맞춤기술찾기

이전대상기술

적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅 장치

  • 기술번호 : KST2016004056
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스템프가 레진이 코팅된 웨이퍼 표면에 접촉하여 패턴을 전사할 때 웨이퍼척에 적층식으로 설치된 탄성체가 완충작용하면서 공기를 배출하여 스템프가 웨이퍼 표면에 균일하게 접촉되게 함으로써 불량 패턴이 성형되는 것을 방지하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치에 관한 것으로, 상기 스템프를 웨이퍼의 레진에 접촉시켜 패턴을 임프린팅 할 때 불균일 접촉현상을 줄일 수 있도록 상기 스템프와 대응되는 유니트치구에 표면형상이 다른 탄성체가 적층되며, 여기서, 상기 탄성체는 상,하부탄성체가 이중으로 적층되고, 패턴성형시 외측에서부터 중앙부분으로 점차 접촉되고 이 과정에서 공기가 배출될 수 있도록 하부탄성체는 상면부분이 중앙으로 갈수록 오목하게 처리된 오목면이 형성되고 그 중앙부분에 구멍이 관통되며, 상부탄성체는 하면이 중앙으로 갈수롤 볼록하게 처리된 볼록면을 갖는다.임프린팅, 스템프, 웨이퍼, 서브스트레이트, 전사, 패턴, 균일압
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020060137954 (2006.12.29)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0784827-0000 (2007.12.05)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20071214) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.12.29)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이재종 대한민국 대전 서구
2 이승우 대한민국 대전 유성구
3 한승우 대한민국 대전 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 강정만 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 ** *층(역삼동, 성보빌딩)(뉴서울국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2006-0982505-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.09.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.10.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0057997-06
4 등록결정서
Decision to grant
2007.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0625420-91
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
패턴이 형성된 스템프가 완충부재에 장착된 헤드; 상기 헤드와 대향되는 위치에 설치되고 그 상부에 설치된 유니트치구에 웨이퍼와 같은 임프린팅 대상물을 탑재하는 웨이퍼척;을 포함하며, 상기 헤드 또는 웨이퍼척이 이동하여 레진이 코팅된 웨이퍼에 패턴을 임프린팅하는 임프린팅장치에 있어서,상기 스템프를 웨이퍼의 레진에 접촉시켜 패턴을 임프린팅 할 때 불균일 접촉현상을 줄일 수 있도록 상기 스템프와 대응되는 유니트치구에 표면형상이 다른 탄성체가 적층되는 것을 특징으로 하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 탄성체는 상,하부탄성체가 이중으로 적층되고, 패턴성형시 외측에서부터 중앙부분으로 점차 접촉되고 이 과정에서 공기가 배출될 수 있도록 하부탄성체는 상면부분이 중앙으로 갈수록 오목하게 처리된 오목면이 형성되고 그 중앙부분에 구멍이 관통되며, 상부탄성체는 하면이 중앙으로 갈수롤 볼록하게 처리된 볼록면을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치
3 3
제 2항에 있어서, 상기 상,하부탄성체는 적층 조립위치를 안내할 수 있도록 접촉면 어느 일측에 수용홈이 형성되고, 타측에 상기 수용홈에 삽입되는 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치
4 4
제 2항에 있어서, 상기 상,하부탄성체의 재질은 탄성을 갖는 고무, 실리콘, 합성수지 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치
5 5
제 2항에 있어서, 상기 하부탄성체의 오목면은 상기 구멍을 중심으로 최외측에 하향으로 경사진 1차오목면이 형성되고, 상기 1차오목면과 연속된 내측에는 1차오목면보다 오목하게 더 경사진 2차오목면이 형성되고, 상기 2차오목면에서부터 구멍까지 1,2차오목면 사이에 해당하는 기울기를 갖는 3차오목면을 가지며,상기 상부탄성체의 볼록면은 상기 1차오목면과 접면할 수 있는 경사면을 갖는 1차볼록면이 형성되고, 상기 1차볼록면와 연속된 내측에는 1차볼록면보다 볼록하게 더 경사진 2차볼록면이 형성되고, 상기 2차볼록면 내측에는 1,2차볼록면 사이에 해당하는 기울기를 갖는 3차볼록면을 가진 것을 특징으로 하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치
6 6
제 2항에 있어서, 상기 하부탄성체는 복수 개가 얇은 두께를 가진 연결부재로 연결되는 것을 특징으로 하는 적층 탄성체를 이용한 스템프와 웨이퍼의 균일접촉 임프린팅장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.