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가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물 및 가스 하이드레이트 생성 억제 방법

  • 기술번호 : KST2016004354
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 가스 하이드레이트의 생성을 억제할 수 있는 이온성 액체 화합물 및 폴라카프로락탐을 포함하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 상기 조성물은 소량으로도 가스 하이드레이트의 가스 하이드레이트의 생성 반응 속도를 저하시켜 가스 하이드레이트의 생성 시간을 현저하게 지연시킬 수 있다.
Int. CL C09K 3/00 (2006.01) C08K 5/3415 (2006.01) C09K 8/52 (2006.01) C08L 39/04 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110113837 (2011.11.03)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1239201-0000 (2013.02.26)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130305) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.11.03)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강성필 대한민국 대전광역시 유성구
2 이동욱 대한민국 대전광역시 유성구
3 라호원 대한민국 대전광역시 유성구
4 김기섭 대한민국 서울특별시 강서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 안소영 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 (역삼동, 운기빌딩)(안소영국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.11.03 수리 (Accepted) 1-1-2011-0865973-60
2 [공지예외적용대상(신규성, 출원시의 특례)증명서류]서류제출서
[Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)] Submission of Document
2011.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2011-0956423-83
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5001923-88
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2012-0093550-18
6 등록결정서
Decision to grant
2013.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0122746-57
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5003356-15
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 화합물 중의 적어도 하나; 및하기 화학식 2로 표시되는 폴리비닐카프로락탐을 포함하는 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
2 2
제1항에 있어서, 상기 R1은 메틸, 에틸 또는 프로필이고 R2는 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 하이드록시메틸, 하이드록시에틸 또는 하이드록시프로필인 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
3 3
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 R1은 메틸이고 R2는 하이드록시메틸, 하이드록시에틸, 하이드록시프로필, 프로필, 부틸 또는 펜틸인 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
4 4
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 Y-가 Cl-또는 BF4-인 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
5 5
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 N-하이드록시에틸-N-메틸피롤리디늄 클로라이드, N-부틸-N-메틸피롤리디늄 테트라플루오로보레이트 및 N-하이드록시에틸-N-메틸피롤리디늄 테트라플루오로보레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 가스 하이드레이트 생성 억제용 조성물
6 6
하기 화학식 3 내지 5로 표시되는 화합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물; 및하기 화학식 2로 표시되는 폴리비닐카프로락탐을 포함하는 메탄 하이드레이트 생성 억제용 조성물
7 7
하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 폴리비닐카프로락탐을 사용하여 가스 하이드레이트 생성을 억제하는 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 화학식 3 내지 5로 표시되어지는 화합물 중 어느 하나인 것인 가스 하이드레이트 생성을 억제하는 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US09228075 US 미국 FAMILY
2 US20130112923 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2013112923 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9228075 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.