성 물질, 소수성 물질 및 친수성 물질 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 밀착성 고분자 기판의 표면에는 입체적인 3차원 구조의 패턴이 마련되는 것을 특징으로 하는 입자 코팅 기판
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(a) 밀착성 고분자 기판을 준비하는 준비 단계;(b) 상기 밀착성 고분자 기판 위에 복수의 제 1 입자를 압력을 가하여 상기 밀착성 고분자 기판 표면에 상기 복수의 제 1 입자에 각기 대응하는 복수의 제 1 오목부가 형성되도록 하면서 코팅하여 1차 코팅막을 형성하는 단계;(c) 일면에 접착층이 마련된 접착 필름을 준비하고, 상기 접착층을 부분적으로 덮도록 상기 접착 필름에 인쇄층을 인쇄하는 단계;(d) 상기 인쇄층이 인쇄된 상기 접착 필름을 상기 1차 코팅막에 접촉시켰다 떼어내어 상기 1차 코팅막을 형성하는 상기 복수의 제 1 입자 중 일부의 제 1 입자를 상기 접착층의 상기 인쇄층으로 덮이지 않은 부분에 접착시켜 제거함으로써 상기 1차 코팅막을 패터닝하는 단계;(e) 마스크 패턴이 형성된 마스크를 대고 상기 밀착성 고분자 기판을 향해 빛을 조사하여 상기 밀착성 고분자 기판 표면의 상기 복수의 제 1 입자가 코팅된 부분을 노광함으로써, 상기 밀착성 고분자 기판 표면의 상기 복수의 제 1 입자가 코팅된 부분의 부착력을 증가시키는 단계; 및(f) 상기 밀착성 고분자 기판의 빛이 조사되지 않은 비노광부 위에 복수의 제 2 입자를 압력을 가하여 상기 비노광부에 상기 복수의 제 2 입자에 각기 대응하는 복수의 제 2 오목부가 형성되도록 하면서 코팅하여 2차 코팅막을 형성하는 단계;를 포함하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 15 항에 있어서,상기 (f) 단계 이후,상기 밀착성 고분자 기판의 상기 2차 코팅막이 형성된 부분을 노광시켜 상기 밀착성 고분자 기판과 상기 2차 코팅막 사이의 결합력을 증가시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 15 항에 있어서,상기 (f) 단계 이후,상기 비노광부의 부착력보다 크고 상기 밀착성 고분자 기판의 빛이 조사된 노광부의 부착력보다 작은 부착력을 갖는 전사 기판에 상기 2차 코팅막을 전사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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제 15 항에 있어서,상기 (f) 단계 이후,상기 밀착성 고분자 기판의 빛이 조사된 노광부의 부착력보다 큰 부착력을 갖는 전사 기판에 상기 1차 코팅막 및 상기 2차 코팅막을 전사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 정렬을 이용한 코팅 방법
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