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굴곡진 표면을 갖는 제 1 기판;상기 굴곡진 표면을 컨포말하게 덮어, 굴곡진 상부를 갖는 제 1 도전막; 상기 제 1 도전막을 컨포말하게 덮어, 굴곡진 상부를 갖는 제 2 도전막; 및,상기 제 2 도전막을 덮는 제 2 기판을 포함하고, 상기 제 1 도전막과 상기 제 2 도전막 중 하나는 금속막이고, 다른 하나는 그래핀막인 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전막은 그래핀막이고, 상기 제 2 도전막은 금속막인 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전막은 금속막이고, 상기 제 2 도전막은 그래핀막인 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 금속막에 빛이 투과되는 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 금속막은 크랙을 포함하는 신축성 투명 전극
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제 2 항에 있어서,상기 제 2 도전막을 컨포말하게 덮는 제 3 도전막을 더 포함하되,상기 제 3 도전막은 그래핀막인 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 기판의 상기 굴곡진 표면은 볼록부들 및 오목부들을 포함하되,상기 볼록부들 및 상기 오목부들은 제 1 방향으로 교대로 그리고 반복적으로 배치되고, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 연장되는 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 기판의 상기 굴곡진 표면은 볼록부들 및 오목부들을 포함하되,상기 볼록부들 및 상기 오목부들은 제 1 방향 및 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 교대로 그리고 반복적으로 배치되는 신축성 투명 전극
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판은 폴리디메틸실록산(PDMS) 또는 폴리우레탄을 포함하는 신축성 투명 전극
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10
굴곡진 표면을 갖는 몰드 구조체를 형성하는 것;상기 몰드 구조체의 상기 굴곡진 표면 상에 고분자막을 형성하는 것;상기 고분자막을 상기 몰드 구조체로부터 분리하여, 굴곡진 표면을 갖는 제 1 기판을 형성하는 것;상기 제 1 기판의 상기 굴곡진 표면 상에 그래핀막을 컨포말하게 형성하는 것; 및상기 그래핀막 상에 금속막을 컨포말하게 형성하는 것을 포함하는 신축성 투명 전극의 제조 방법
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11
제 10 항에 있어서,상기 금속막 상에 제 2 기판을 형성하는 것을 더 포함하되,상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판은 폴리디메틸실록산(PDMS) 또는 폴리우레탄을 포함하는 신축성 투명 전극의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 금속막 상에 제 2 그래핀막을 컨포말하게 형성하는 것을 더 포함하는 신축성 투명전극의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 몰드 구조체를 형성하는 것은:모기판을 준비하는 것;상기 모기판을 패터닝하여, 트렌치들을 형성하는 것; 및상기 모기판 상에 상기 트렌치들을 채우는 포토레지스트막을 형성하는 것을 포함하되,상기 포토레지스트막은 상기 트렌치들의 바닥면들과 상기 트렌치들 사이에 배치된 상기 모기판의 돌출면들 간의 단차로 인하여 상기 트렌치들 상에 상기 포토레지스트막의 오목부들이 형성되고, 상기 모기판의 상기 돌출면들 상에 상기 포토레지스트막의 볼록부들이 형성되는 신축성 투명 전극의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 몰드 구조체를 형성하는 것은:모기판을 준비하는 것;상기 모기판 상에 포토레지스트막을 형성하는 것;상기 포토레지스트막을 패터닝하여, 각이 진 볼록부들과 각이 진 오목부들로 구성된 패턴을 형성하는 것; 및상기 포토레지스트막에 리플로우 공정을 수행하여, 상기 각이 진 볼록부들을 라운드 형태의 볼록부들로 변화시키고, 상기 각이 진 오목부들을 라운드 형태의 오목부들로 변화시켜, 굴곡진 표면을 갖는 포토레지스트막을 형성하는 것을 포함하는 신축성 투명 전극의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 몰드 구조체를 형성하는 것은:모기판을 준비하는 것;상기 모기판 상에 포토레지스트막을 형성하는 것; 및그레이스케일 포토마스크를 사용하여 상기 포토레지스트막에 라운드 형태로 굴곡지게 형성하는 것을 포함하는 신축성 투명 전극의 제조 방법
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